JPS61158985A - 新規な1‐オキサ‐1‐デチアセフアロスポリン化合物及びそれを含む抗菌剤 - Google Patents

新規な1‐オキサ‐1‐デチアセフアロスポリン化合物及びそれを含む抗菌剤

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JPS61158985A
JPS61158985A JP60293671A JP29367185A JPS61158985A JP S61158985 A JPS61158985 A JP S61158985A JP 60293671 A JP60293671 A JP 60293671A JP 29367185 A JP29367185 A JP 29367185A JP S61158985 A JPS61158985 A JP S61158985A
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D505/00Heterocyclic compounds containing 5-oxa-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. oxacephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
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    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61PSPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P31/00Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は抗菌活性をもつ新規な1−オキサ−1−ブチア
セフッ0スポリン化合物に関するものである。
本発明者らは、広範囲な抗菌スペクトルを有ししかも耐
性菌に有効である新規なセファロスポリン化合物の合成
と探索の研究を続け、ヒトを含む動物に対する化学療法
用の抗菌剤として有効な新規1−オキサ−1−ブチアセ
フッ0スポリン化合物を創製することに成功した。
即ち、本発明者らは、次の一般式(I)〔式中、R1は
式 で表わされる基、あるいは式 (但しR5は水素原子又は4−エチル−2゜3−ジオキ
ソピペラジン−1−イル基、または環内に唯ニのへテロ
置換として窒素を2原子有し且つ下記の式の環窒素に隣
る炭素上に少なくとも1つのへテロ基を有する5員また
は6員ヘテロ環基であり、 *を付した炭素原子の部位の立体配置は(R)型又は(
S)型、あるいはこれらの混合物である)で表わされる
基であり、R2とR3は両者とも水素原子であるか、又
はR2と83の何れか一方が水素原子で他方がメチル基
である〕で示される1−オキサ−1−デチアセファロス
ポリン化合物を合成することに成功し、この一般式(D
で表わされるように、3位に(2゜5−ジヒドロ−6−
ヒドロキシ−2−メチル−5−オキソ−1,2,4−1
’リアジン−3−イル)チオメチル基を有する1−オキ
ソ−1−ブチアセフッ0スポリン類が耐性菌を含むダラ
ム陽性菌およびダラム陰性菌に対して広範囲な抗菌力を
持ち且つ動物に筋肉中あるいは静脈内に投与した場合、
その抗菌剤としての効果が極めて大きいことを見い出し
た。
3位に(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチ
ル−5−オキソ−1,2,4−トリアジン−3−イル)
チオメチル基を有するセファロスポリン化合物は特開昭
55−154980号公報に報告されているが、1−オ
キサ−1−ブチアセフッ0スポリンに関する記載はこの
公開公報になく、式(I)の化合物は新規な化合物であ
る。
また、一般に、7位アミノ基の上に2−アミノチアゾー
ル−4−酢酸誘導体を置換基として有する1−オキサ−
1−ブチアセフッ0スポリン化合物は、対応するセファ
ロスポリンに比べて抗菌力が劣ることが知られている(
R,B、モリン1M、ゴーマン、ケミストリー・アンド
・バイオロジー・オブ・β−ラクタム・アンチビオチツ
クス・2.1〜98頁、(1982)、アカデミツク・
プレスにューヨーク))。然るに、一般式(I)の本発
明化合物は7位アミノ基の置換基として2−7ミノチア
ゾールー4−酢酸誘導体を有しているにも拘らず、対応
のセファロスポリン類(前述した特開昭55−1549
80号公報記載のもの)が全く無効なスタフィロコッカ
ス・フェカリスおよびシュードモナス・エルギノーザを
強く阻止すること:更に2位にメチル基を導入すること
、及び式(I)の化合物の置換基R4の種類を適宜選択
(R4がメチル又はエチル基であるのが好ましい)する
ことによりその抗菌力が更に増強されることを見い出し
、本発明を完成するに至った。
従って・第一の本発明は、前記一般式(Ilの1−オキ
サ−1−デチアセファロスポリン化合物、及びこれの薬
学的に許容できる水和物、塩ならびにエステルを要旨と
するものである。
一般式(I)による本発明化合物の例には、次のものが
ある。
化合物?41m 1゜ (6R,7R)−7−((Z)−2−(2−7ミノチア
ゾールー4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトア
ミド)−(2S)−2−メチル−3−(2,5−ジヒド
ロ−6−ヒドロキシ−2−メチル−5−オキソ−1,2
,4−トリアジン−3−イル)チオメチル−1−オキサ
−1−ブチアセツー3−ニムー4−カルボン酸 (6R,7R)−7−[:(Z)−2−(2−アミノチ
アゾール−4−イル)−2−(エト−2−メチル−5−
オキソ−1,2,4−トリアジン−3−イル)チオメチ
ル−1−オキサ−1−ブチアセツー3−ニムー4−カル
ボン酸 化合物Na 3゜ (6R,7R)−7−1m(Z)−2−<2−7ミノチ
アゾールー4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセト
アミド)−3−(2゜5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−
2−メチル−5−オキソ−1,2,4−トリアジン−3
−イル)チオメチル−1−オキサ−1−ブチアセツー3
−ニムー4−カルボン酸化合物m 4゜ (6R,7R)−7−[(Z)−2−(2−7ミノチア
ゾールー4−イル12−(エトキシイミノ)アセトアミ
ド〕−3−(2゜5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−
メチル−5−オキソ−1,2,4−トリアジン−3−イ
ル)チオメチル−1−オキサ−1−テチアセフー3−エ
ムー4−カルボン酸化合物5゜ (6R,7R)−7−[2−(2−7ミノチアプールー
4−イル)−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1
−ピペラジンカルボキサミド)アセトアミド:) −(
2S )−2−メチル−3−(2,5−ジヒドロ−6−
ヒドロキゾー2−メチル−5−オキソ−1,2,4−ト
リアジン−3−イル)チオメチル−1−オキサ−1−ブ
チアセツー3−ニムー4−カルボン酸 化合物6゜ (6R,7R)−7−[2−(2−7ミノチアゾールー
4−イル)−2−(ホルムアミド)アセトアミド]−(
2S)−2−メチル−3−(2,5−ジヒドロ−6−ヒ
ドロキシ−2−メチル−5−オキソ−1,2゜4−トリ
アジン−3−イル)チオメチフレー1−オキサ−1−デ
チアセフ−3−エム−4−カルボン酸 化合物7゜ (6R,7R)−7−(2−(2−7ミノチアゾールー
4−イル)−2−(4−エチ、L−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジンカルボキサアミド)アセトアミド〕−3
−(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチル−
5−オキソ−1,2,4−1’リアジン−3−イル)チ
オメチル−1−オキサ−1−ブチアセツー3−ニムー4
−カルボン酸 化合物Nil 8゜ (6R,7R)−7−(2−(2−7ミノチアゾールー
4−イノリー2−(ホルムアミド)アセトアミド’)−
3−(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチル
−5−オキソ−1,2,4−トリアジン−3−イル)チ
オメチル−1−オキサ−1−デチアセフ−3−エム−4
−カルボン酸 なお、上記の化合物随は後記の表及び実施例で参照され
る。
本発明化合物(I)は一般式(I)の化合物の溶媒和物
、特に水和物を包含する。さらに本発明は式(I)の化
合物の後に詳述する如き無毒性塩及び無毒性エステル、
特に代謝上不安定なエステルを包含する。無毒性とは医
薬的に許容し得る意味である。
本発明の式CI)で示され具体例として挙げた新規化合
物は次の特長を持っている。
イ 試験管におけるグラム陽性およびグラム陰性菌に対
する抗菌スペクトルとして本発明化合物随1〜随8の各
種細菌に対する最低発育阻止濃度(MIC)を示す第1
表から明らかなように、本発明化合物は広範囲の細菌に
対して高い抗菌力を有する。比較のため、ラタモキセフ
(Latamoxef )及びセフトリアキソン(Ce
ftriaxone )のMICも第1表に示す。
また、第1表から明らかな様に、本発明による新規化合
物は耐性菌を含む各種細菌に実用上十分に高い抗菌力を
有しているのみならず、特に、実施例1,2,5.6で
示される化合物はストレプトコッカス・ファエカリスに
有効である大きな特長があり、まだ実施例1.2,4,
5,7で示される化合物はシュードモナス・エルギノー
ザに有効である特長がある。
また、本発明による一般式(I)の化合物は本発明と同
一出願人によって先に出願公開された特開昭59−46
287号公報に具体的に開示されている1−オキサ−1
−デチアーセファロスポリン誘導体と比べて、抗菌活性
、血清中濃度およびその持続性等がすぐれている特長が
ある。
(C])本発明化合物は投与された後の動物体内に於け
る血清中濃度のピーク値及びその持続性が高いという薬
理学的長所がある。
これの例証実験として、1群3匹のマウス(平均体重2
0g)を用い、供試化合物の25■/kgを皮下投与し
た後、適時採血し、血清を分離しその中の供試化合物濃
度をエシェリヒア・コリを検定菌とする抗菌力検定で測
定した。その結果を第2表に示す。
第  2  表 化合物1m1   27 47.7 41 24.8z
 Na5 24442510 # m7 25343213 上記(イ)1口)に例証されるごとく、本発明による式
(I)の化合物は抗菌剤として優れた性質を有するため
にヒトを含む哺乳動物の細菌感染症の治療又は予防に非
経口的又は経口的に投与しうる有用な抗生物質である。
特に、血中濃度の持続性の良さは、試験管(in vi
tro)内抗菌力を動物体(in vivo )内で発
現させる上で重要な要素である。
従って第2の本発明の要旨によると、さらに、前記一般
式(I)で示される1−オキサ−1−ブチアセフッ0ス
ポリン化合物及びその無毒性の水和物塩もしくは無毒性
エステルの少くとも一つを有効成分とする抗菌剤を提供
する。
一般式(I)の化合物の無毒性塩、すなわち医薬上許容
し得る塩類としては、該化合物中に存在するカルボキシ
ル基との反応によシ生成される慣用的な非毒性の塩Cカ
ルボキシレート)、特に無機塩基との塩類、例えばナト
リウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩、カルシ
ウム塩、マグネシウム塩、亜鉛塩のようなアルカリ土類
金属塩があシ、またリジン、アルギニン、オルニチン、
ヒスチヂンのような塩基性アミノ酸との付加塩があシ、
さらに有機アミン塩、その他のセファロスポリンと通常
塩を形成するような塩基性塩との付加塩がある。
本発明化合物(I)の他の無毒性塩としては、該化合物
の7ミノ基又は他の塩基性基における塩酸、臭化水素酸
、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸との付加塩があり、
またトリフルオロ酢酸、ベンゼンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、マレイン酸、酒石酸、p−トルエンスルホン
酸のような有機カルボン酸又は有機スルホン酸との付加
塩、並びにアスパラギン酸、グルタミン酸のような酸性
アミノ酸との付加塩があり、さらに分子間又は分子内塩
等をあげることができる。
更に、本発明化合物(I)の無毒性エステルとしては、
該化合物のカルボキシル基における薬学的に許容できる
エステル形成基とのエステルがあるが、その中でも代謝
上不安定なエステルが好ましい。後者は生体内で加水分
解して脱離し得るエステル形成基を有する化合物である
。かかるエステル形成基の例としてはアセトキシメチル
基、ピバロイルオキシメチル基、α〜エトキシカルボニ
ルオキシエチル基、フタリジル基、フェニル基等をあげ
ることができる。
抗菌剤として使用に際し、本発明化合物(I)はヒトの
細菌性感染症の治療に対しては、成人に対し一回投与量
として50〜1500’W、好ましくは100〜100
0〜を1日1〜5回、非経口的又は経口的に投与される
本発明の抗菌剤は通常、本発明の化合物と固体又は液体
の賦形剤とから構成される。剤型としては、錠剤、カプ
セル、散剤、予設散剤のような固形製剤、または注射液
、点滴静注液、懸濁液、シロップのような液体製剤の型
に製造される。ここに使用される固体または液体の賦形
剤としては、当該分野で公知のものが使用される。前述
のように、成人で例示したような1回の投与量に必要な
量の本発明の化合物を含むように製剤化するのが好まし
い。
一般式(I)の本発明化合物の製造は、例えば、次の一
般式(IIa) 〔式中、R2とR3は両者とも水素原子であるか、又は
R2とR3の何れか一方が水素原子で他方がメチル基で
あシ、R6はカルボキシル保護基であり、Xは塩素、臭
素又はヨウ素原子である〕の1−オキサ−1−デチアセ
フエム化合物を次式 %式%() 〔式中、R1は一般式(I)で定義したと同じ意味であ
る〕のカルボン酸又はこれの活性誘導体で7シル化して
、次式 〔式中、R1、R2、R3、R6及びXは前記と同じ意
味である〕の7−N−アシル化生成物を生成する工程と
、得られた式(IV)の化合物に対して次式 %式% 2.4−トリアジンを、成るべくハロゲン化水素結合剤
として作用する塩基、例えばアルキルアミンの存在下で
反応させて、次式〔式中、R1、R2、R3及びR6は
前と同じ意味である〕の化合物を生成する工程と、この
式(VI)の化合物中に残留する保護基を常法で脱離す
る工程とよシ成る方法によって実施できる。
次にこの方法において、一般式(n)の化合物から一般
式(I)の化合物に至る工程を説明する。先ず化合物(
n)の7位アミノ基に所望するアシル基を導入するため
に式(III)のカルボン酸を式(n)の化合物と反応
させ、これにより7位アミノ基をアシル化するのであり
、これにより式(IV)の7−N−アシル化生成物が得
られる。このアシル化法は一般によく知られる方法でよ
い。
この場合、式(m)のカルボン酸は、これの活性誘導体
の形で用いるのが好ましく、カルボン酸(III)の活
性化体は酸ハロゲン化、酸活性エステル化、酸無水物、
混合酸無水物等1・。
あり得る。式(m)のカルボン酸は、活性化せずに用い
てアシル化反応を行うこともでき、この場合には、カル
ボジイミド類による脱水縮合、あるいはオキシ塩化燐法
で行なわれる。
アシル化反応はジオキサン、テトラヒドロフラン、ジメ
チルホルムアミド、塩化メチレン、クロロホルム、酢酸
エチル等の、反応に影響を及ぼさない有機溶媒中で反応
温度−50℃から+50℃で行なわれる。
次いで、式(rV)の7−N−アシル化生成物の3′位
ハロゲン原子(X)を、所望の3′位置換基の導入剤と
しての2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチル
−5−オキソ−3−メルカプト−1,2,4−1’リア
ジン(V)と反応することによシ、化合物(VI)を得
る。この置換反応自体は公知で特開昭55−15498
0号公報に開示されている。化合物([V)と化合物(
V)とを不活性有機溶媒中、好ましくはジメチルホルム
アミド(DMF)、ジメチルアセトアミド又はジオキサ
ン中で混合し、0℃〜80℃の温度で反応させる。式中
のXが塩素の場合、1〜2当量のヨウ化ソーダ(NaI
)を反応系に添加することにより収率よく反応が進行す
る。
次いで化合物(VI)から残留する保護基を脱保護する
ことにより一般式(I)の本発明化合物を得る。化合物
(VI)に残留する保護基は1−オキサセフェム環4位
のカルボキシル保護基と7位側鎖2−7ミノチアゾ一ル
部の2位アミノ基保護基である。これらの保護基は常法
で段階的あるいは同時に脱離される。R6がジフェニル
メチル基あるいはp−ニトロベンジル基で、2−7ミノ
チアゾ一ル部の2位アミノ基がトリチル基で保護されて
いる場合は、接触還元法あるいは酸性試薬による加水分
解等で同時に脱保護される。これらの脱保護反応それ自
体は公知であり、酸性試薬としては塩酸等の鉱酸、トリ
フルオロ酢酸等の有機酸、あるいは塩化アルミ等のルイ
ス酸を用い得る。
本発明化合物(I)の前記製造法で原料化合物として用
いられる一般式(Ila )  の化合物は以下の反応
式で示される通りに製造される。
化合物(■) 化合物(■) 化合物(IX) 但し、上記の反応式においてR2、R3、R6及びXは
前記と同じ意味を有する。
上記の反応式で示される原料化合物(Ha )の調製法
で出発物質として用いられる化合物(■)におけるR1
 もしくはR2がメチル基の化合物は、本出願人らによ
り特開昭59−46287号、特開昭59−51291
号公報に開示した方法で合成される。また、そのR1お
よびR2が水素原子の化合物は特開昭54−3088号
、特開昭53−25551号公報に開示された公知物質
である。式中R6は前述した通ジカルボキシル保護基で
あり、一般にペニシリン、セファロスポリン、1−オキ
サ−1−ブチアセフッ0スポリンに広く使用される保護
基が適用できる。好ましくはt−ブチル基、ジクロロエ
チル基、トリクロロエチル基などのアルキル基、ベンジ
ル基、p−ニトロベンジル基、p−メトキシベンジル基
、フェナシルメチル基、ジフェニルメチル基などの7ラ
ルキル基がよい。中でも弱酸性下、あるいは還元的条件
下で容易に脱離できるもの゛が最適で、例えばジフェニ
ルメチル基、p−二トロベンジル基が好適である。
化合物(IIa)  の調製に当っては、先づ第1段階
として、出発物質の化合物(Vl[)の7位アミノ基を
保護する目的のホルミル化により化合物(■)を得る。
このホルミル化は一般に知られている方法でよく、ギ酸
と無水酢酸との混合物による処理、またはギ酸の活性エ
ステル好ましくはトリクロロフェニルエステルによりホ
ルミル化するのが便利であり、これにより?−N−ホル
ミル化化金化合物)を生成する。反応溶媒は通常の有機
溶媒、特に不活性溶媒が良く、好ましくは塩化メチレン
、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ジオキサン等で
ある。
次の段階として、化合物(■)の3位N−メチルテトラ
ゾール基を還元的に脱離し、3−粉末を用い、水素供給
源として有機酸あるいは無機酸の存在下、不活性溶媒中
、−5℃から50℃の間で還元が行なわれる。好ましく
は亜鉛あるいはマグネシウムをギ酸あるいは酢酸の存在
下で用い塩化メチレンあるいはジオキサン中で還元させ
る。
次いで、第3段階として化合物(IX)をハロゲン化剤
で処理することにより対応する3−ハロゲノメチル体(
X)を得る。なお化合初回でR2、もしくはR8がメチ
ル基の化合物は新規化合物であるが、一般のセファロス
ポリンあるいはrttとR8とが水素原子である化合物
は公知であり、そのハロゲン化についてはジャーナル・
オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテイー、99.
2822頁、(1977)及びテトラヘドロン、39、
Nα15.2515〜2526頁、(1983)に発表
されたハロゲン化法が適用できる。好ましくは、化合初
代に有機塩基DBUの存在下に臭素あるいはヨウ素を反
応させることによシ、3−ブロムメチル体(X)(X=
Br)  あるいは3−ヨードメチル体(Xi、(X=
I)を得る。3−クロルメチル体(X)、、(X=cJ
りは化合物(IX)にフェニルセレニルクロリドを作用
させ、得られる3−フェニルセレノ−1−オキサセファ
ム体を酸化的に脱セレニル化して得られる。
次いで第4段階として化合物Xの7位アミノ保護基のホ
ルミル基を脱離することにより一般式(IIa)  の
化合物を得る。酸処理による脱ホルミル化反応は広く知
られる反応であるが、分子内の他の酸不安定保護基、す
なわち化合物■の4位カルボン酸保護基に影響すること
なく選択的に脱ホルミル化を行うには無水塩酸が好まし
い。反応は不活性溶媒中−5℃から+20℃の温度で、
2〜8当量の無水塩酸で行なわれる。反応後の処理の違
いにより、一般式(IIa )  の化合物は遊離塩基
、あるいは塩酸塩の型で単離される。
第3の本発明によると、一般式(IIa)  の化合物
のうちでの新規化合物、すなわち次の一般式(lIb 
) 〔式中、Ra−が水素原子でRb  がメチル基である
か、又はR1がメチル基でRb  が水素原子であり、
Xは塩素、臭素又はヨウ素原子であシ、R7け水素原子
又はカルボキシル基の保護基である〕の1−オキサ−1
−デチアセフエム化合物が重要な中間体化合物として提
供される。
次に本発明を実施例について詳細に説明する。
実施例1 (1)7β−ホルムアミド−2β−メチル−3−(l−
メチル−IH−テトラゾール−5−イル)チオメチル−
1−オキサ−1−デチアー3−セフェムー4−カルボン
酸ジフェニルメチルエステルの型造 Co□CHPh2Me (但しMeはメチル基、Phはフェニル基を示す、以下
同様)。
7β−アミノ−2β−メチル−3−(1−メチル−IH
−テトラゾール−5−イル)チオメチル−1−オキサ−
1−デヂアー3−セフェムー4−カルボン酸ジフェニル
メチルエステルSOOηとギ酸2.4.5−トリクロル
フェニルエステル440■を塩化メチレン40Intに
溶解し、室温で20時間放直後濃縮した。残留物を酢酸
エチルで洗浄し、塩化メチレンで再結晶すると表題の化
合物の664m1 (79’4 )を得た。
IR(ヌショール)、νmaz(an−’):1779
  。
1722.1662 NMR(CDα、)、δ(ppm) : 1.55 (
3H。
d、J=6.6Hz)、3.82(3H,s)。
4.73.4.05(2H,ABq 、J=13.7H
z)、4.89(IH,q、J==6.6Hz)。
5.11 (LH,d 、 J=3.9Hz )、5.
76(IH,dd、J=9.5,6.5Hz)。
6.89(IH,s)、7.10〜7.70(10H、
m ) 、 8.28 (I H、s )(2)7β−
ホルムアミド−2β−メチル−1−オキサ−1−デチア
ー3−メチレンセファム−4−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステルの裂造 前項(1)の生成物、すなわち7β−ホルムアミド−2
β−メチル−3−(1−メチル−IH−テトラゾール−
5−イル)チオメチル−1−オキサ−1−デチアー3−
セフェムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル3
70〜を塩化メチレン7ゴに溶解し、酢酸2.0d。
金属マグネシウム170〜を加え、室温で40分間攪拌
後、濾過し、P液を濃縮した。
残留物を酢酸エチルに溶解し、飽和重曹水、水で洗浄後
MgSO4で乾燥し、濃縮した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製
し、表題化合物の166〜(58%)を得た。
I R(CHαg)、Vmqx(cm’ ):1780
 。
1741.1695 NMR(CDα3)、δ(ppm) : 1.37 (
3H,d 。
J=6.3Hz  )  、4.37(IH,q  、
J 〜6.3H7,)、5.13(IH,8)、5.2
9(IH。
s)、5.36(LH,s)、5.41  (LH。
d、J 〜3.5Hz)、5.61(LH,dd。
J=10.1,3.5Hz)、6.20(IH,d。
J=10.1]Hz  )、6.85(LH,s  )
7、1 0〜7.4 0  (10H、m  )  、
  8.1 9CIH,8) (3)7β−ホルムアミド−2β−メチル−3−クロル
メチル−1−オキサ−1−デチアー3−セフェムー4−
カルボン酸ジフェニルメチルエステルの製造 前項(2)の生成物、すなわち7β−ホルムアミド−2
β−メチル−1−オキサ−1−デチアー3−メチレンセ
ファム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル30
0〜、フェニルセレニルクロライド28071vを塩化
メチレン8−に溶解し、室温で5時間攪拌後、水冷下4
0%水性過酢酸30011I!を加え室温で30分間攪
拌した。
反応液を飽和重曹水、チオ硫酸ナトリウム水溶液、次に
水で洗浄し、Miso、で乾燥後濃縮した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製
し、表題化合物の250岬(77%)を得た。
I R(CHα、)、νmax(crn’ ) : 1
797 。
1723.1697 NMR(CDα3)、δ(1)pm) : 1.51 
(3H。
d、J=6.6玉)、4.11.5.16(2H。
ABq 、J=12.5Hz ) 、4.78(IH。
q 、 J=6.6Hz ) 、 5.12 (IH,
d 、 J=3.7Hz ) 、 5.77 (IH、
dd 、 J=9.9 。
3.7Hz ) 、 6.28 (IH、d 、 J 
〜9.9Hz) 。
6.90 (IH,s ) 、 7.10〜7.60 
(IOH。
m)  、8.24(LH,s  ) (4)7β−アミノ−2β−メチル−3−クロルメチル
−1−オキサ−1−デチアー3−セフェムー4−カルボ
ン酸ジフェニルメチルエステルの製造 前項(3)の生成物、すなわち7β−ホルムアミド−2
β−メチル−3−クロルメチル−1−オキサ−1−デチ
アー3−セフェムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエ
ステル200〜をメタノール2−に溶解し、6N−Hα
ジオキサン溶液、75μtを加え、室温で30分間攪拌
し濃縮した。
残留物をエーテルで洗浄し乾燥すると、表題化合物を塩
酸塩として200〜(定量的収量)を得た。
下記の物性は表題化合物の遊離塩基の値を示す。
I R(CHC2,) 、νmax Cram ’ )
 : 1783 。
72O NMR(CDC4) 、δ(ppm) : 1.52 
(3H。
d 、 J 〜6.7Hz ) 、 1.85 (2H
、s ) 。
4.11,5.15(2H,ABq、J=12.8  
・玉) 、4.49 (I H* d 、J 〜4− 
OHz ) −4,77(IH,q、J−6,8Hz)
、5.04(IH,d、J=4.0Hz)、6.90(
IH。
s ) 、 7.10〜7.60 (10H、m )(
5)  (6R,7R)−7−[:(Z)−2−(2−
7ミノチアゾールー4−イル)−2−(メトキシイミノ
)7セトアミド]−(2S)−2−メチル−3−(2,
5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチル−5−オキ
ソ−1゜2.4−トリアジン−3−イル)チオメチル−
1−オキサ−1−デチアー3−セフェム−4−カルボン
酸(化合物随1)ジナトリウム塩の製造 (イ)(Zl −2−(2−トリ、チーノールアミノチ
アゾール−4−イル)−2−メトキシイミノ酢酸108
#vと前項(4)で得られた7β−アミノ−2β−メチ
ル−3−クロルメチル−1−オキサ−1−デチアー3−
セフェムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル塩
酸塩100■を塩化メチレン3dに溶解し、−20℃で
ピリジン87μt1 オキシ塩化リン29μtを加え、
同温度で30分間、さらに水冷下で30分間攪拌してア
シル化反応を行った。
反応液を氷水、飽和重曹水、水で順次洗浄し、Mg5o
4で乾燥後濃縮した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:トルエンー酢酸エチル。
(5:1))で精製すると、次式 (但しTrはトリチル基)で示される7β−[(Z) 
−2−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)−
2−(メトキシイミノ)アセトアミド〕−2β−メチル
−3−クロルメチル−1−オキサ−1−デチアー3−セ
フェムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエステルの1
40■(75%)を得た。
NMR(CDcts)  、δ(ppm): 1.48
 (3H。
d、J=6.87(z)、4.10,5.18(2H。
ABq  、 J=12.3Hz ) 、 4.05 
(3H。
s)、4.77(IH,q、J=6.8Hz)。
5.13 (LH、d 、 J=3.9Hz ) 、 
5.77(IH,dd 、 J=3.8  、10.5
Hz  )  。
6.80  (IH,s  )  、 6.89  (
IH,s )  。
7、10〜7.90 (25H、m )麹 前項ピ)の
生成化合物140■、2.5−ジヒドロ−6−ヒドロキ
シ−2−メチル−3−メルカプト−5−オキソ−1,2
,4−トリアジン・ナトリウム塩36■、沃化ナトリウ
ム25qをDMF 1−に溶解し、室温で1時間攪拌し
て置換反応を行った。
反応液を酢酸エチル6dで希釈し、酸性水(pH3,o
)、次に水で洗浄し、MgSO4で乾燥後濃縮した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:クロロホルム−メタノール(20:1))で精製
すると、次式 で示される7β−((Zl −2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)−2−(メトキシイミノ)ア
セトアミドツー2β−メチル−3−(2,5−ジヒドロ
−6−ヒドロキシ−2−メチル−5−オキソ−1,2,
4−トリアジン−3−イル)チオメチル−1−オキサ−
1−デチアー3−セフェムー4−カルボン酸ジフェニル
メチルエステルの1301ng(81%)を得た。
NMR(CDの、)、δ(ppm) : 1.50 (
3H。
d 、 J=6.9Hz ) 、 3.59 (3H,
s ) 。
4.06 (3H、s ) s 4.08 = 4.5
0 (2H。
ABq 、J=13.0Hz)、4.72(LH。
q 、J=6.8Hz)、5.12(IH,d。
J=3.8Hz)、5.73(LH,dd、J=3.8
,10.3Hz)、6.7’7(LH,s)。
6.92(IH,s)、7.10〜7.80(25H,
m) (ハ) 前項(ロ)の生成化合物120ηを氷冷したト
リフロル酢酸1.2−とアニソール0.2 dとの混液
に加え、同温度で30分間攪拌して脱保護反応を行った
後、イソプロピルエーテル(IPg)6−を加え生成す
る沈殿を戸数した。
この沈殿物70119及び重曹301Niを水1ゴに溶
解し、ダイヤイオンHP−20のカラムクロマトグラフ
ィー(展開溶媒:水)で精製すると、目的の表題化合物
である(6R87R) −7−(:(Z)−2−(2−
7ミノチアソールー4−イル)−2−(メトキシイミノ
)アセトアミド〕−(2S)−2−メチル−3−(2,
5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチル−5−オキ
ソ−1,2,4−トリアジン−3−イル)チオメチル−
1−オキサ−1−ジチア−3−セフェム−4−カルボン
酸のジナトリウム塩40qを得たO I R(KBr ) 、νmax(an’):1765
 。
1660.160O NMR(DtO) 、δ(ppm) : 1.44 (
3H、d 。
J=6.6Hz ) 、 3.63 (3H、s ) 
、 3.97(3H,s ) 、 3.96.4.46
 (2H,ABq 。
J=13.9Hz ) 、 5.24 (LH、d 、
 J=3.4Hz)+5.51(LH,d、J=3.4
Hz)t7.06(IH,s) 実施例2 (6R,7R)−7−C(Z)−2−(2−7ミノチア
ゾールー4−イル)−2−(エトキシイミノ)アセトア
ミド)−(2S)−2−メチル−3−(2,5−ジヒド
ロ−6−ヒドロキシ−2−メチル−5−オキソ−1,2
゜4−トリアジン−3−イル)チオメチル−II−オキ
サ−1−デチアー3−セフェムー4−カルボン酸(化合
物m2)ジナトリウム塩の製造 (但しEtはエチル基) 実施例1(5)の(イ項で用いた(Z) −2−(2−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシ
イミノ酢酸の代シに(Z) −2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)−2−エトキシイミノ酢酸を
用いて実施例1(5)のk) 、 (1:I 、(ハ)
と同様に反応を行なうと、目的とする表題化合物のジナ
トリウム塩を得た。
I R(KBr ) 、νrflax(ffi−” )
 : 1765 。
1660.160O NMR(D、O) 、δ(ppm) : I−20(3
H* t 。
J =7.1Hz ) 、 1.36 (3H、d 、
 J=6.8Hz)、3.54(3H,s)、3.87
,4.40(2H、ABq 、 J==14.0Hz 
) 、 4.15(2H= q m J =7.1 H
z ) + 5.16(IH。
d 、 J =3.6Hz ) 、 5.44 (IH
、d 。
J=3.6Hz)、6.96(LH,s)実施例3 (1)7β−ホルムアミド−3−クロルメチル−1−オ
キサ−1−デチア−3−セフェム−4−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステルの製造 実施例1(2)で得た7β−ホルムアミド−1−オキサ
−1−デチアー3−メチレンセファム−4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル40011!を塩化メチレン
10ゴに溶解し、これにフェニルセレニルクロライド4
5811Qを加え、室温で1時間攪拌後、水冷下に40
チ水性過酢酸50°OIM!を加え、室温で30分間攪
拌した。
反応液を飽和重曹水、チオ硫酸ナトリウム水溶液、水で
順次洗浄し、4so 4で乾燥後濃縮した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:トルエンー酢酸エチル(3:1))で精製すると
、表題化合物の330IIIg(75%)を得た。
I R(C)lj3)  、  νmax(”’):1
782  。
1720 .1691 NMR(CDα3)+  δ(ppm)  :  4.
47 (4H。
s)、5.05(LH,d  、J=3.9Hz)。
5.73(LH,dd、J=9.6,3.9玉 )。
6.43(IH,d、J =9.6Hz)、6.88(
IH,s)、7.10〜7.60(IOH,m)。
8.18(IH,5) (2)7β−アミノ−3−クロルメチル−1−オキサ−
1−デチアー3−セフェムー4−カルボン酸ジフェニル
メチルエステルの製造前項(1)で得た7β−ホルムア
ミド−3−クロルメチル−1−オキサ−1−デチアー3
−セフェムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
330+yをメタノール3−に溶解し、6N−塩酸ジオ
キサン溶液0.60dを加え、室温で30分間攪押抜濃
縮した。
残留物を塩化メチレンから結晶化すると、表題化合物を
塩酸塩として269FrIf(891)得た。
遊離塩基としての物性を下記に示す。
I R(CHct、) 、νmax(z”): 179
0 。
NMR(CDα、)、δ(ppm) : 2.50 (
2H。
s)、4.30〜4.75(5H,m)、4.97(I
H,d)6.90(IH,s)、7.20・〜7.60
 (10H、m ) (3)  (6R、7R) −7−C(z) −2−(
2−7ミノチアゾールー4−イル)−2−(メトキシイ
ミノ)アセトアミド)−3−(2゜5−ジヒドロ−6−
ヒドロキシ−2−メチル−5−オキソ−1,2,4−1
リアジン−3−イル)チオメチル−1−オキサ−1−デ
チアー3−セフェムー4−カルボン酸(化合物部3)ジ
ナトリウム塩の製造 (イ)(Z) −2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)−2−メトキシイミノ酢酸250〜と前項
(2)で得た7β−アミノ−3−クロルメチル−1−オ
キサ−1−デチアー3−セフエムー4−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル塩酸塩2001rN!を塩化メチ
レン4−に溶解し、−20℃でピリジン180μt1オ
キシ塩化リン60μtを加え、同温度で30分間そして
水冷下で30分間攪拌した。
反応液を氷水4−×2、飽和重曹水、水で順次洗浄し、
qso、で乾燥後濃縮した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:トルエンー酢酸エチル(5:1))で精製すると
、次式 %式% −オキサ−1−デチアー3−セフェムー4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステルの260■(69%)を得た
I R(CHα、)、νmax (ctn−’ ) :
 1800 。
1725.1685 NMR(CDα、)、δ(ppm) : 4.05 (
3H。
s)、4.54(4H,s)、5.12(IH。
d、J=3.8)、5.77(IH,dd、J=9.3
.3.8)6.76(LH,s)、6.91(IH,s
)、7.10〜7.60 (25H、m )(0)前項
イ)の生成化合物133■、2,5−ジヒドロ−6−ヒ
ドロキシ−2−メチル−3−メルカプト−5−オキソ−
1,2,4−トリアジン・ナトリウム塩34■、沃化ナ
トリウム28〜をDMFl−に溶解し、室温で1時間攪
拌した。
反応液を酢酸エチル6dで希釈し、酸性水(pH3,0
)、水で洗浄し、乾燥後濃縮した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:クロロホルム−メタノール(10:2))で精製
すると、 7β−((Z)−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセトアミド)
−3−(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチ
ル−5−オキソ−1,2,4−トリアジン−3−イル)
チオメチル−1−オキサ−1−デチアー3−セフェムー
4−カルボン酸ジフェニルメチルエステルの12011
9(79%)を得た。
(ハ)前項(1:i)の生成化合物120qを水冷下ト
リフルオロ酢酸1.5−とアニソール0.2−との混液
に加え、同温度で30分間攪押抜イソプロピルエーテル
(IPE)6−を加え、生成する沈澱を戸数した。
この沈澱物72岬、重曹30#9を水2−に溶解し、ダ
イヤイオンHP−20のカラムクロマトグラフィー(展
開溶媒:水)で精製すると、目的の表題化合物として(
6R,7R)−7−[:(Z)−2−(2−7ミノチア
ゾールーー4−イル)−2−(メトキシイミノ)アセト
アミド)−3−(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−
2−メチル−5−オキソ−1゜2.4−トリアジン−3
−イル)チオメチル−1−オキサ−1−ブチツー3−セ
ツエムー4−カルボン酸ジナトリウム塩を得た。
I R(KBr ) 、νmaX(cm−’) : 1
765 。
1660.160O NMR(DzO)  −δ(ppm) : 3.60 
(3H。
s)、3.95(3H,s)、4.04,4.33(2
H,d 、J”141Hz )4.54(2H。
s)、5.25(LH,d、J=3.6Hz)。
5.56(IH,d、J=3.6Hz)、6.96(I
H,s) 実施例4 (6R,7R)−7−((Z)−2−(2−7ミノチア
ゾールー4−イル)−2−(エトキシイミノ)7セトア
ミド)−3−(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2
−メチル−5−オキソ−1,2,4−1’リアジン−3
−イル)チオメチル−1−オキサ−1−デチアー3−セ
フェムー4−カルボン酸(化合物m4)ジナトリウム塩
の製造 実施例3(3)のピ)項で用いた(Z) −2−(z−
トリチルアミノチアゾール−4−イル)−2−メトキシ
イミノ酢酸の代シに(Z) −2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)−2−エトキシイミノ酢酸を
用いて同様に反応を行なうと、目的とする表題化合物の
ジナトリウム塩を得た。
I R(KBr) + Vrn@z (cm−’ ) 
: 1765 。
1670.160O NMR(D、O) 、δ(ppm) :  1.33 
(3H、t 。
J=7.0Hz)、3.69(3H,s)、4.14゜
4.40 (2H、ABq 、 J−12,0Hz )
 。
4.30(2H,q、J==7.0Hz)、4.63(
2H,s)、5.34(IH,d、J=3.7Hz )
 s 5.64 (I H= d * J 〜3.7 
Hz ) #7、05 (I H、s ) 実施例5 (6R,7R)−7−[2−(2−7ミノチアゾールー
4−イル)−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1
−ピペラジンカルボキサミド)アセトアミド)−(2S
)−2−メチル−3−(2j5−ジヒドロ−6−ヒドロ
キシ−2−メチル−5−オキソ−1,2゜4−トリアジ
ン−3−イル)チオメチル−1−オキサ−1−ブチツー
3−セツエムー4−カルボン酸(化合物尚5)ジナトリ
ウム塩の製造 (1)7β−アミノ−2β−メチル−3−クロルメチル
−1−オキサゾチア−3−セフェム−4−カルボン酸ジ
フェニルメチルエステル塩酸塩227JI9と、DL−
2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピペラジン
カルボキサミド)−2−(トリチルアミノチアゾール−
4−イル)酢酸カリウム塩341qを塩化メチレン6−
に溶解し、−201?:でピリジン160μt1オキシ
塩化リン65μtを加え同温度で30分間、さらに水冷
下で30分間攪拌した。
反応液を酸性水(pH3,0)、飽和重曹水、水で順次
洗浄し、柳04で乾燥後濃縮した。
得られたジアステレオマー、Rf=0.43の化合物と
Rf=0.26の化合物(シリカゲルのクロマトグラフ
ィー上酢酸エチルで展開)をシリカゲルのカラムクロマ
トグラフィー(展開溶媒:トルエンー酢酸エチル(1:
2))で分離、精製すると、次式 で示される7β−(2−(4−エチル−2゜3−ジオキ
ソ−1−ピペラジンカルボキサミド)−2−(2−)リ
チルアミノチアゾールー4−イル)アセトアミド〕−2
β−メチル−3−クロルメチル−1−オキサ−1−デチ
アー3−セフェムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエ
ステルを、それぞれ172W9(Rf=0.43の化合
物)、149〜(Rf =0.26の化合物)を得た。
Rf = 0.43の化合物: NMR(CDαfi)+δ(ppm) : 1.22 
(3H。
t 、 J=7.3Hz ) 、 1.26 (3H,
d 、 J=5.9Hz ) 、 3.47〜4.20
 (4H、m) 。
4.04.5.11 (2)I、ABq 、J=12.
4Hz)、4.11(2H,q、J−=7.3Hz)。
4.65 (IH,q 、 J=5.9Hz ) 、 
5.07(IH,d、J=4.0Hz)、5.55(I
H。
d、J=7.3Hz)j5.71(IH,dd。
J=3.7,9.5Hz)、6.26(IH,s)。
6.58(IH,s)、6.88(LH,a)。
7.20〜7.60 (25H,m)、7.85(IH
d、J=9.5Hz)、9.75(IH,d、J=7、
4  Hz  ) Rf=0.26の化合物: NMR(CDα3) 、δ(ppm):  1.21 
 (3H,t  。
J=7.1Hz  )  、  1.39  (3H、
d  、  J=6.6Hz)3.50〜4.18(4
H,m)4.04  。
5.1 6  (2H、ABq  、  J =1 2
.4Hz  )  。
4.11(2H,q、J=7.1Hz)、4.73(I
H、q  、J=6.6Hz  )、4.75  (I
H。
d  、  J=4.0Hz  )  、  5.50
  (LH、d  。
J=6.9Hz  )、5−64  (IH、dd  
、J=4.0  。
9.1Hz)、6.29(IH,s)  6.58(I
H。
s  )  、  6.87  (IH、s  )  
、  7.20〜7.50(25H,m)、7.57 
 (LH,d  、J =9.1Hz  )、9.77
  (IH,d  、J=6.9Hz)(2)以下、上
記化合物(Rf=0.43)について記述するが、他の
化合物(Rf = 0.26)も同様に処理する。
この化合物(Rf=0,43)113Ilvと2゜5−
ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチル−3−メルカプ
ト−5−オキソ−1,2,4−トリアジン・ナトリウム
塩23#vとNa117m1iとをD M F 0.5
 mgに溶解し、室温で2時間攪拌した。
反応液を酢酸エチル4−で希釈し、酸性水(pf13.
0)、次に水で洗浄し、Mg5o4で乾燥後濃縮した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:クロロホルム−メタノール(20:1))で精製
すると、 7β−(:2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−
ピペラジンカルボキサミド)−2−(2−トリチルアミ
ノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−2β−メチ
ル−3−(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メ
チル−5−オキソ−1,2,4−トリアジン−3−イル
)チオメチル−1−オキサ−1−デチアー3−セフェム
ー4−カルボン酸ジフェニルメチルエステルの115 
lIIgヲ得7’c。
(3)前項(2)の生成化合物115■をトリフルオロ
酢酸1.2−とアニソール0.2−との混液に水冷下加
え、同温度で30分間攪拌後、IPEを加え、生成する
沈澱を戸数した。
この沈澱と重曹351Niを水1−に溶解し、シリカゲ
ルのカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:水)で精製
すると目的の表題化合物(化合物随5)のジナトリウム
塩を得た。このものは下記の物性を示した。
IR(KBr)、シm6z(crn’):1765゜1
710.1675.161O NMR(D20) 、δ(ppm) : 1.18 (
3Het、J=7.4Hz)、1.35(3H,d。
J=6.6Hz ) 、 3.30〜4.10 (4H
、m) 。
3.50 (2H、’q 、 J=7.4Hz ) 、
 3.61(3H、s ) 、 3.94 、4.43
 (2H、ABq 。
J=13.3Hz)、5.12(IH,d、J=4.6
Hz)、5.42(LH,s)、5.43(LH,d、
J=4.6Hz)、6.76(IH。
S)、 他方、前記の化合物(Rf、=0.43)と同様にして
、Rf = 0.26の異性体から得た(6R17R)
−7−1m2− (2−7ミノチアゾーJL。
−4−イル)−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジンカルボキサミド)アセトアミド)−(2
S)−2−メチル−3−(2,5−ジヒドロ−6−ヒド
ロキシ−2−メチル−5−オキソ−1,2,4−1’リ
アジン−3−イル)チオメチル−1−オキサ−1−デチ
アー3−セフェムー4−カルボン酸(化合物随5)ジナ
トリウム塩は下記の物性を示した。
I R(KBr) 、νmax (ffi−’) : 
1763 。
1710.1678.161O NMR(D20) 、δ(ppm) : 1.18 (
3H、t。
J=7.3Hz ) 、 1.42 (3H,d 、 
J=6.6Hz ) 、 3.30〜4.10 (4H
、m) 、3.50(2)(、q 、 J =7.3H
z ) 、 3.62 (3H。
s)、3.94,4.44(2H,ABq、J=13.
9Hz)、5.17(LH,d、J=3.6Hz)、5
.37(LH,d、J=3.6Hz)。
5.43(IH,s)、6.74  (I  H、s 
 )実施例6 (6R,7R)−7−(2−(2−7ミノチアゾールー
4−イル)−2−(ホルムアミド)アセトアミド]−(
2S)−2−メチル−3−(2,5−ジヒドロ−6−ヒ
ドロキシ−2−メチル−5−オキソ−1,2,4−トリ
アジン−3−イル)チオメチル−1−オキサ−1−デチ
アー3−セフェムー4−カルボン酸(化合物m6)ジナ
トリウム塩の製造(1)7β−アミノ−2β−メチル−
3−クロルメチル−1−オキサゾチア−3−セフェム−
4−カルボン酸ジフェニルメチルエステル塩酸塩130
INiとDL−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)−2−ホルムアミド酢酸ナトリウム塩136
119を塩化メチレン10−に溶解し、−20℃でピリ
ジン105μt1オキシ塩化リン35μtを加え、同温
度で30分間、さらに水冷下で30分間攪拌した。
反応液を酸性水(pH3,0)、飽和重曹水、水で順次
洗浄し、4so 4で乾燥後濃縮した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:トルエンー酢酸エチル(1:1))で精製すると
、7β−(DL−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)−2−(ホルムアミド)アセトアミドツー
2.3−メチル−3−クロルメチル−1−オキサ−1−
デチアー3−セフェムー4−カルボン酸ジフェニルメチ
ルエステルの160岬を得た。
IR(C鱒、)、ν□3工(α−’):1776゜17
25.166O NMR(CDα、)、δ(ppm) : 1.27 、
1.3 g(3H,d )、4.05.5.13 (2
H。
ABq)、 4.66 、4.73 (IH,q ) 
、4.95 。
5.07(IH,d)、5.50.5.55(IH。
d)、5.64,5.71(IH,dd)、6.29(
IH,s)、6.58(IH,s)6.88(IH、s
  )  、7.20〜7.60  (25H、m) 
 。
8.34(IH,s)、9.77(LH,d)(2)前
項(1)の生成化合物1601Niと2.5−ジヒドロ
−6−ヒドロキシ−2−メチル−3−メルカプト−5−
オキソ−1,2,4−トリアジン・ナトリウム塩41〜
と沃化ナトリウム34rIliとをDMFl−に溶解し
、室温で1時間攪拌した。
反応液を酢酸エチル10−で希釈し、酸性水(pH3,
0)、次に水で洗浄し、Algso、で乾燥後濃縮した
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:クロロホルム−メタノール(10:1))で精製
すると、 7β−[:DL−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)−2−(ホルムアミド)アセトアミド〕−
2β−メチル−3−(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキ
シ−2−メチル−5−オキソ−1,2,4−トリアジン
−3−イル)チオメチル−1−オキサゾチア−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ジフェニルメチルエステルの15
0qを得た。
(3)前項(2)の生成化合物150119を水冷下に
トリフルオロ酢酸2−、アニソール0.2−の混液に加
え、同温度で30分間攪押抜lPE10−を加え、生成
する沈澱をF取した。
この沈澱物100q及び重曹50〜を水1adK溶解し
、ダイヤイオンHP−20のカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒:水)で精製すると、目的とする表題化合物
(化合物随6)のジナトリウム塩の55岬を得た。
NMR(D、O) 、δ(ppm) : 1.39 、
1.45(3H,d)、3.61(3H,s)、3.8
1゜4.42(2H,ABq)、5.12,5.16(
IH,d)、5.37,5.43(IH,d)。
5.42.5.43(IH,s)、6.76(IH。
s ) 、 8.18 (I H、s )実施例7 (6R,7R)−7−1:2−(2−7ミノチアゾール
ー4−イル)−2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−
1−ピペラジンカルボキサアミド)アセトアミド)−3
−(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチル−
5−オキソ−1,2,4−トリアジン−3−イル)チオ
メチル−1−オキサ−1−デチアー3−セフェムー4−
カルボン酸(化合物NfL7)ジナトリウム塩の製造 (1)7β−アミノ−3−クロルメチル−1−オキサゾ
チア−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル塩酸塩350■とDL−2−(4−エチル−2
,3−ジオキソ−1−ピペラジンカルボキサミド)−2
−(2−トリチルアミノチアゾール−4−イル)酢酸カ
リウム塩560s+yを塩化メチレン20mに溶解し、
−20℃でピリジン260μt、オキシ塩化リン85μ
tを加え、同温度で30分間さらに水冷下に30分間攪
拌した。
反応液を酸性水(pf13.0)、飽和重曹水、水で順
次洗浄し、A4gS04で乾燥後濃縮した。
得られるジアステレオマー、Rf=0.46の化合物、
Rf=0.24の化合物(シリカゲルのクロマトグラフ
ィー上酢酸エチルで展開)をシリカゲルのカラムクロマ
トグラフィー(展開溶媒:トルエンー酢酸エチル(1:
1))で分離、精製すると、 7β−(2−(4−エチル−2,3−ジオキソ−1−ピ
ペラジンカルボキサミド)−2−(2−トリチルアミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−クロルメ
チル−1−オキサゾチア−3−セフェム−4−カルボン
酸ジフェニルメチルエステルをそれぞれ180η(Rf
=0.46の化合物) 、 200IIq(Rf=0.
24の化合物)を得た。
Rf=0.46の化合物 NMR(CDcl、) 、δ(ppm) : 3.40
〜4.30(4H,m)、4.35.4.23(2H,
ABq 。
J=18Hz ) 、4.48.4.37 (2H。
ABq 、J=15Hz)、5.04(LH,d。
J=40Hz)、5.59(IH,d、J=10H2)
、5.75 (IH、dd l J=4″、10Hz)
6.23(IH,s)、6.68(IH,s)。
6.90(LH,s)、7.10〜7.60(25H*
  m  ) NMR(CDα、)、δ(ppm)  :  3.40
〜4.30(4H,m)、4.47(2H,s)、4.
59゜4.40(2H、ABq  j J=12Hz)
t5−66(IH,d、J=4Hz)、5.52(IH
d、J=9Hz)、5.67(IH,dd、J=4、 
9Hz)、6.28(IH,a)、6.68(11,s
)、6.89(IH,s)、7.10〜7.60(25
H,m) (2)以下、上記化合物(Rf=0.46)について記
述するが他の化合物(Rf=0.24)も同様に処理し
た。
この化合物(Rf=0.46)1251Niと2゜5−
ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチル−3−メルカプ
ト−5−オキソ−1,2,4−トリアジン・ナトリウム
塩25〜とNaI21ηとをDMFlrntに溶解し、
室温で1時間攪拌した。
反応液を酢酸エチル6ゴで希釈し、酸性水(pH3,0
)、水で洗浄し、A41so、で乾燥後濃縮′じた。
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:クロロホルム−メタノ−。
ル(10:1))で精製すると、 7β−(2−(4−エチル−2,3−ジオキン−1−ピ
ペラジンカルボキサミド)−2−(2−トリチルアミノ
チアゾール−4−イル)アセトアミド)−3−(2,5
−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチル−5−オキソ
−1,2,4−トリアジン−3−イル)チオメチル−1
−オキサ−1−デチアー3−セフェムー4−カルボン酸
ジフェニルメチルエステルの120〜を得た。
(3)  前項(2)の生成化合物120aFをトリフ
ルオロ酢酸1,2dとアニソ−九0.2−との混液に水
冷下加え、同温度で30分間攪拌後、rPEを加え、生
成する沈澱を戸数した。
この沈澱物と重曹32Iqとを水2dに溶解し、ダイヤ
イオンHP−200カラムクロマトグラフィー(展開溶
媒:水)で精製すると、目的とする表題化合物(化合物
N17)のジナトリウム塩50119を得た。
I R(KBr ) 、νmax (cIn−’) :
 1762 。
1710.1673.160O NMR(DtO)  、δ(ppm):1.18(3H
,t。
J=7.4Hz ) 、 3.50 (2H、q 、 
J =7.4Hz)、3.40〜4.10(4H,m)
、3.59(3H,s)、4.04,4.28(,2H
,ABq。
J=14.5Hz)s4.43(2H1s)。
5.12(LH,d、J=4.0Hz)、5.43(I
H,d、J−4,0Hz)、5.45(IH。
s)、6.68(LH,s) 他方化合物(Rf=0.24)よシ同様に得られる表題
化合物(化合物Nl17)のジナトリウム塩は下記の物
性を示した。
I R(KBr ) 、νmax(crR’) : 1
765 。
1710.1677.161O NMR(D、O)、δ(ppm)  :  1.18 
(3H、t  。
J==7.4Hz )  、 3.48 (2H、q 
 、 J=7.4Hz)、3.40〜4.10(4H,
m)、3.59(3H,s)、4.07,4.29(2
H,ABq。
J=14.3Hz )  、 4.47(2H,s)。
5.18 (LH、d  、 J=4.0Hz  ) 
 、 5.43(LH,d、J=4.0Hz)、5.4
5(IH。
s  )  、6.68  (IH,s  )実施例8 (6R,7R)−7−[:2−(2−7ミノチアゾール
ー4−イル)−2−(ホルムアミド)アセトアミド)−
3−(2,5−ジヒドロ一番−ヒドロキシ−2−メチル
−5−オキソ−1,2,4−1リアジン−3−イル)チ
オメチル−1−オキサ−1−デチアー3−セフェムー4
−カルボン酸(化合物m8)ジナトリウム塩の製造 (1)7β−アミノ−3−クロルメチル−1−オキサゾ
チア−3−セフェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル塩酸塩174〜とDL−2−(2−トリチルア
ミノチアゾール−4−イル)−2−ホルムアミド酢酸ナ
トリウム塩279〜を塩化メチレン10−に溶解し、−
20℃でピリジン130μt1オキシ塩化リン47μt
を加えて同温度で30分間、さらに水冷下で30分間攪
拌した。
反応液を酸性水(pH3,0)e飽和重曹水、水で順次
洗浄し、hIgS04で乾燥後濃縮した。
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:トルエンー酢酸エチル(1:l))で精製すると
、 7β−(DL−2−(2−トリチルアミノチアゾール−
4−イル)−2−(ホルムアミド)アセトアミド〕−3
−クロルメチル−1−オキサ−1−デチアー3−セフェ
ムー4−カルボン酸ジフェニルメチルエステルの235
〜を得た。
NMR(CDα3)、δ(ppm) : 4.30 、
4.61 。
4.32,4.60(2H,ABq)、4.30゜4.
43(2H,s)、5.OO,5,05(IH。
d)、5.50.5.52(IH,d)、5.55゜5
.66(IH,dd)、6.20,6.22(IH。
g)、6.60,6.64(LH,s)、6.89゜6
.96(IH,s)、7.10=7.70(25H,m
)、8.20,8.24(IH,5)(2)前項(1)
の生成化合物190〜と2.5−ジヒドロ−6−ヒドロ
キシ−2−メチル−3−メルカプト−5−オキソ−1,
2,4−トリアジン・ナトリウム塩50〜とNaI 4
2〜とをDMFlrntに溶解し、室温で1時間攪拌し
た。
反応液を酢酸エチル7rntで希釈し、酸性水(pH3
,o)、次に水で洗浄し、Mg5o、で乾燥後濃縮した
残留物をシリカゲルのカラムクロマトグラフィー(展開
溶媒:クロロホルム−メタノール(10:1))で精製
すると、 7β−[:DL−2−(2−トリチルアミノチアゾール
−4−イル)−2−(ホルムアミド)アセトアミド]−
3−(2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−2−メチル
−5−オキソ−1,2,4−トリアジン−3−イル)チ
オメチル−1−オキサ−1−デチアー3−セフェムー4
−カルボン酸ジフェニルメチルエステルの176〜を得
た。
(3)前項(2)の生成化合物176〜を水冷下でトリ
フロル酢酸2dとアニソール0.2コとの混液に加え、
同温度で30分間攪拌後、lPEl0−を加え、生成す
る沈澱を戸数した。
この沈澱物105#9と重曹54〜とを水1−に溶解し
、ダイヤイオンHP−200カラムクロマトグラフィー
(展開溶媒:水)で精製すると、目的とする表題化合物
(化合物Nα8)のジナトリウム塩62#vを得た。
NMR(D、O) 、δ(ppm) :3.60(3H
,s)。
3.96,4.25(2H,ABq)、4.43゜4.
48(2H,s)、5.10(IH,d)。
5.45(IH,s)  、5.38.5.56(IH
d)、6.64(IH,s)、8.13(IH。
S )

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但しR^4は低級アルキル(C_1〜C_6)たとえ
    ばメチル基又はエチル基である)で 表わされる基、あるいは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但しR^5は水素原子又は4−エチル−2,3−ジオ
    キソピペラジン−1−イル基、ま たは環内に唯一のヘテロ置換として窒素を 2原子有し且つ下記の式の環窒素に隣る炭 素上に少なくとも1つのヘテロ基を有する 5員または6員ヘテロ環基であり、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ *を付した炭素原子の部位の立体配置は(R)型又は(
    S)型、あるいはこれらの混合物である)で表わされる
    基であり、R^2とR^3は両者とも水素原子であるか
    、又はR^2とR^3の何れか一方が水素原子で他方が
    メチル基 である〕で示される1−オキサ−1−デチ アセフアロスポリン化合物、及びそれの薬 学的に許容できる水和物、塩ならびにエス テル。 2、次の一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R^1は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但しR^4は低級アルキル(C_1−C_6)たとえ
    ばメチル基又はエチル基である)で 表わされる基、あるいは式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但しR^5は水素原子又は4−エチル−2,3−ジオ
    キソピペラジン−1−イル基、ま たは環内に唯一のヘテロ置換として窒素を 2原子有し且つ下記の式の環窒素に隣る炭 素上に少なくとも1つのヘテロ基を有する 5員または6員ヘテロ環基であり、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
    表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
    、 ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ *を付した炭素原子の部位の立体配置は(R)型又は(
    S)型、あるいはこれらの混合物である)で表わされる
    基であり、R^2とR^3は両者とも水素原子であるか
    、又はR^2とR^3の何れか一方が水素原子で他方が
    メチル基 である〕で示される1−オキサ−1−デチ アセフアロスポリン化合物、及びそれの薬 学的に許容できる水和物、塩ならびにエス テルの少くとも一つの治療的有効量を有効 成分として含むことを特徴とする抗菌剤。 3、次の一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(IIb) 〔式中、R^aが水素原子でR^bがメチル基であるか
    、又はR^aがメチル基でR^bが水素原子であり、X
    は塩素、臭素又はヨウ素 原子であり、R^7は水素原子又はカルボキシル基の保
    護基である〕で示される1−オ キサ−1−デチアセフエム化合物。
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