JPS61160701A - カラ−液晶表示装置のカラ−フイルタ層の形成方法 - Google Patents
カラ−液晶表示装置のカラ−フイルタ層の形成方法Info
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- JPS61160701A JPS61160701A JP60002570A JP257085A JPS61160701A JP S61160701 A JPS61160701 A JP S61160701A JP 60002570 A JP60002570 A JP 60002570A JP 257085 A JP257085 A JP 257085A JP S61160701 A JPS61160701 A JP S61160701A
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- Japan
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- anodized
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- dye
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
く技術分野〉
本発明は、カラー表示可能な液晶表示装置のカラーフィ
ルタ層の形成方法に関するものである。
ルタ層の形成方法に関するものである。
〈従来の技術〉
液晶を用いたカラー表示として種々の方式が提案されて
いる。その中で液晶パネルの内面にカラーフィルタ層を
形成したカラー液晶表示装置は、比較的に簡単な液晶パ
ネル構造を有し、かつ、プラス厚に起因する表示のずれ
がほとんどなく、良好な表示品位が得られるという特徴
を有する。
いる。その中で液晶パネルの内面にカラーフィルタ層を
形成したカラー液晶表示装置は、比較的に簡単な液晶パ
ネル構造を有し、かつ、プラス厚に起因する表示のずれ
がほとんどなく、良好な表示品位が得られるという特徴
を有する。
カラーフィルタ層形成の具体的な方法として、第1には
カラーインクとスクリーン印刷法などにより印刷する方
法(特開昭58−46326号)があり、第2には感光
性を付加したゼラチン、グリ七−,カゼイン等の水溶性
高分子膜をパターン化し、さらにホトプロセスによって
選択的に所定のパターンに染色するという方法(内面、
JAPAN [11SPLAY’83. P、202
〜205)がある。さらに、第3には有機顔料を所定の
パターンに蒸着する方法(ス〃り他、 JAPAN D
ISPLAY ’83. P、210〜212)があり
、また第4には電着により透明電極上にポリマーと色素
を付着させたカラーフィルタを形成する方法(スギツヤ
他、 JAPAN DISPLAY ’83. P、2
06〜209)力Iある。
カラーインクとスクリーン印刷法などにより印刷する方
法(特開昭58−46326号)があり、第2には感光
性を付加したゼラチン、グリ七−,カゼイン等の水溶性
高分子膜をパターン化し、さらにホトプロセスによって
選択的に所定のパターンに染色するという方法(内面、
JAPAN [11SPLAY’83. P、202
〜205)がある。さらに、第3には有機顔料を所定の
パターンに蒸着する方法(ス〃り他、 JAPAN D
ISPLAY ’83. P、210〜212)があり
、また第4には電着により透明電極上にポリマーと色素
を付着させたカラーフィルタを形成する方法(スギツヤ
他、 JAPAN DISPLAY ’83. P、2
06〜209)力Iある。
第1のスクリーン印刷、オフセット印刷などの印刷方法
では印刷で形成するための工程が簡単であり、かつ、価
格的に有利であるが、反面、印刷精度の点から問題があ
り、カラー液晶表示装置に要求される非常に微細なパタ
ーン(例えば100μ−程度までのドツトのピッチ)に
対し、この方法を適用することは困難である。第2のゼ
ラチンなどの水溶性高分子膜を酸性染料などで染色する
方法では、ホトレジストでマスキングし、選択的に染色
する必要があり、赤、緑、青の3色から成るカラーフィ
ルタでは上記工程を3回行なわねばならない、この方法
では、カラーフィルタとして色純度の優れたカラーフィ
ルタが得られ、また、微細なパターンから成るカラーフ
ィルタを作製することが可能であるが、反面、作製のコ
ストが高くなる6第3の有機顔料を蒸着により形成する
方法では、上記同様ホトプロセスを3回行なう必要があ
り、そのため、作製のコストが高くなり、また、この方
法では良好な顔料が見あたらず、色純度の優れたカラー
フィルタが得られない、第4の電着によりカラーフィル
タを形成する方法では、染料を分散させたポリエステル
−メラミン樹脂を水に溶かし、対向する電極間に直流電
圧を印加すると、透明電極上に染料が付着する。この方
法は、透明電極上にのみ染料が付着し、カラーフィルタ
が形成されるため、両者の位置ずれがほとんどないとい
う反面、電着用の染料として色純度の優れた染料がなく
、フルカラー表示を行なう上で問題があった。
では印刷で形成するための工程が簡単であり、かつ、価
格的に有利であるが、反面、印刷精度の点から問題があ
り、カラー液晶表示装置に要求される非常に微細なパタ
ーン(例えば100μ−程度までのドツトのピッチ)に
対し、この方法を適用することは困難である。第2のゼ
ラチンなどの水溶性高分子膜を酸性染料などで染色する
方法では、ホトレジストでマスキングし、選択的に染色
する必要があり、赤、緑、青の3色から成るカラーフィ
ルタでは上記工程を3回行なわねばならない、この方法
では、カラーフィルタとして色純度の優れたカラーフィ
ルタが得られ、また、微細なパターンから成るカラーフ
ィルタを作製することが可能であるが、反面、作製のコ
ストが高くなる6第3の有機顔料を蒸着により形成する
方法では、上記同様ホトプロセスを3回行なう必要があ
り、そのため、作製のコストが高くなり、また、この方
法では良好な顔料が見あたらず、色純度の優れたカラー
フィルタが得られない、第4の電着によりカラーフィル
タを形成する方法では、染料を分散させたポリエステル
−メラミン樹脂を水に溶かし、対向する電極間に直流電
圧を印加すると、透明電極上に染料が付着する。この方
法は、透明電極上にのみ染料が付着し、カラーフィルタ
が形成されるため、両者の位置ずれがほとんどないとい
う反面、電着用の染料として色純度の優れた染料がなく
、フルカラー表示を行なう上で問題があった。
〈発明の目的〉
そこで、本発明の目的は、赤、緑、青の微細パターンか
ら成るカラーフィルタ層を安価に、かつ、精度よく作製
する方法、すなわちホトプロセスによる染色処理を省略
でき、染色層と電極をセル77++: ライメントできて、信頼性の高い染色層を形成できる方
法を提供することにある。
ら成るカラーフィルタ層を安価に、かつ、精度よく作製
する方法、すなわちホトプロセスによる染色処理を省略
でき、染色層と電極をセル77++: ライメントできて、信頼性の高い染色層を形成できる方
法を提供することにある。
〈発明の構成〉
上記目的を達成するため、本発明の構成は、一方の透明
基板上にカラーフィルタ層を形成するカラー液晶表示装
置のカラーフィルタ層の形成法においで、透明電極上に
形成された金属薄膜を陽極酸化法により透明にし、その
あと、染料により、上記陽極酸化された金属薄膜を染色
し、そのあと、上記染色された金属薄膜に封孔処理を行
なうことを特徴としている。
基板上にカラーフィルタ層を形成するカラー液晶表示装
置のカラーフィルタ層の形成法においで、透明電極上に
形成された金属薄膜を陽極酸化法により透明にし、その
あと、染料により、上記陽極酸化された金属薄膜を染色
し、そのあと、上記染色された金属薄膜に封孔処理を行
なうことを特徴としている。
〈実施例〉
ガラス基板上に錫添加酸化インジウム(以下、TTOと
いう、)などの透明導電膜を形成し、さらに、その上に
陽極酸化しやすい金属薄膜を形成する。陽極酸化しやす
い金属としてAl15 MgtTa、Tiなどがあげら
れるが、陽極酸化によりポーラスな皮膜を得るにはA
I、 v M gなどが適切である。ITO上にA l
e M gなどの金属薄膜を形成したのち、両者を同
じパターンにエツチングする。まず、A乏の場合はリン
酸系のエツチング液によりエツチングし、またMgの場
合には、希塩酸によりエツチングを行なう、そのあと、
金属電極の下に設けられたITOを塩化第2鉄から成る
エツチング液でエツチングする。上記金属の陽極酸化用
電解液として、AIでは硫酸、シュウ酸、リン酸などの
2塩基酸を含む酸性水溶液が用いられる、またMgの場
合には、電解液として弱塩基性、弱塩基または7ツ化物
と重クロム酸塩を含むリン酸溶液が用いられる。上記ガ
ラス基板を陽極側にし、カーボン、鉄あるいはステンレ
ス鋼を陰極にし、直流あるいは交流を印加する。ITO
上の金属薄膜が完全に陽極酸化され、透明になった時点
で、次にその陽極酸化膜を染料によって染色する。陽極
酸化膜の染色には、酸性染料が用いられ、その中の代表
的な染料を次に示す。
いう、)などの透明導電膜を形成し、さらに、その上に
陽極酸化しやすい金属薄膜を形成する。陽極酸化しやす
い金属としてAl15 MgtTa、Tiなどがあげら
れるが、陽極酸化によりポーラスな皮膜を得るにはA
I、 v M gなどが適切である。ITO上にA l
e M gなどの金属薄膜を形成したのち、両者を同
じパターンにエツチングする。まず、A乏の場合はリン
酸系のエツチング液によりエツチングし、またMgの場
合には、希塩酸によりエツチングを行なう、そのあと、
金属電極の下に設けられたITOを塩化第2鉄から成る
エツチング液でエツチングする。上記金属の陽極酸化用
電解液として、AIでは硫酸、シュウ酸、リン酸などの
2塩基酸を含む酸性水溶液が用いられる、またMgの場
合には、電解液として弱塩基性、弱塩基または7ツ化物
と重クロム酸塩を含むリン酸溶液が用いられる。上記ガ
ラス基板を陽極側にし、カーボン、鉄あるいはステンレ
ス鋼を陰極にし、直流あるいは交流を印加する。ITO
上の金属薄膜が完全に陽極酸化され、透明になった時点
で、次にその陽極酸化膜を染料によって染色する。陽極
酸化膜の染色には、酸性染料が用いられ、その中の代表
的な染料を次に示す。
Ac1d Anthracene Red 5 BL
[日本色素製造(株)I Benzyl Fast B [CibalSumi
lan Violet Brown B [住友化学
工業(株)1 Palatine Fast Red RN [Ba
discheAnilin & 5oda Fabri
k A、 G、]Diacid Light Blue
2 A 180% [三菱化成工業(株)j Mitsui A11zarine 5aphirol
S E [三井東圧化学(株)] Nylo+aine Blue GS [I CI
]Mitsui A11zarine 5aphiro
l B [三井東圧化学(株)[ Solway Blue PEN [fCrlSol
wayBlueBN [ICIlDiacid A
11zarine Sky Blue B [三菱化
成工業(株)] Suminol Fast Sky Blue B
[住人化学工業(株)】 Sumilan Green BL [住人化学工業
(株)]Pa1aline Fast Green B
LN [BadischeAnilin & 5od
a Fabrik A、 G、lA11zarine
Cyanine Green G [(株)山田化学
研究所] Kayanol Cyanine Green G
[日本化薬(株)ISuminol Fast Cya
nine Green G cone[住人化学工業(
株)] 上記染料を純水に溶解し、七の染色液中にガラス基板を
浸漬する。陽極酸化膜の着色を行なったのも、陽極酸化
膜の活性状態を不活性化して安定な酸化膜とするために
封孔処理を行なう。その目的は防洗性の向上、着色皮膜
の安定化、耐光性の向上を図るためである。次に、各実
施例をあげて更に具体的に本発明を説明する。
[日本色素製造(株)I Benzyl Fast B [CibalSumi
lan Violet Brown B [住友化学
工業(株)1 Palatine Fast Red RN [Ba
discheAnilin & 5oda Fabri
k A、 G、]Diacid Light Blue
2 A 180% [三菱化成工業(株)j Mitsui A11zarine 5aphirol
S E [三井東圧化学(株)] Nylo+aine Blue GS [I CI
]Mitsui A11zarine 5aphiro
l B [三井東圧化学(株)[ Solway Blue PEN [fCrlSol
wayBlueBN [ICIlDiacid A
11zarine Sky Blue B [三菱化
成工業(株)] Suminol Fast Sky Blue B
[住人化学工業(株)】 Sumilan Green BL [住人化学工業
(株)]Pa1aline Fast Green B
LN [BadischeAnilin & 5od
a Fabrik A、 G、lA11zarine
Cyanine Green G [(株)山田化学
研究所] Kayanol Cyanine Green G
[日本化薬(株)ISuminol Fast Cya
nine Green G cone[住人化学工業(
株)] 上記染料を純水に溶解し、七の染色液中にガラス基板を
浸漬する。陽極酸化膜の着色を行なったのも、陽極酸化
膜の活性状態を不活性化して安定な酸化膜とするために
封孔処理を行なう。その目的は防洗性の向上、着色皮膜
の安定化、耐光性の向上を図るためである。次に、各実
施例をあげて更に具体的に本発明を説明する。
実施例1
ガラス基板上に透明電極としてITOを蒸着し、その上
に陽極酸化膜用A乏を蒸着する。TTOの蒸着条件は基
板温度350℃、真空度5xio−5Torr(3X
10 ’Torrまで0217−り)、蒸着速度2人
/seeであり、膜厚として(1000人を電子ビーム
により蒸着を行なう。引きつづきAffiを電子ビーム
により蒸着し、AMの蒸着条件は基板温度200℃、真
空度5 X 10−5Torr、蒸着速度25人/se
eである。またA!の膜厚は1μ鴫である0次に、IT
O,A4を蒸着した基板上にホトレジストを塗布し、8
0°C120分のプレベークを行なう。そのあと、スト
ライプパターンから成ろホトマスクによりホトレジスト
をパターン化する。120℃、20分のボストベークを
行ない、まずAJのエツチングを行なう。AMのエツチ
ング液として、リン酸、酢酸、硝酸混合液(容量比80
:15:5)を用い、液温は40℃である。そのあと、
ITOのエツチングを行なう。ITOの工7チング液と
して塩化第2鉄、塩酸(容量比1:1)を用い、液温は
40℃である。A芝土のホトレジストをアセトンにより
剥離し、さらにアセトン内で超音波処理を行なう、IT
O,A乏のエツチングが完了した電極パターンをw&1
図に示す。
に陽極酸化膜用A乏を蒸着する。TTOの蒸着条件は基
板温度350℃、真空度5xio−5Torr(3X
10 ’Torrまで0217−り)、蒸着速度2人
/seeであり、膜厚として(1000人を電子ビーム
により蒸着を行なう。引きつづきAffiを電子ビーム
により蒸着し、AMの蒸着条件は基板温度200℃、真
空度5 X 10−5Torr、蒸着速度25人/se
eである。またA!の膜厚は1μ鴫である0次に、IT
O,A4を蒸着した基板上にホトレジストを塗布し、8
0°C120分のプレベークを行なう。そのあと、スト
ライプパターンから成ろホトマスクによりホトレジスト
をパターン化する。120℃、20分のボストベークを
行ない、まずAJのエツチングを行なう。AMのエツチ
ング液として、リン酸、酢酸、硝酸混合液(容量比80
:15:5)を用い、液温は40℃である。そのあと、
ITOのエツチングを行なう。ITOの工7チング液と
して塩化第2鉄、塩酸(容量比1:1)を用い、液温は
40℃である。A芝土のホトレジストをアセトンにより
剥離し、さらにアセトン内で超音波処理を行なう、IT
O,A乏のエツチングが完了した電極パターンをw&1
図に示す。
第1図においで、1はAIl電極、2はITO電極、3
は表示領域、5はプラス基板である。
は表示領域、5はプラス基板である。
次に、A、9電極1の陽極酸化を行なう6電解液として
シュウ酸を用い、液濃度は3.7%である。
シュウ酸を用い、液濃度は3.7%である。
第2図に示すように、陰極側にカーボン4、陽極酸化を
行なうがラス基板5を接続する。ここで、第3図(a)
に示すように、赤に染色する電極9の端子部に導電性ゴ
ム8を固定し、それを電源7の陽極側に接続し、電解液
6中に浸漬し、その電極9を陽極酸化する。電解液6の
液温は室温で、液を攪拌しながら陽極酸化を行なう、ま
ず、0.01A/am”の電流密度で定電流化成を行な
い、そのあと、DC40Vで定電圧化成を行なう。化成
時開は約1時間である。
行なうがラス基板5を接続する。ここで、第3図(a)
に示すように、赤に染色する電極9の端子部に導電性ゴ
ム8を固定し、それを電源7の陽極側に接続し、電解液
6中に浸漬し、その電極9を陽極酸化する。電解液6の
液温は室温で、液を攪拌しながら陽極酸化を行なう、ま
ず、0.01A/am”の電流密度で定電流化成を行な
い、そのあと、DC40Vで定電圧化成を行なう。化成
時開は約1時間である。
陽極酸化終了後、充分に水洗し、乾燥させた後赤の染色
を行なう。赤色の染料として前記酸性染料のうち、Ac
1d Anthracene Red 5 BLを用い
る。この染料を純水に溶かし、この染色液濃度は10g
/4である。液温は60’Cで行ない、染色時間は3分
で行なう。染色後、充分に水洗したのち、封孔処理を行
なう。封孔処理には酢酸ニッケル、酢酸コバルト、ホウ
酸混合液(それぞれ5゜5 gr/ Il、 1 、
Ogr/ l、8 、5 gr/ 、lfりを用い、
液温は80℃、時間として20分で行なう。封孔処理後
、緑に相当する電極の染色を行なう。具体的には第3図
(b)に示すように、電極9.10の端子部に導電性ゴ
ム8を固定し、同様に陽極酸化を行なう。赤に相当する
電極9は既にl18極酸化されているため、緑に相当す
る電1jlOのみが陽極酸化される。陽極酸化後、充分
に水洗し、緑の染色を行なう、赤の部分は既に封孔処理
されているから、緑の部分しか染色されない。緑の染料
として前記5uIIIilan Green B L
を用いる。染色液濃度、液温、染色時間については上記
と同一条件である。染色後、酢酸二ンケル、酢酸コバル
ト、ホウ酸混合液を用い、上記同一条件で封孔処理を行
なう。
を行なう。赤色の染料として前記酸性染料のうち、Ac
1d Anthracene Red 5 BLを用い
る。この染料を純水に溶かし、この染色液濃度は10g
/4である。液温は60’Cで行ない、染色時間は3分
で行なう。染色後、充分に水洗したのち、封孔処理を行
なう。封孔処理には酢酸ニッケル、酢酸コバルト、ホウ
酸混合液(それぞれ5゜5 gr/ Il、 1 、
Ogr/ l、8 、5 gr/ 、lfりを用い、
液温は80℃、時間として20分で行なう。封孔処理後
、緑に相当する電極の染色を行なう。具体的には第3図
(b)に示すように、電極9.10の端子部に導電性ゴ
ム8を固定し、同様に陽極酸化を行なう。赤に相当する
電極9は既にl18極酸化されているため、緑に相当す
る電1jlOのみが陽極酸化される。陽極酸化後、充分
に水洗し、緑の染色を行なう、赤の部分は既に封孔処理
されているから、緑の部分しか染色されない。緑の染料
として前記5uIIIilan Green B L
を用いる。染色液濃度、液温、染色時間については上記
と同一条件である。染色後、酢酸二ンケル、酢酸コバル
ト、ホウ酸混合液を用い、上記同一条件で封孔処理を行
なう。
さらに、同様にして青に相当する電極の染色を行なう。
pIS3図(c)に示すように、電極9.10゜11の
端子部に導電性ゴム8を固定し、陽極酸化を行なう。赤
、緑に相当する電極9,1oは既に陽極酸化されている
ため、青に相当する電極11のみが陽極酸化される。陽
極酸化終了後、充分に水洗し、青の染色を行なう。赤と
緑の電極9,10は既に封孔処理が施されているから青
の電極11しか染色されない。青の染料として前記Mi
tsuiA 1izarine 5aphirol S
E を用いる。染色液濃度、液温、染色時間及び染色
後の封孔処理については、上記赤、緑の場合と同一条件
で行なう。
端子部に導電性ゴム8を固定し、陽極酸化を行なう。赤
、緑に相当する電極9,1oは既に陽極酸化されている
ため、青に相当する電極11のみが陽極酸化される。陽
極酸化終了後、充分に水洗し、青の染色を行なう。赤と
緑の電極9,10は既に封孔処理が施されているから青
の電極11しか染色されない。青の染料として前記Mi
tsuiA 1izarine 5aphirol S
E を用いる。染色液濃度、液温、染色時間及び染色
後の封孔処理については、上記赤、緑の場合と同一条件
で行なう。
陽極酸化及び酸化膜の染色後、SiOの斜方蒸着により
液晶分子配向膜を形成する。まず、液晶分子配向膜Si
Oの下地膜として5i02をEB無蒸着より形成する。
液晶分子配向膜を形成する。まず、液晶分子配向膜Si
Oの下地膜として5i02をEB無蒸着より形成する。
SmO2を膜厚として1000人蒸着蒸着そのあと1回
目のSiOの斜方蒸着を法線に対し60°の角度で膜厚
として33人蒸着する。
目のSiOの斜方蒸着を法線に対し60°の角度で膜厚
として33人蒸着する。
さらに2回目のSiO斜方蒸着を法線に対し85゜の角
度で膜厚として3蒸着着する。
度で膜厚として3蒸着着する。
また、カラーフィルタが形成されたガラス基板5と貼り
合わせるもう一方の図示しないガラス基板も、上記同様
にSiOの斜方蒸着により液晶分子配向膜を形成する。
合わせるもう一方の図示しないガラス基板も、上記同様
にSiOの斜方蒸着により液晶分子配向膜を形成する。
そしてエポキシ樹脂を用いて上記2枚のガラス基板を貼
り合わせ、TN−FEM用液晶材料ROTN−403(
ロッシュ製)を注入する。
り合わせ、TN−FEM用液晶材料ROTN−403(
ロッシュ製)を注入する。
実施例2
実施例1で述べた方法によりITOとAffiのエツチ
ングを行なったのち、A4電極の陽極酸化を行なう。電
解液として13%の硫酸を用い、液温としては室温で行
ない、最初0.01 A/cn+2の電流密度で定電流
化成を行ない、そのあと、DC16■で定電圧化成を約
1時間行なう。陽極酸化終了後充分に水洗し、前記赤の
染料Pa1atine FastRedRNにより染色
を行なう。染色液濃度、液温、染色時間については実施
例1と同様の条件で行なう。染色後、高圧水蒸気中に染
色した基板を入れ封孔処理を行なう。次に緑染料として
前記Kayanol Cyanine Green G
を用い封孔処理を施したのち、青の染色を行なう。青染
料として前記Suminol Fast Sky Bl
ue B を用い、実施例1と同じ条件で染色し、高圧
水蒸気により封孔処理を行なう。そのあと、カラーフィ
ルタが形成された〃う又基板ともう一方のプラス基板上
に液晶分子配向膜としてポリイミドを用いラビング処理
する。ポリイミドとしてPiX5400(日立化成製)
を用いスピンナによりカラーフィルタ上に塗布し、20
0℃、1時間の焼成を行なう。そして公知の方法により
ポリイミド膜上をラビングする。ラビング後、基板を洗
浄し、エポキシ樹脂を用い2枚の基板を貼り合わせ、そ
の基板間にTN−FEM用液晶材料ROTN−4′03
を封入する。
ングを行なったのち、A4電極の陽極酸化を行なう。電
解液として13%の硫酸を用い、液温としては室温で行
ない、最初0.01 A/cn+2の電流密度で定電流
化成を行ない、そのあと、DC16■で定電圧化成を約
1時間行なう。陽極酸化終了後充分に水洗し、前記赤の
染料Pa1atine FastRedRNにより染色
を行なう。染色液濃度、液温、染色時間については実施
例1と同様の条件で行なう。染色後、高圧水蒸気中に染
色した基板を入れ封孔処理を行なう。次に緑染料として
前記Kayanol Cyanine Green G
を用い封孔処理を施したのち、青の染色を行なう。青染
料として前記Suminol Fast Sky Bl
ue B を用い、実施例1と同じ条件で染色し、高圧
水蒸気により封孔処理を行なう。そのあと、カラーフィ
ルタが形成された〃う又基板ともう一方のプラス基板上
に液晶分子配向膜としてポリイミドを用いラビング処理
する。ポリイミドとしてPiX5400(日立化成製)
を用いスピンナによりカラーフィルタ上に塗布し、20
0℃、1時間の焼成を行なう。そして公知の方法により
ポリイミド膜上をラビングする。ラビング後、基板を洗
浄し、エポキシ樹脂を用い2枚の基板を貼り合わせ、そ
の基板間にTN−FEM用液晶材料ROTN−4′03
を封入する。
以上実施例1.2について説明してきたが、走査側電極
を線順次走査によって単純に駆動する電圧平均化法によ
るマルチプレックス駆動、あるいは一方の基板上にソー
ス電極とデート電極を直交させて形成し、その交点に非
線型素子を設けたアクティブ・マトリックス駆動法によ
るフルカラー液晶表示装置においで、本発明はカラーフ
ィルタを形成するのに適用できる。また表示モードとし
て本発明はTN−FENに限定されるものではな(、ゲ
ストホスト用液晶を封入し、偏光板を1枚使用するゲス
トホスト用表示においても適用できる。
を線順次走査によって単純に駆動する電圧平均化法によ
るマルチプレックス駆動、あるいは一方の基板上にソー
ス電極とデート電極を直交させて形成し、その交点に非
線型素子を設けたアクティブ・マトリックス駆動法によ
るフルカラー液晶表示装置においで、本発明はカラーフ
ィルタを形成するのに適用できる。また表示モードとし
て本発明はTN−FENに限定されるものではな(、ゲ
ストホスト用液晶を封入し、偏光板を1枚使用するゲス
トホスト用表示においても適用できる。
〈発明の効果〉
以上より明らかなように、本発明によれば、これまでの
カラーフィルタ形成で問題とされていた電極部分とカラ
ーフィルタ部分との位置ずれはほとんどなくすることが
でき、カラーフィルタ形成においてホトプロセスを必要
としないので製作プロセスが大いに簡略化できる。また
、従来の電着によりカラーフィルタを形成する方法では
、電着用染料として色純度の優れた染料がないという問
題があったが、陽極酸化膜の染色用として各色の酸性染
料が各社から市販されており、その中からフルカラー表
示を行なう上で必要な色純度を満足する染料が選択でき
る。したがって、本発明によれば、優れたカラーフィル
タ特性を有するカラーフィルタ層を安価に精度よく作製
することができる。
カラーフィルタ形成で問題とされていた電極部分とカラ
ーフィルタ部分との位置ずれはほとんどなくすることが
でき、カラーフィルタ形成においてホトプロセスを必要
としないので製作プロセスが大いに簡略化できる。また
、従来の電着によりカラーフィルタを形成する方法では
、電着用染料として色純度の優れた染料がないという問
題があったが、陽極酸化膜の染色用として各色の酸性染
料が各社から市販されており、その中からフルカラー表
示を行なう上で必要な色純度を満足する染料が選択でき
る。したがって、本発明によれば、優れたカラーフィル
タ特性を有するカラーフィルタ層を安価に精度よく作製
することができる。
第1図は本発明に基づくカラーフィルタを形成するため
の電極パターンを示す図、第2図は陽極酸化法の説明図
、第3図(、)は赤に相当する電極のlla極酸極性化
法た第3図(b)、 (c)はそれぞれ緑と青に相当す
る電極の陽極酸化法の説明図である。 1・・・A之電極、2・・・ITO電極、3・・・陽極
酸化及び染色を行なう領域(表示領域)、4・・・カー
ボンなどから成る陰極、5・・・〃ラス基板、6・・・
電解液、7・・・電源、8・・・導電性ゴム、9・・・
赤に相当する電極、10・・・緑に相当する電極、11
・・・青に相当する電極。 特 許 出 願 人 シャープ株式会社代 埋 入 弁
理士 青白 葆 外28第1 蓼 第2図 第3FIA(CI) 第3 I(b)第3民C)
の電極パターンを示す図、第2図は陽極酸化法の説明図
、第3図(、)は赤に相当する電極のlla極酸極性化
法た第3図(b)、 (c)はそれぞれ緑と青に相当す
る電極の陽極酸化法の説明図である。 1・・・A之電極、2・・・ITO電極、3・・・陽極
酸化及び染色を行なう領域(表示領域)、4・・・カー
ボンなどから成る陰極、5・・・〃ラス基板、6・・・
電解液、7・・・電源、8・・・導電性ゴム、9・・・
赤に相当する電極、10・・・緑に相当する電極、11
・・・青に相当する電極。 特 許 出 願 人 シャープ株式会社代 埋 入 弁
理士 青白 葆 外28第1 蓼 第2図 第3FIA(CI) 第3 I(b)第3民C)
Claims (1)
- (1)対向する2枚の透明基板を有するカラー液晶表示
装置の一方の透明基板上にカラーフィルタ層を形成する
方法においで、上記一方の基板上に設けられた透明電極
上に形成された金属薄膜を陽極酸化法により透明にし、
そのあと、染料により上記陽極酸化された金属薄膜を染
色し、そのあと、上記染色された金属薄膜に封孔処理を
行なうことを特徴とするカラー液晶表示装置のカラーフ
ィルタ層の形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60002570A JPS61160701A (ja) | 1985-01-09 | 1985-01-09 | カラ−液晶表示装置のカラ−フイルタ層の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60002570A JPS61160701A (ja) | 1985-01-09 | 1985-01-09 | カラ−液晶表示装置のカラ−フイルタ層の形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61160701A true JPS61160701A (ja) | 1986-07-21 |
Family
ID=11533027
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60002570A Pending JPS61160701A (ja) | 1985-01-09 | 1985-01-09 | カラ−液晶表示装置のカラ−フイルタ層の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61160701A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0468358A2 (en) * | 1990-07-18 | 1992-01-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing electrode plate structure for liquid crystal color display device |
-
1985
- 1985-01-09 JP JP60002570A patent/JPS61160701A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0468358A2 (en) * | 1990-07-18 | 1992-01-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing electrode plate structure for liquid crystal color display device |
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