JPH06345775A - セファロスポリン化合物、その製造法および中間体化合物 - Google Patents
セファロスポリン化合物、その製造法および中間体化合物Info
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- JPH06345775A JPH06345775A JP5134953A JP13495393A JPH06345775A JP H06345775 A JPH06345775 A JP H06345775A JP 5134953 A JP5134953 A JP 5134953A JP 13495393 A JP13495393 A JP 13495393A JP H06345775 A JPH06345775 A JP H06345775A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
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- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P31/00—Antiinfectives, i.e. antibiotics, antiseptics, chemotherapeutics
- A61P31/04—Antibacterial agents
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式(I)
【化１】
〔式中、Ｒ1 は水素原子、低級アルキル基またはヒドロ
キシ保護基を、Ｒ2 は水素原子または低級アルキル基
を、Ｒ3 は式−ＣＯＲ5 （式中、Ｒ5 は水素原子、置換
基を有していてもよい低級アルキル基、低級アルケニル
基）、式−ＣＯ2 Ｒ 6 、式−ＳＯ2 Ｒ6 、式−ＣＯＮＨ
Ｒ6 （前記式中、Ｒ6 は低級アルキル基）、または式−
ＣＯＮＨ2 で示される基を、Ｒ4 はカルボキシル基また
はエステル化されたカルボキシル基〕で表されるセファ
ロスポリン化合物またはその医薬として許容される塩、
その製造法および中間体化合物。 【効果】 本発明のセファロスポリン化合物は、グラム
陽性菌およびグラム陰性菌に対する抗菌活性および消化
管からの吸収性において、従来のものよりも一層優れた
ものである。
キシ保護基を、Ｒ2 は水素原子または低級アルキル基
を、Ｒ3 は式−ＣＯＲ5 （式中、Ｒ5 は水素原子、置換
基を有していてもよい低級アルキル基、低級アルケニル
基）、式−ＣＯ2 Ｒ 6 、式−ＳＯ2 Ｒ6 、式−ＣＯＮＨ
Ｒ6 （前記式中、Ｒ6 は低級アルキル基）、または式−
ＣＯＮＨ2 で示される基を、Ｒ4 はカルボキシル基また
はエステル化されたカルボキシル基〕で表されるセファ
ロスポリン化合物またはその医薬として許容される塩、
その製造法および中間体化合物。 【効果】 本発明のセファロスポリン化合物は、グラム
陽性菌およびグラム陰性菌に対する抗菌活性および消化
管からの吸収性において、従来のものよりも一層優れた
ものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、細菌感染症の予防・治
療剤等として有用な新規セファロスポリン化合物、その
製造法および当該セファロスポリン化合物製造用の中間
体化合物に関する。
療剤等として有用な新規セファロスポリン化合物、その
製造法および当該セファロスポリン化合物製造用の中間
体化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術・発明が解決しようとする課題】近年、感
染症治療薬としてのセファロスポリン化合物の研究の進
展はめざましく、抗菌力が強く、広範囲の抗菌スペクト
ルを有するセファロスポリン化合物が種々開発されてい
るが、耐性菌の出現や疾病の状況等に応じた、特徴ある
抗菌性および抗菌スペクトルを有するセファロスポリン
化合物の出現がさらに待望されている。また、従来のセ
ファロスポリン化合物は消化管からの吸収性に乏しく、
さらに経口投与に適したセファロスポリン化合物が要求
されている。
染症治療薬としてのセファロスポリン化合物の研究の進
展はめざましく、抗菌力が強く、広範囲の抗菌スペクト
ルを有するセファロスポリン化合物が種々開発されてい
るが、耐性菌の出現や疾病の状況等に応じた、特徴ある
抗菌性および抗菌スペクトルを有するセファロスポリン
化合物の出現がさらに待望されている。また、従来のセ
ファロスポリン化合物は消化管からの吸収性に乏しく、
さらに経口投与に適したセファロスポリン化合物が要求
されている。
【０００３】本発明の目的は、従来のものよりもさらに
優れた抗菌性および消化管からの吸収性を有するセファ
ロスポリン化合物を提供することにある。本発明の他の
目的は、かかるセファロスポリン化合物の製造方法を提
供することである。本発明のさらに他の目的はかかるセ
ファロスポリン化合物製造用に適した中間体を提供する
ことである。
優れた抗菌性および消化管からの吸収性を有するセファ
ロスポリン化合物を提供することにある。本発明の他の
目的は、かかるセファロスポリン化合物の製造方法を提
供することである。本発明のさらに他の目的はかかるセ
ファロスポリン化合物製造用に適した中間体を提供する
ことである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために種々研究を重ねてきたところ、下記の
一般式（Ｉ）で表わされる新規セファロスポリン化合物
が優れた抗菌性を有すること、また当該化合物は消化管
吸収性に優れ、経口用の抗菌剤として極めて有用なこと
を見出し、さらに当該化合物の製造法を確立するととも
に、当該化合物の製造に利用される新規な中間体化合物
を見出して、本発明を完成するに至った。
を達成するために種々研究を重ねてきたところ、下記の
一般式（Ｉ）で表わされる新規セファロスポリン化合物
が優れた抗菌性を有すること、また当該化合物は消化管
吸収性に優れ、経口用の抗菌剤として極めて有用なこと
を見出し、さらに当該化合物の製造法を確立するととも
に、当該化合物の製造に利用される新規な中間体化合物
を見出して、本発明を完成するに至った。
【０００５】即ち、本発明は、第一番目に、一般式
（Ｉ）
（Ｉ）
【０００６】
【化１０】
【０００７】（式中、Ｒ1 は水素原子、低級アルキル基
またはヒドロキシ保護基を、Ｒ2 は水素原子または低級
アルキル基を、Ｒ3 は式−ＣＯＲ5 で示される基（式
中、Ｒ5は水素原子、置換基を有していてもよい低級ア
ルキル基、または低級アルケニル基を示す。）、式−Ｃ
Ｏ2 Ｒ6 で示される基、式−ＳＯ2 Ｒ6 で示される基、
式−ＣＯＮＨＲ6 で示される基（式中、Ｒ6 は低級アル
キル基を示す。）、または式−ＣＯＮＨ2 で示される基
を、Ｒ4 はカルボキシル基またはエステル化されたカル
ボキシル基を示す。〕で表されるセファロスポリン化合
物〔以下、セファロスポリン化合物（Ｉ）という。〕ま
たはその医薬として許容される塩に関するものである。
本発明は、第二番目に、一般式(II)
またはヒドロキシ保護基を、Ｒ2 は水素原子または低級
アルキル基を、Ｒ3 は式−ＣＯＲ5 で示される基（式
中、Ｒ5は水素原子、置換基を有していてもよい低級ア
ルキル基、または低級アルケニル基を示す。）、式−Ｃ
Ｏ2 Ｒ6 で示される基、式−ＳＯ2 Ｒ6 で示される基、
式−ＣＯＮＨＲ6 で示される基（式中、Ｒ6 は低級アル
キル基を示す。）、または式−ＣＯＮＨ2 で示される基
を、Ｒ4 はカルボキシル基またはエステル化されたカル
ボキシル基を示す。〕で表されるセファロスポリン化合
物〔以下、セファロスポリン化合物（Ｉ）という。〕ま
たはその医薬として許容される塩に関するものである。
本発明は、第二番目に、一般式(II)
【０００８】
【化１１】
【０００９】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 はそれぞれ
前記と同意義。）で表される７−アミノセファロスポリ
ン化合物〔以下、化合物(II)という。〕またはその塩に
関する。本発明は、第三番目に、化合物(II)と、一般
式(III)
前記と同意義。）で表される７−アミノセファロスポリ
ン化合物〔以下、化合物(II)という。〕またはその塩に
関する。本発明は、第三番目に、化合物(II)と、一般
式(III)
【００１０】
【化１２】
【００１１】（式中、Ｒ1 は前記と同意義、Ｒ7 は水素
原子またはアミノ保護基を示す。）で表される化合物
〔以下、化合物(III) という〕またはその反応性誘導体
とを反応させる工程を経るか、
原子またはアミノ保護基を示す。）で表される化合物
〔以下、化合物(III) という〕またはその反応性誘導体
とを反応させる工程を経るか、
【００１２】 (1)一般式(IV)
【００１３】
【化１３】
【００１４】(式中、Ｒ1 、Ｒ2 、 Ｒ4 およびＲ7 は
それぞれ前記と同意義。)で表される化合物〔以下、化
合物(IV)という〕と一般式(V−1) Ｒ5-ＣＯ2 Ｈ (V−1) （式中、Ｒ5 は前記と同意義。)で表される化合物〔以
下、化合物(V−1)という〕とを反応させる工程を経る
か、(2)化合物(IV)と一般式(V−2) Ｒ6-ＯＣＯＸ (V−2) (式中、Ｒ6 は前記と同意義、Ｘはハロゲン原子を示
す。)で表される化合物〔以下、化合物(V−2)という〕
とを反応させる工程を経るか、(3)化合物(IV)と一般式
(V−3) Ｒ6-ＳＯ2 Ｘ (V−3) (式中、Ｒ6 およびＸは前記と同意義。)で表される化合
物〔以下、化合物(V−3)という〕とを反応させる工程を
経るか、(4)化合物(IV)とクロロスルホニルイソシアネ
ートあるいはトリクロロアセチルイソシアネートとを反
応させ、クロロスルホニルあるいはトリクロロアセチル
基を脱離させる工程を経るか、(5)化合物(IV)と一般式
(V−4) Ｒ6-ＮＣＯ (V−4) (式中、Ｒ6 は前記と同意義。)で表される化合物〔以
下、化合物(V−4)という〕とを反応させる工程を経る
か、
それぞれ前記と同意義。)で表される化合物〔以下、化
合物(IV)という〕と一般式(V−1) Ｒ5-ＣＯ2 Ｈ (V−1) （式中、Ｒ5 は前記と同意義。)で表される化合物〔以
下、化合物(V−1)という〕とを反応させる工程を経る
か、(2)化合物(IV)と一般式(V−2) Ｒ6-ＯＣＯＸ (V−2) (式中、Ｒ6 は前記と同意義、Ｘはハロゲン原子を示
す。)で表される化合物〔以下、化合物(V−2)という〕
とを反応させる工程を経るか、(3)化合物(IV)と一般式
(V−3) Ｒ6-ＳＯ2 Ｘ (V−3) (式中、Ｒ6 およびＸは前記と同意義。)で表される化合
物〔以下、化合物(V−3)という〕とを反応させる工程を
経るか、(4)化合物(IV)とクロロスルホニルイソシアネ
ートあるいはトリクロロアセチルイソシアネートとを反
応させ、クロロスルホニルあるいはトリクロロアセチル
基を脱離させる工程を経るか、(5)化合物(IV)と一般式
(V−4) Ｒ6-ＮＣＯ (V−4) (式中、Ｒ6 は前記と同意義。)で表される化合物〔以
下、化合物(V−4)という〕とを反応させる工程を経る
か、
【００１５】一般式(VI)
【００１６】
【化１４】
【００１７】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＸ
はそれぞれ前記と同意義。）で表される化合物〔以下、
化合物(VI)という〕と、一般式(VII)
はそれぞれ前記と同意義。）で表される化合物〔以下、
化合物(VI)という〕と、一般式(VII)
【００１８】
【化１５】
【００１９】（式中、Ｒ7 は前記と同意義。)で表され
る化合物〔以下、化合物(VII) という〕とを反応させる
工程を経るか、
る化合物〔以下、化合物(VII) という〕とを反応させる
工程を経るか、
【００２０】一般式(VIII)
【００２１】
【化１６】
【００２２】（式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ7 はそ
れぞれ前記と同意義。）で表される化合物〔以下、化合
物(VIII)という〕と、一般式(IX) Ｈ2 ＮＯＲ1 (IX) （式中、Ｒ1 は前記と同意義。)で表される化合物〔以
下、化合物(IX)という〕とを反応させる工程を経ること
を特徴とする、前記一般式（Ｉ）で表されるセファロス
ポリン化合物（Ｉ）またはその医薬として許容される塩
の製造法に関する。
れぞれ前記と同意義。）で表される化合物〔以下、化合
物(VIII)という〕と、一般式(IX) Ｈ2 ＮＯＲ1 (IX) （式中、Ｒ1 は前記と同意義。)で表される化合物〔以
下、化合物(IX)という〕とを反応させる工程を経ること
を特徴とする、前記一般式（Ｉ）で表されるセファロス
ポリン化合物（Ｉ）またはその医薬として許容される塩
の製造法に関する。
【００２３】以下に、本明細書において用いられる記号
について説明する。Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ6 における低級
アルキル基としては、好ましくは炭素数１〜６であり、
直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよく、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、sec-ブチル、t-ブチル、ペンチル、ヘキシル等が
挙げられる。
について説明する。Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ6 における低級
アルキル基としては、好ましくは炭素数１〜６であり、
直鎖状または分枝鎖状のいずれでもよく、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、sec-ブチル、t-ブチル、ペンチル、ヘキシル等が
挙げられる。
【００２４】Ｒ5 における置換基を有していてもよい低
級アルキル基における低級アルキル基部分は前述の定義
と同様であり、また置換基部分はシアノ基、ヒドロキシ
基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、シアノ置
換低級アルキルチオ基、ハロゲン置換低級アルキルチオ
基、低級アルカノイル基等が好ましい。ここに低級アル
コキシ基としては、炭素数が１〜６、より好ましくは１
〜３であるものが挙げられ、直鎖状、分枝鎖状のいずれ
のものでもよい。低級アルキルチオ基、シアノ置換低級
アルキルチオ基およびハロゲン置換低級アルキルチオ基
におけるアルキル部分の炭素数は、好ましくは１〜６、
より好ましくは１〜３で、直鎖状、分枝鎖状のいずれの
ものでもよい。ハロゲン置換低級アルキルチオ基におけ
るハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素
が挙げられる。また低級アルカノイル基における炭素数
は、好ましくは２〜６、より好ましくは２〜３で、直鎖
状、分枝鎖状のいずれのものでもよい。具体的に、置換
基を有する低級アルキル基としては、例えばシアノメチ
ル、1-シアノエチル、2-シアノエチル、1-シアノプロピ
ル、2-シアノプロピル、3-シアノプロピル、メトキシメ
チル、エトキシメチル、1-メトキシエチル、2-メトキシ
エチル、メチルチオメチル、エチルチオメチル、シアノ
メチルチオメチル、ジフルオロメチルチオメチル、アセ
チルメチル、プロピオニルメチル等が挙げられる。
級アルキル基における低級アルキル基部分は前述の定義
と同様であり、また置換基部分はシアノ基、ヒドロキシ
基、低級アルコキシ基、低級アルキルチオ基、シアノ置
換低級アルキルチオ基、ハロゲン置換低級アルキルチオ
基、低級アルカノイル基等が好ましい。ここに低級アル
コキシ基としては、炭素数が１〜６、より好ましくは１
〜３であるものが挙げられ、直鎖状、分枝鎖状のいずれ
のものでもよい。低級アルキルチオ基、シアノ置換低級
アルキルチオ基およびハロゲン置換低級アルキルチオ基
におけるアルキル部分の炭素数は、好ましくは１〜６、
より好ましくは１〜３で、直鎖状、分枝鎖状のいずれの
ものでもよい。ハロゲン置換低級アルキルチオ基におけ
るハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素
が挙げられる。また低級アルカノイル基における炭素数
は、好ましくは２〜６、より好ましくは２〜３で、直鎖
状、分枝鎖状のいずれのものでもよい。具体的に、置換
基を有する低級アルキル基としては、例えばシアノメチ
ル、1-シアノエチル、2-シアノエチル、1-シアノプロピ
ル、2-シアノプロピル、3-シアノプロピル、メトキシメ
チル、エトキシメチル、1-メトキシエチル、2-メトキシ
エチル、メチルチオメチル、エチルチオメチル、シアノ
メチルチオメチル、ジフルオロメチルチオメチル、アセ
チルメチル、プロピオニルメチル等が挙げられる。
【００２５】また、Ｒ5 における低級アルケニル基とし
ては、好ましくは炭素数が２〜６であるものが挙げら
れ、直鎖状、分枝鎖状のいずれのものでもよい。具体的
には、ビニル、アリル、１−プロペニル、イソプロペニ
ル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル
等が例示される。
ては、好ましくは炭素数が２〜６であるものが挙げら
れ、直鎖状、分枝鎖状のいずれのものでもよい。具体的
には、ビニル、アリル、１−プロペニル、イソプロペニ
ル、ブテニル、イソブテニル、ペンテニル、ヘキセニル
等が例示される。
【００２６】Ｒ4 に関して、エステル化されたカルボキ
シル基におけるエステルとしては、カルボキシル基の保
護基、または生体内で容易に加水分解されるエステル
（生体内で容易に加水分解されて遊離のカルボキシル基
を与えるもの）を意味する。
シル基におけるエステルとしては、カルボキシル基の保
護基、または生体内で容易に加水分解されるエステル
（生体内で容易に加水分解されて遊離のカルボキシル基
を与えるもの）を意味する。
【００２７】カルボキシル基の保護基としては、例えば
t-ブチル、t-アミル、ベンジル、p-ニトロベンジル、p-
メトキシベンジル、ベンズヒドリル、p-ニトロフェニ
ル、メトキシメチル、エトキシメチル、ベンジルオキシ
メチル、メチルチオメチル、トリチル、2,2,2-トリクロ
ロエチル、トリメチルシリル、ジメチルシリル、ジフェ
ニルメトキシベンゼンスルホニルメチル、ジメチルアミ
ノエチル等が挙げられる。
t-ブチル、t-アミル、ベンジル、p-ニトロベンジル、p-
メトキシベンジル、ベンズヒドリル、p-ニトロフェニ
ル、メトキシメチル、エトキシメチル、ベンジルオキシ
メチル、メチルチオメチル、トリチル、2,2,2-トリクロ
ロエチル、トリメチルシリル、ジメチルシリル、ジフェ
ニルメトキシベンゼンスルホニルメチル、ジメチルアミ
ノエチル等が挙げられる。
【００２８】また、生体内で容易に加水分解されるエス
テルとしては、例えば置換基を有していてもよいアリー
ル基（例えばフェニル、トリル、キシリル、インダニル
等）、1-アルカノイルオキシアルキル基、1-アルコキシ
カルボニルオキシアルキル基、フタリジル基、5-メチル
-1,3- ジオキソレン-2- オン-4- イルメチル基等が挙げ
られる。
テルとしては、例えば置換基を有していてもよいアリー
ル基（例えばフェニル、トリル、キシリル、インダニル
等）、1-アルカノイルオキシアルキル基、1-アルコキシ
カルボニルオキシアルキル基、フタリジル基、5-メチル
-1,3- ジオキソレン-2- オン-4- イルメチル基等が挙げ
られる。
【００２９】1-アルカノイルオキシアルキル基における
アルカノイル部分の炭素数は好ましくは２〜１０、より
好ましくは２〜７で、直鎖状、分枝鎖状、環状のいずれ
でもよく、またアルキル部分の炭素数は好ましくは１〜
３、より好ましくは１または２である。かかる基として
は、例えばアセトキシメチル、プロピオニルオキシメチ
ル、n-ブチリルオキシメチル、イソブチリルオキシメチ
ル、ピバロイルオキシメチル、n-バレリルオキシメチ
ル、2-メチルブチリルオキシメチル、イソバレリルオキ
シメチル、n-ヘキサノイルオキシメチル、3-メチルバレ
リルオキシメチル、ネオヘキサノイルオキシメチル、2-
メチルヘキサノイルオキシメチル、2,2-ジメチルブチリ
ルオキシメチル、ジエチルアセトキシメチル、ジプロピ
ルアセトキシメチル、2,2-ジメチルバレリルオキシメチ
ル、ネオヘプタノイルオキシメチル、シクロヘキサンカ
ルボニルオキシメチル、シクロヘキシルアセトキシメチ
ル、1-アセトキシエチル、1-プロピオニルオキシエチ
ル、1-n-ブチリルオキシエチル、1-イソブチリルオキシ
エチル、1-n-バレリルオキシエチル、1-ピバロイルオキ
シエチル、1-イソバレリルオキシエチル、1-n-ヘキサノ
イルオキシエチル、1-シクロヘキサンカルボニルオキシ
エチル等が挙げられる。
アルカノイル部分の炭素数は好ましくは２〜１０、より
好ましくは２〜７で、直鎖状、分枝鎖状、環状のいずれ
でもよく、またアルキル部分の炭素数は好ましくは１〜
３、より好ましくは１または２である。かかる基として
は、例えばアセトキシメチル、プロピオニルオキシメチ
ル、n-ブチリルオキシメチル、イソブチリルオキシメチ
ル、ピバロイルオキシメチル、n-バレリルオキシメチ
ル、2-メチルブチリルオキシメチル、イソバレリルオキ
シメチル、n-ヘキサノイルオキシメチル、3-メチルバレ
リルオキシメチル、ネオヘキサノイルオキシメチル、2-
メチルヘキサノイルオキシメチル、2,2-ジメチルブチリ
ルオキシメチル、ジエチルアセトキシメチル、ジプロピ
ルアセトキシメチル、2,2-ジメチルバレリルオキシメチ
ル、ネオヘプタノイルオキシメチル、シクロヘキサンカ
ルボニルオキシメチル、シクロヘキシルアセトキシメチ
ル、1-アセトキシエチル、1-プロピオニルオキシエチ
ル、1-n-ブチリルオキシエチル、1-イソブチリルオキシ
エチル、1-n-バレリルオキシエチル、1-ピバロイルオキ
シエチル、1-イソバレリルオキシエチル、1-n-ヘキサノ
イルオキシエチル、1-シクロヘキサンカルボニルオキシ
エチル等が挙げられる。
【００３０】また、1-アルコキシカルボニルオキシアル
キル基におけるアルコキシ部分の炭素数は好ましくは１
〜１０、より好ましくは１〜７で、直鎖状、分枝鎖状、
環状のいずれでもよく、またアルキル部分の炭素数は好
ましくは１〜３、より好ましくは１または２である。か
かる基としては、例えば1-メトキシカルボニルオキシエ
チル、1-エトキシカルボニルオキシエチル、1-n-プロポ
キシカルボニルオキシエチル、1-イソプロポキシカルボ
ニルオキシエチル、1-n-ブトキシカルボニルオキシエチ
ル、1-sec-ブトキシカルボニルオキシエチル、1-t-ブト
キシカルボニルオキシエチル、1-ペンチルオキシカルボ
ニルオキシエチル、1-シクロヘキシルオキシカルボニル
オキシエチル等が挙げられる。
キル基におけるアルコキシ部分の炭素数は好ましくは１
〜１０、より好ましくは１〜７で、直鎖状、分枝鎖状、
環状のいずれでもよく、またアルキル部分の炭素数は好
ましくは１〜３、より好ましくは１または２である。か
かる基としては、例えば1-メトキシカルボニルオキシエ
チル、1-エトキシカルボニルオキシエチル、1-n-プロポ
キシカルボニルオキシエチル、1-イソプロポキシカルボ
ニルオキシエチル、1-n-ブトキシカルボニルオキシエチ
ル、1-sec-ブトキシカルボニルオキシエチル、1-t-ブト
キシカルボニルオキシエチル、1-ペンチルオキシカルボ
ニルオキシエチル、1-シクロヘキシルオキシカルボニル
オキシエチル等が挙げられる。
【００３１】Ｒ1 におけるヒドロキシ保護基、およびＲ
7 におけるアミノ保護基としては、β−ラクタム合成お
よびペプチド合成の分野でこの目的に用いられているも
のが便宜的に採用され、具体的には次のものが例示され
る。
7 におけるアミノ保護基としては、β−ラクタム合成お
よびペプチド合成の分野でこの目的に用いられているも
のが便宜的に採用され、具体的には次のものが例示され
る。
【００３２】ヒドロキシ保護基としては、例えばホルミ
ル、アセチル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチ
ル、トリフルオロアセチル、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、2,2,2-ト
リクロロエトキシカルボニル、ベンゾイル、トリチル、
トリメチルシリル、テトラヒドロピラニル、1-メチル-1
−メトキシエチル等が挙げられる。
ル、アセチル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチ
ル、トリフルオロアセチル、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、2,2,2-ト
リクロロエトキシカルボニル、ベンゾイル、トリチル、
トリメチルシリル、テトラヒドロピラニル、1-メチル-1
−メトキシエチル等が挙げられる。
【００３３】アミノ保護基としては、例えばフタロイ
ル、ホルミル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチ
ル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシ
カルボニル、p-ニトロベンジルオキシカルボニル、ジフ
ェニルメチルオキシカルボニル、メトキシメチルカルボ
ニル、メトキシメチルオキシカルボニル、トリメチルシ
リル、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル、2-メチル
スルホニルエチルオキシカルボニル、t-ブトキシカルボ
ニル（以下、ＢＯＣという）、トリチル等が挙げられ
る。
ル、ホルミル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチ
ル、トリクロロアセチル、トリフルオロアセチル、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシ
カルボニル、p-ニトロベンジルオキシカルボニル、ジフ
ェニルメチルオキシカルボニル、メトキシメチルカルボ
ニル、メトキシメチルオキシカルボニル、トリメチルシ
リル、2,2,2-トリクロロエトキシカルボニル、2-メチル
スルホニルエチルオキシカルボニル、t-ブトキシカルボ
ニル（以下、ＢＯＣという）、トリチル等が挙げられ
る。
【００３４】Ｘにおけるハロゲン原子としては、フッ
素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
【００３５】セファロスポリン化合物（Ｉ）は、そのア
ミノ基またはカルボキシル基において、医薬として許容
される塩を形成していてもよい。
ミノ基またはカルボキシル基において、医薬として許容
される塩を形成していてもよい。
【００３６】アミノ基部分においては酸付加塩を形成す
るが、かかる酸付加塩を形成するための酸としては、ア
ミノ基部分と塩を形成し得、かつ医薬上許容される酸で
あれば特に制限はない。かかる酸としては塩酸、硫酸、
リン酸、硝酸等の無機酸、シュウ酸、フマル酸、マレイ
ン酸、クエン酸、酒石酸、メタンスルホン酸、トルエン
スルホン酸等の有機酸が挙げられる。
るが、かかる酸付加塩を形成するための酸としては、ア
ミノ基部分と塩を形成し得、かつ医薬上許容される酸で
あれば特に制限はない。かかる酸としては塩酸、硫酸、
リン酸、硝酸等の無機酸、シュウ酸、フマル酸、マレイ
ン酸、クエン酸、酒石酸、メタンスルホン酸、トルエン
スルホン酸等の有機酸が挙げられる。
【００３７】カルボキシル基における塩としては、例え
ばアルカリ金属塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩
等）、アルカリ土類金属塩（例えばカルシウム塩、マグ
ネシウム塩等）、有機塩基塩（例えばトリエチルアミン
塩、ジシクロヘキシルアミン塩、ピリジン塩等）が挙げ
られる。
ばアルカリ金属塩（例えばナトリウム塩、カリウム塩
等）、アルカリ土類金属塩（例えばカルシウム塩、マグ
ネシウム塩等）、有機塩基塩（例えばトリエチルアミン
塩、ジシクロヘキシルアミン塩、ピリジン塩等）が挙げ
られる。
【００３８】また、化合物（II）の塩としても上記の如
き医薬として許容される塩であることが好ましい。
き医薬として許容される塩であることが好ましい。
【００３９】さらに、下式で示されるセファロスポリン
化合物（Ｉ）の７位側鎖部分（Ｘ）
化合物（Ｉ）の７位側鎖部分（Ｘ）
【００４０】
【化１７】
【００４１】には、シン体、アンチ体の幾何異性体が存
在するが、好ましい化合物はシン体である。
在するが、好ましい化合物はシン体である。
【００４２】セファロスポリン化合物（Ｉ）およびその
医薬として許容される塩は、例えば次のようにして製造
される。
医薬として許容される塩は、例えば次のようにして製造
される。
【００４３】（製法１）化合物(II)と、化合物(III) ま
たはその反応性誘導体とを反応させる方法。 化合物(III) は遊離カルボン酸のまま、あるいはその反
応性誘導体として本反応（アシル化反応）に用いられ、
いずれの態様も本発明に包含される。即ち、遊離酸ある
いはナトリウム、カリウム、カルシウム、トリエチルア
ミン、ピリジン等の塩として、あるいはその酸ハライド
（酸クロライド、酸ブロマイド等）、酸無水物、混合酸
無水物〔置換リン酸（ジアルキルリン酸等）、アルキル
炭酸（モノエチル炭酸等）等〕、活性アミド（イミダゾ
ール等とのアミド）、エステル（シアノメチルエステ
ル、4-ニトロフェニルエステル等）等の反応性誘導体と
して当該アシル化反応に供される。
たはその反応性誘導体とを反応させる方法。 化合物(III) は遊離カルボン酸のまま、あるいはその反
応性誘導体として本反応（アシル化反応）に用いられ、
いずれの態様も本発明に包含される。即ち、遊離酸ある
いはナトリウム、カリウム、カルシウム、トリエチルア
ミン、ピリジン等の塩として、あるいはその酸ハライド
（酸クロライド、酸ブロマイド等）、酸無水物、混合酸
無水物〔置換リン酸（ジアルキルリン酸等）、アルキル
炭酸（モノエチル炭酸等）等〕、活性アミド（イミダゾ
ール等とのアミド）、エステル（シアノメチルエステ
ル、4-ニトロフェニルエステル等）等の反応性誘導体と
して当該アシル化反応に供される。
【００４４】また、この反応において、化合物(III) を
遊離酸または塩の状態で使用する場合には、縮合剤の存
在下で反応を行うのが好ましく、縮合剤としては、例え
ばN,N'−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のN,N'−ジ
置換カルボジイミド類；1-エチル-3-(3'−ジメチルアミ
ノプロピル) カルボジイミド、N-シクロヘキシル-N'-モ
ルホリノエチルカルボジイミド、N-シクロヘキシル-N'-
(4- ジエチルアミノシクロヘキシル) カルボジイミド等
のカルボジイミド化合物；N,N'−カルボニルジイミダゾ
ール、N,N'−チオニルジイミダゾールのようなアゾライ
ド化合物等の脱水剤等が用いられる。これらの縮合剤を
用いた場合、反応はカルボン酸の反応性誘導体を経て進
行すると考えられる。
遊離酸または塩の状態で使用する場合には、縮合剤の存
在下で反応を行うのが好ましく、縮合剤としては、例え
ばN,N'−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のN,N'−ジ
置換カルボジイミド類；1-エチル-3-(3'−ジメチルアミ
ノプロピル) カルボジイミド、N-シクロヘキシル-N'-モ
ルホリノエチルカルボジイミド、N-シクロヘキシル-N'-
(4- ジエチルアミノシクロヘキシル) カルボジイミド等
のカルボジイミド化合物；N,N'−カルボニルジイミダゾ
ール、N,N'−チオニルジイミダゾールのようなアゾライ
ド化合物等の脱水剤等が用いられる。これらの縮合剤を
用いた場合、反応はカルボン酸の反応性誘導体を経て進
行すると考えられる。
【００４５】本反応は、通常不活性溶媒中で行われる。
溶媒としては、具体的には水、アセトン、ジオキサン、
アセトニトリル、クロロホルム、ベンゼン、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、
N,N-ジメチルホルムアミド、ピリジン等、およびこれら
の混合物が挙げられる。本反応は、好ましくは室温〜冷
却下（−２０℃〜０℃）にて行われる。
溶媒としては、具体的には水、アセトン、ジオキサン、
アセトニトリル、クロロホルム、ベンゼン、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、
N,N-ジメチルホルムアミド、ピリジン等、およびこれら
の混合物が挙げられる。本反応は、好ましくは室温〜冷
却下（−２０℃〜０℃）にて行われる。
【００４６】また、化合物(II)は、一般式(XI)
【００４７】
【化１８】
【００４８】（式中、Ｒ2 およびＲ4 はそれぞれ前記と
同意義、Ｒ8 は水素原子またはアミノ保護基を示す。）
で表される化合物〔以下、化合物(XI)という〕またはそ
れらの塩を用い、前述のセファロスポリン化合物（Ｉ）
の製造法の(1) 〜(5) の方法に準じて反応させ、必要
に応じてスルホキシド化、スルホキシドの還元を行い、
Ｒ8 の保護基を除去する方法により製造することができ
る。
同意義、Ｒ8 は水素原子またはアミノ保護基を示す。）
で表される化合物〔以下、化合物(XI)という〕またはそ
れらの塩を用い、前述のセファロスポリン化合物（Ｉ）
の製造法の(1) 〜(5) の方法に準じて反応させ、必要
に応じてスルホキシド化、スルホキシドの還元を行い、
Ｒ8 の保護基を除去する方法により製造することができ
る。
【００４９】本反応は、通常は−２０〜４０℃、好まし
くは−２０〜０℃の冷却下、反応を阻害しない溶媒（例
えば水、ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロフ
ラン、クロロホルム、塩化メチレン、ベンゼン、酢酸エ
チル、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセト
アミド、ジメチルスルホキシド等、およびこれらの混合
物）の存在下に容易に進行させることができる。
くは−２０〜０℃の冷却下、反応を阻害しない溶媒（例
えば水、ジオキサン、アセトニトリル、テトラヒドロフ
ラン、クロロホルム、塩化メチレン、ベンゼン、酢酸エ
チル、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセト
アミド、ジメチルスルホキシド等、およびこれらの混合
物）の存在下に容易に進行させることができる。
【００５０】化合物(XI)のＲ8 におけるアミノ保護基と
しては、自体既知のアミノ保護基、例えばフェニルアセ
チル、フェノキシアセチル、2-チエニルアセチル、2-フ
リルアセチル、D-5-アミノ-5- カルボキシバレリル、Ｂ
ＯＣ、トリチル、フタロイル、o-ヒドロキシベンジリデ
ン等が挙げられる。
しては、自体既知のアミノ保護基、例えばフェニルアセ
チル、フェノキシアセチル、2-チエニルアセチル、2-フ
リルアセチル、D-5-アミノ-5- カルボキシバレリル、Ｂ
ＯＣ、トリチル、フタロイル、o-ヒドロキシベンジリデ
ン等が挙げられる。
【００５１】本反応において、化合物(XI)中のＲ8 はア
ミノ保護基であることが好ましく、この場合、化合物(X
I)を用いる反応によって、一般式(II)における７位のア
ミノ基が保護された化合物が得られるが、保護基は自体
既知の脱離手段にて脱離することができる。
ミノ保護基であることが好ましく、この場合、化合物(X
I)を用いる反応によって、一般式(II)における７位のア
ミノ基が保護された化合物が得られるが、保護基は自体
既知の脱離手段にて脱離することができる。
【００５２】当該アミノ保護基の脱離手段としては、具
体的には以下の方法等が挙げられる。即ち、フェニルア
セチル、フェノキシアセチル、2-チエニルアセチル、2-
フリルアセチル、D-5-アミノ-5- カルボキシバレリル等
の脱離には、例えば五塩化リンによるイミノクロル化を
経てメタノールで分解する方法等が、ＢＯＣ、トリチ
ル、o-ヒドロキシベンジリデン等の脱離には、例えば酸
（例えば塩酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸等）によって処
理する方法等が、フタロイル等の脱離には例えばヒドラ
ジンを用いるIng-Manske法等が挙げられる。
体的には以下の方法等が挙げられる。即ち、フェニルア
セチル、フェノキシアセチル、2-チエニルアセチル、2-
フリルアセチル、D-5-アミノ-5- カルボキシバレリル等
の脱離には、例えば五塩化リンによるイミノクロル化を
経てメタノールで分解する方法等が、ＢＯＣ、トリチ
ル、o-ヒドロキシベンジリデン等の脱離には、例えば酸
（例えば塩酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸等）によって処
理する方法等が、フタロイル等の脱離には例えばヒドラ
ジンを用いるIng-Manske法等が挙げられる。
【００５３】（製法２） 化合物(IV)と化合物(V−1)〜
(V−4)とを反応させる方法。 本反応は、通常は−２０〜４０℃、好ましくは−２０〜
０℃の冷却下、反応を阻害しない溶媒（例えば水、ジオ
キサン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、クロロ
ホルム、塩化メチレン、ベンゼン、酢酸エチル、N,N-ジ
メチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキシド等、およびこれらの混合物）の存在下
に容易に進行させることができる。
(V−4)とを反応させる方法。 本反応は、通常は−２０〜４０℃、好ましくは−２０〜
０℃の冷却下、反応を阻害しない溶媒（例えば水、ジオ
キサン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、クロロ
ホルム、塩化メチレン、ベンゼン、酢酸エチル、N,N-ジ
メチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメ
チルスルホキシド等、およびこれらの混合物）の存在下
に容易に進行させることができる。
【００５４】また、化合物(IV)はＲ2 が水素原子の場合
は、一般式(XII)
は、一般式(XII)
【００５５】
【化１９】
【００５６】〔式中、Ｒ1 、Ｒ4 およびＲ7 はそれぞれ
前記と同意義、Ｙはヒドロキシ基またはハロゲン原子
（フッ素、塩素、臭素またはヨウ素）を示す。〕で表さ
れる化合物〔以下、化合物(XII) という〕に、N-ヒドロ
キシフタルイミドを反応させ、フタロイル基を脱離する
ことにより製造することができる。
前記と同意義、Ｙはヒドロキシ基またはハロゲン原子
（フッ素、塩素、臭素またはヨウ素）を示す。〕で表さ
れる化合物〔以下、化合物(XII) という〕に、N-ヒドロ
キシフタルイミドを反応させ、フタロイル基を脱離する
ことにより製造することができる。
【００５７】Ｒ2 が低級アルキルの場合は、Ｒ2 が水素
原子の化合物(IV)に一般式(XIII) Ｒ6 −Ｘ (XIII) （式中、Ｒ6 およびＸはそれぞれ前記と同意義。）で表
される化合物を反応させるか、Ｒ2 が水素原子の化合物
(IV)に一般式(XIV)
原子の化合物(IV)に一般式(XIII) Ｒ6 −Ｘ (XIII) （式中、Ｒ6 およびＸはそれぞれ前記と同意義。）で表
される化合物を反応させるか、Ｒ2 が水素原子の化合物
(IV)に一般式(XIV)
【００５８】
【化２０】
【００５９】（式中、Ｒ2 およびＲ6 はそれぞれ前記と
同意義。）で表される化合物を反応させ、一般式(XV)
同意義。）で表される化合物を反応させ、一般式(XV)
【００６０】
【化２１】
【００６１】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 、Ｒ6 およびＲ
7 はそれぞれ前記と同意義。）で表される化合物に導
き、これを還元することにより製造することができる。
また、化合物（XI）もこれらの方法に準じて製造するこ
とができる。
7 はそれぞれ前記と同意義。）で表される化合物に導
き、これを還元することにより製造することができる。
また、化合物（XI）もこれらの方法に準じて製造するこ
とができる。
【００６２】（製法３）化合物(VI)と化合物(VII) とを
反応させる方法。 本反応は、通常ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、アルコールまたは反応に悪影響を及ぼさない他の
溶媒、またはそれらと水との混合物等の溶媒中で行われ
る。反応に要する時間は通常３０分〜１０数時間であ
る。反応温度は特に限定されないが、通常室温〜６０℃
である。
反応させる方法。 本反応は、通常ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、アルコールまたは反応に悪影響を及ぼさない他の
溶媒、またはそれらと水との混合物等の溶媒中で行われ
る。反応に要する時間は通常３０分〜１０数時間であ
る。反応温度は特に限定されないが、通常室温〜６０℃
である。
【００６３】また、化合物(VI)は公知の方法、即ち、一
般式(XVI) Ｘ−ＣＨ2-ＣＯＣＨ2-ＣＯ2 Ｈ (XVI) （式中、Ｘは前記と同意義。）で表される化合物〔以
下、化合物(XVI) という〕またはその反応性誘導体に
て、化合物(II)をアシル化し、さらにニトロソ化、オキ
シム化する方法により製造することができる。
般式(XVI) Ｘ−ＣＨ2-ＣＯＣＨ2-ＣＯ2 Ｈ (XVI) （式中、Ｘは前記と同意義。）で表される化合物〔以
下、化合物(XVI) という〕またはその反応性誘導体に
て、化合物(II)をアシル化し、さらにニトロソ化、オキ
シム化する方法により製造することができる。
【００６４】（製法４）化合物(VIII)と化合物(IX)とを
反応させる方法。 本反応は、通常ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、アルコールまたは反応に悪影響を及ぼさない他の
溶媒、またはそれらと水との混合物等の溶媒中で行われ
る。反応に要する時間は通常３０分〜１０数時間であ
る。反応温度は特に限定されないが、通常室温〜６０℃
である。
反応させる方法。 本反応は、通常ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、アルコールまたは反応に悪影響を及ぼさない他の
溶媒、またはそれらと水との混合物等の溶媒中で行われ
る。反応に要する時間は通常３０分〜１０数時間であ
る。反応温度は特に限定されないが、通常室温〜６０℃
である。
【００６５】また、化合物(VIII)は公知の方法、即ち、
一般式(XVII)
一般式(XVII)
【００６６】
【化２２】
【００６７】（式中、Ｒ7 は前記と同意義。）で表され
る化合物〔以下、化合物(XVII)という〕またはその反応
性誘導体にて、化合物(II)をアシル化する方法により製
造することができる。
る化合物〔以下、化合物(XVII)という〕またはその反応
性誘導体にて、化合物(II)をアシル化する方法により製
造することができる。
【００６８】上記のそれぞれの方法により得られたセフ
ァロスポリン化合物（Ｉ）あるいは化合物(II)におい
て、Ｒ4 がカルボキシル基あるいはその塩の場合は、必
要に応じてその反応性誘導体（例えばナトリウム塩、カ
リウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩等のアルカ
リ土類金属塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩等）に
導き、公知の方法でエステル化を行い、Ｒ4 がエステル
化されたカルボキシル基である化合物（Ｉ）あるいは化
合物(II)とすることができる。
ァロスポリン化合物（Ｉ）あるいは化合物(II)におい
て、Ｒ4 がカルボキシル基あるいはその塩の場合は、必
要に応じてその反応性誘導体（例えばナトリウム塩、カ
リウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩等のアルカ
リ土類金属塩、トリエチルアミン塩、ピリジン塩等）に
導き、公知の方法でエステル化を行い、Ｒ4 がエステル
化されたカルボキシル基である化合物（Ｉ）あるいは化
合物(II)とすることができる。
【００６９】また、上記のそれぞれの方法で得られたセ
ファロスポリン化合物（Ｉ）およびその医薬として許容
される塩は、通常保護基を有している。保護基の脱離手
段としては、その保護基の種類に応じて、酸による分解
（例えばホルミル、ＢＯＣ、トリチル、テトラヒドロピ
ラニル等は、塩酸やトリフルオロ酢酸等の酸による分
解）、塩基による分解（例えばジクロロアセチル、トリ
フルオロアセチル等は、水酸化ナトリウムや重炭酸ナト
リウム等の塩基による分解）、ヒドラジンによる分解
（例えばフタロイル等はヒドラジンによる分解）、接触
還元（例えばベンジル、ベンジルオキシカルボニル等
は、パラジウム−炭素等による分解）等の方法が採ら
れ、これらは、β−ラクタム合成およびペプチド合成で
用いられる常法を適宜選択して行うことができる。セフ
ァロスポリン化合物（Ｉ）は、自体既知の方法によっ
て、その医薬として許容される塩にすることができる。
ファロスポリン化合物（Ｉ）およびその医薬として許容
される塩は、通常保護基を有している。保護基の脱離手
段としては、その保護基の種類に応じて、酸による分解
（例えばホルミル、ＢＯＣ、トリチル、テトラヒドロピ
ラニル等は、塩酸やトリフルオロ酢酸等の酸による分
解）、塩基による分解（例えばジクロロアセチル、トリ
フルオロアセチル等は、水酸化ナトリウムや重炭酸ナト
リウム等の塩基による分解）、ヒドラジンによる分解
（例えばフタロイル等はヒドラジンによる分解）、接触
還元（例えばベンジル、ベンジルオキシカルボニル等
は、パラジウム−炭素等による分解）等の方法が採ら
れ、これらは、β−ラクタム合成およびペプチド合成で
用いられる常法を適宜選択して行うことができる。セフ
ァロスポリン化合物（Ｉ）は、自体既知の方法によっ
て、その医薬として許容される塩にすることができる。
【００７０】
【作用】Ｒ4 がカルボキシル基であるセファロスポリン
化合物（Ｉ）およびその医薬として許容される塩は、優
れた抗菌活性を有するものであり、スタフィロコッカス
・アウレウス(Staphylococcus aureus) 、スタフィロコ
ッカス・エピデルミディス(Staphylococcus epidermidi
s)等のグラム陽性菌、エシェリヒア・コリー(Escherich
ia coli)、クレブシラ・ニューモニア(Klebsiella pneu
moniae) 、プロテウス・ブルガリス(Proteus vulgari
s)、プロテウス・ミラビリス(Proteus mirabillis)等の
グラム陰性菌のいずれに対しても極めて優れた抗菌活性
を有する。即ち、当該セファロスポリン化合物（Ｉ）お
よびその医薬として許容される塩は、グラム陰性菌に対
する抗菌力が保持されながら、グラム陽性菌に対する抗
菌力も著しく向上された価値のある抗菌剤である。しか
も、これら化合物は極めて低毒性である。
化合物（Ｉ）およびその医薬として許容される塩は、優
れた抗菌活性を有するものであり、スタフィロコッカス
・アウレウス(Staphylococcus aureus) 、スタフィロコ
ッカス・エピデルミディス(Staphylococcus epidermidi
s)等のグラム陽性菌、エシェリヒア・コリー(Escherich
ia coli)、クレブシラ・ニューモニア(Klebsiella pneu
moniae) 、プロテウス・ブルガリス(Proteus vulgari
s)、プロテウス・ミラビリス(Proteus mirabillis)等の
グラム陰性菌のいずれに対しても極めて優れた抗菌活性
を有する。即ち、当該セファロスポリン化合物（Ｉ）お
よびその医薬として許容される塩は、グラム陰性菌に対
する抗菌力が保持されながら、グラム陽性菌に対する抗
菌力も著しく向上された価値のある抗菌剤である。しか
も、これら化合物は極めて低毒性である。
【００７１】セファロスポリン化合物（Ｉ）およびその
医薬として許容される塩は、感染症（特に、細菌感染
症）予防・治療剤として有用である。当該感染症予防・
治療剤は、例えば人を含む温血動物（犬、ネコ、牛、
馬、ラット、マウス等）の細菌に起因する疾患（例えば
化膿性疾患、呼吸器感染症、胆道感染症、尿路感染症
等）に対する予防・治療剤として用いることができる。
医薬として許容される塩は、感染症（特に、細菌感染
症）予防・治療剤として有用である。当該感染症予防・
治療剤は、例えば人を含む温血動物（犬、ネコ、牛、
馬、ラット、マウス等）の細菌に起因する疾患（例えば
化膿性疾患、呼吸器感染症、胆道感染症、尿路感染症
等）に対する予防・治療剤として用いることができる。
【００７２】Ｒ4 がカルボキシル基であるセファロスポ
リン化合物（Ｉ）およびその医薬として許容される塩
は、直腸用組成物（例えば坐剤または貯留浣腸）とし
て、あるいは注射剤として処方することができる。
リン化合物（Ｉ）およびその医薬として許容される塩
は、直腸用組成物（例えば坐剤または貯留浣腸）とし
て、あるいは注射剤として処方することができる。
【００７３】Ｒ4 がエステル化されたカルボキシル基で
あるセファロスポリン化合物（Ｉ）およびその医薬とし
て許容される塩は、経口投与することによって速やかに
血中へ吸収されて、その代謝物としてのＲ4 がカルボキ
シル基であるセファロスポリン化合物（Ｉ）またはその
医薬として許容される塩の高い血中濃度が得られ、しか
もこの高血中濃度が長時間持続する。
あるセファロスポリン化合物（Ｉ）およびその医薬とし
て許容される塩は、経口投与することによって速やかに
血中へ吸収されて、その代謝物としてのＲ4 がカルボキ
シル基であるセファロスポリン化合物（Ｉ）またはその
医薬として許容される塩の高い血中濃度が得られ、しか
もこの高血中濃度が長時間持続する。
【００７４】またＲ4 がエステル化されたカルボキシル
基であるセファロスポリン化合物（Ｉ）は、その医薬と
して許容される塩とすることによって消化管内での溶解
性が著しく高まり、吸収効率がさらに改善され、吸収性
が一層高まる。
基であるセファロスポリン化合物（Ｉ）は、その医薬と
して許容される塩とすることによって消化管内での溶解
性が著しく高まり、吸収効率がさらに改善され、吸収性
が一層高まる。
【００７５】従って、Ｒ4 がエステル化されたカルボキ
シル基であるセファロスポリン化合物（Ｉ）またはその
医薬として許容される塩よりなる感染症予防・治療剤
は、経口投与によって上述の通りの優れた作用を有する
ものであり、通常は経口剤として経口的に投与される。
シル基であるセファロスポリン化合物（Ｉ）またはその
医薬として許容される塩よりなる感染症予防・治療剤
は、経口投与によって上述の通りの優れた作用を有する
ものであり、通常は経口剤として経口的に投与される。
【００７６】当該感染症予防・治療剤は、自体公知の手
段に従って医薬用賦形剤で希釈することにより製造する
ことができる。例えば、賦形剤としては具体的には、デ
ンプン、乳糖、砂糖、炭酸カルシウム、リン酸カルシウ
ム等が使用される。
段に従って医薬用賦形剤で希釈することにより製造する
ことができる。例えば、賦形剤としては具体的には、デ
ンプン、乳糖、砂糖、炭酸カルシウム、リン酸カルシウ
ム等が使用される。
【００７７】また、当該感染症予防・治療剤にはさらに
有機酸を添加することが好ましい。かくしてＲ4 がエス
テル化されたカルボキシル基であるセファロスポリン化
合物（Ｉ）およびその医薬として許容される塩の消化管
での溶解性が高まり、ひいては血中への吸収がより容易
になる。有機酸としては医薬上許容されるものであれば
特に制限はなく、例えばマレイン酸、フマル酸、酒石
酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、シュウ酸、マンデ
ル酸、マロン酸、安息香酸等の有機カルボン酸等が好ま
しいものとして挙げられる。かかる有機酸の添加量は、
Ｒ4 がエステル化されたカルボキシル基であるセファロ
スポリン化合物（Ｉ）またはその医薬として許容される
塩の１モルに対して、通常０．０１〜２０モル、好まし
くは０．０２〜２モルである。
有機酸を添加することが好ましい。かくしてＲ4 がエス
テル化されたカルボキシル基であるセファロスポリン化
合物（Ｉ）およびその医薬として許容される塩の消化管
での溶解性が高まり、ひいては血中への吸収がより容易
になる。有機酸としては医薬上許容されるものであれば
特に制限はなく、例えばマレイン酸、フマル酸、酒石
酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、シュウ酸、マンデ
ル酸、マロン酸、安息香酸等の有機カルボン酸等が好ま
しいものとして挙げられる。かかる有機酸の添加量は、
Ｒ4 がエステル化されたカルボキシル基であるセファロ
スポリン化合物（Ｉ）またはその医薬として許容される
塩の１モルに対して、通常０．０１〜２０モル、好まし
くは０．０２〜２モルである。
【００７８】当該感染症予防・治療剤には、所望により
さらに他の添加剤を配合してもよく、例えば結合剤（例
えばデンプン、アラビアゴム、カルボキシメチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロース、結晶セルロース
等）、滑沢剤（例えばステアリン酸マグネシウム、タル
ク等）、崩壊剤（例えばカルボキシメチルセルロースカ
ルシウム、タルク等）等が好ましい添加剤として挙げら
れる。諸成分を混合したのち、混合物を自体公知の手段
に従い、例えばカプセル剤、錠剤、細粒剤、顆粒剤、ド
ライシロップ等経口投与に適した剤型に製剤化すること
によって、経口投与用の感染症予防・治療剤が製造され
る。
さらに他の添加剤を配合してもよく、例えば結合剤（例
えばデンプン、アラビアゴム、カルボキシメチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロース、結晶セルロース
等）、滑沢剤（例えばステアリン酸マグネシウム、タル
ク等）、崩壊剤（例えばカルボキシメチルセルロースカ
ルシウム、タルク等）等が好ましい添加剤として挙げら
れる。諸成分を混合したのち、混合物を自体公知の手段
に従い、例えばカプセル剤、錠剤、細粒剤、顆粒剤、ド
ライシロップ等経口投与に適した剤型に製剤化すること
によって、経口投与用の感染症予防・治療剤が製造され
る。
【００７９】セファロスポリン化合物（Ｉ）およびその
医薬として許容される塩の投与量は、投与対象、症状、
その他によって異なるが、例えば成人の化膿性疾患に対
して投与する場合、例えば１回量約１〜４０ mg/kg体重
程度を１日１〜４回程度経口投与する。
医薬として許容される塩の投与量は、投与対象、症状、
その他によって異なるが、例えば成人の化膿性疾患に対
して投与する場合、例えば１回量約１〜４０ mg/kg体重
程度を１日１〜４回程度経口投与する。
【００８０】また、当該セファロスポリン化合物（Ｉ）
およびその医薬として許容される塩は、他の抗菌活性物
質、例えば抗菌剤（ペニシリン類、アミノグルコシド
類、セファロスポリン類等）または細菌感染による全身
的な症状の治療剤（解熱剤、鎮痛剤、消炎剤等）と併用
してもよい。
およびその医薬として許容される塩は、他の抗菌活性物
質、例えば抗菌剤（ペニシリン類、アミノグルコシド
類、セファロスポリン類等）または細菌感染による全身
的な症状の治療剤（解熱剤、鎮痛剤、消炎剤等）と併用
してもよい。
【００８１】次に実施例を挙げて本発明化合物の物性お
よび製造法を具体的に説明するが、本発明はこれらによ
って限定されるものではない。
よび製造法を具体的に説明するが、本発明はこれらによ
って限定されるものではない。
【００８２】
実施例１ ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−アセチルアミ
ノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリ
ウム塩（シン異性体） (１) 五塩化リン２５．５ｇを塩化メチレン２３０ｍｌ
に懸濁し、５℃にて、ピリジン９．５ｍｌを加え、同温
度にて１時間攪拌した。７−（２−フェニルアセトアミ
ド）−３−フタルイミドオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル３６．０
ｇを加え、同温度にてさらに１時間攪拌後、−５℃にて
イソブタノール２５ｍｌを滴下し、−５〜０℃にて１時
間攪拌した。水２５ｍｌを滴下し、０℃にて３０分間攪
拌後、１０％食塩水３００ｍｌにて洗浄し、水層を塩化
メチレン１００ｍｌにて抽出した。塩化メチレン層を合
わせ、１０％食塩水３００ｍｌにて洗浄し、無水芒硝に
て乾燥後、９．１５Ｎ塩化水素イソプロパノール溶液
３．２１ｍｌを加え、減圧下、塩化メチレンを留去し
た。残渣に酢酸エチル２００ｍｌを加え、固形物を濾取
し、７−アミノ−３−フタルイミドオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエス
テル塩酸塩２３．２ｇを得た。
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−アセチルアミ
ノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリ
ウム塩（シン異性体） (１) 五塩化リン２５．５ｇを塩化メチレン２３０ｍｌ
に懸濁し、５℃にて、ピリジン９．５ｍｌを加え、同温
度にて１時間攪拌した。７−（２−フェニルアセトアミ
ド）−３−フタルイミドオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルエステル３６．０
ｇを加え、同温度にてさらに１時間攪拌後、−５℃にて
イソブタノール２５ｍｌを滴下し、−５〜０℃にて１時
間攪拌した。水２５ｍｌを滴下し、０℃にて３０分間攪
拌後、１０％食塩水３００ｍｌにて洗浄し、水層を塩化
メチレン１００ｍｌにて抽出した。塩化メチレン層を合
わせ、１０％食塩水３００ｍｌにて洗浄し、無水芒硝に
て乾燥後、９．１５Ｎ塩化水素イソプロパノール溶液
３．２１ｍｌを加え、減圧下、塩化メチレンを留去し
た。残渣に酢酸エチル２００ｍｌを加え、固形物を濾取
し、７−アミノ−３−フタルイミドオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエス
テル塩酸塩２３．２ｇを得た。
【００８３】ＩＲ（nujol, cm -1）1790，1730 ＮＭＲ（DMSO-d6 , δppm) 3.00 - 5.00 (br, 3H, -N+ H 3 ) 3.74 (s, 3H, -OCH 3 ) 3.99 (s, 2H, C2 -H2 ) 4.90 - 5.20 (m, 4H, C3 -CH 2 -, -CO2 CH2 -) 5.27 (s, 2H, C6,7 -H) 6.85, 7.15 (ABq, J=9.0Hz, 4H, フェニル) 7.85 (s, 4H, フェニル)
【００８４】(２) (１) の化合物５．０ｇをアニソー
ル５ｍｌに懸濁し、トリフルオロ酢酸１５ｍｌを加え、
氷冷下１時間攪拌した。イソプロピルエーテル２００ｍ
ｌ中に注加し、析出物を濾取し、７−アミノ−３−フタ
ルイミドオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
塩酸塩５．０ｇを得た。得られた粉末を塩化メチレン１
００ｍｌに懸濁し、Ｎ−トリメチルシリルアセタミド１
２．３４ｇを加え、３０℃にて１時間攪拌後、−１０℃
に冷却した。一方、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１．
３ｍｌに酢酸エチル６．５ｍｌを加え、−１０℃に冷却
し、オキシ塩化リン１．５５ｍｌを滴下し、同温度にて
３０分間攪拌した。２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−トリチルオキシイミノ酢酸（シン
異性体）７．５８ｇ及び塩化メチレン８０ｍｌを加え、
同温度にて３０分間攪拌し、先の溶液に−１０〜−５℃
にて滴下した。同温度にて１時間攪拌し、１０％クエン
酸水２００ｍｌにて洗浄し、水層を塩化メチレン１００
ｍｌにて抽出した。塩化メチレン層を合わせ、飽和食塩
水１００ｍｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧
下、溶液を濃縮した。得られた溶液をイソプロピルエー
テル中に注加し、固形物を濾取し、７−〔２−（２−ト
リチルアミノチアゾール−４−イル）−２−トリチルオ
キシイミノ−アセトアミド〕−３−フタルイミドオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）
１０．２８ｇを得た。
ル５ｍｌに懸濁し、トリフルオロ酢酸１５ｍｌを加え、
氷冷下１時間攪拌した。イソプロピルエーテル２００ｍ
ｌ中に注加し、析出物を濾取し、７−アミノ−３−フタ
ルイミドオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
塩酸塩５．０ｇを得た。得られた粉末を塩化メチレン１
００ｍｌに懸濁し、Ｎ−トリメチルシリルアセタミド１
２．３４ｇを加え、３０℃にて１時間攪拌後、−１０℃
に冷却した。一方、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１．
３ｍｌに酢酸エチル６．５ｍｌを加え、−１０℃に冷却
し、オキシ塩化リン１．５５ｍｌを滴下し、同温度にて
３０分間攪拌した。２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−トリチルオキシイミノ酢酸（シン
異性体）７．５８ｇ及び塩化メチレン８０ｍｌを加え、
同温度にて３０分間攪拌し、先の溶液に−１０〜−５℃
にて滴下した。同温度にて１時間攪拌し、１０％クエン
酸水２００ｍｌにて洗浄し、水層を塩化メチレン１００
ｍｌにて抽出した。塩化メチレン層を合わせ、飽和食塩
水１００ｍｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧
下、溶液を濃縮した。得られた溶液をイソプロピルエー
テル中に注加し、固形物を濾取し、７−〔２−（２−ト
リチルアミノチアゾール−４−イル）−２−トリチルオ
キシイミノ−アセトアミド〕−３−フタルイミドオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）
１０．２８ｇを得た。
【００８５】ＩＲ（nujol, cm -1）1790, 1730, 1680 ＮＭＲ（DMSO-d6 , δppm ） 3.84 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.97 (br.s, 2H, C3 -CH 2 -) 5.15 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.90 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.64 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.10 - 7.60 (m, 30H, フェニル x 6) 7.84 (s, 4H,フェニル) 9.00 - 9.30 (br, 1H, チアゾール C2 -NH-) 9.95 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 5.00 - 10.00 (br, 1H, -CO2 H)
【００８６】(３) (２）の化合物７．１ｇをメタノー
ル−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド (２：１) の混液１
０５ｍｌに溶解し、５℃にてトリエチルアミン１．４４
ｍｌ、次いでヒドラジンヒドラート４５０ｍｇを加え、
同温度にて３０分間攪拌した。次いで塩化アセチル１．
４７ｍｌを加え、同温度にて１．５時間攪拌後、メタノ
ールを減圧下留去した。酢酸エチル２００ｍｌを加え、
１０％クエン酸水１５０ｍｌにて洗浄後、水層を酢酸エ
チル１００ｍｌにて抽出した。酢酸エチル層を合わせ、
飽和食塩水１００ｍｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥
後、ジシクロヘキシルアミン１．６ｍｌを加え、減圧
下、酢酸エチルを留去した。残渣にジエチルエーテル５
０ｍｌを加え、固形物を濾取した。得られた粉末に酢酸
エチル３０ｍｌを加え、１０％クエン酸水、飽和食塩水
各々３０ｍｌにて順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、ジ
フェニルジアゾメタン２．０ｇを加え、室温にて１時間
攪拌した。減圧下、酢酸エチルを留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸
エチルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下留去し、７
−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−３−ア
セチルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）１．７ｇを
得た。
ル−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド (２：１) の混液１
０５ｍｌに溶解し、５℃にてトリエチルアミン１．４４
ｍｌ、次いでヒドラジンヒドラート４５０ｍｇを加え、
同温度にて３０分間攪拌した。次いで塩化アセチル１．
４７ｍｌを加え、同温度にて１．５時間攪拌後、メタノ
ールを減圧下留去した。酢酸エチル２００ｍｌを加え、
１０％クエン酸水１５０ｍｌにて洗浄後、水層を酢酸エ
チル１００ｍｌにて抽出した。酢酸エチル層を合わせ、
飽和食塩水１００ｍｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥
後、ジシクロヘキシルアミン１．６ｍｌを加え、減圧
下、酢酸エチルを留去した。残渣にジエチルエーテル５
０ｍｌを加え、固形物を濾取した。得られた粉末に酢酸
エチル３０ｍｌを加え、１０％クエン酸水、飽和食塩水
各々３０ｍｌにて順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、ジ
フェニルジアゾメタン２．０ｇを加え、室温にて１時間
攪拌した。減圧下、酢酸エチルを留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸
エチルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下留去し、７
−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−３−ア
セチルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）１．７ｇを
得た。
【００８７】ＩＲ（nujol, cm -1）1790, 1735, 1680 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.66 (s, 3H, -CH3 ) 3.50 - 3.80 (m, 2H, C2 -H2 ) 4.59 (br.s, 2H, C3 -CH 2 -) 5.22 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.92 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.60 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 6.90 (s, 1H, -CO2 CH<) 7.00 - 7.70 (m, 40H, フェニル x 8) 8.72 (br.s, 1H, チアゾール C2 -NH-) 9.91 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 10.70 - 11.20 (br, 1H, -NHSO2 -)
【００８８】(４) （３）の化合物１．１ｇをアニソー
ル１．１ｍｌに溶解し、５℃にてトリフルオロ酢酸４．
４ｍｌを加え、同温度にて６時間攪拌後、イソプロピル
エーテル１５０ｍｌ中に注加し、析出物を濾取した。得
られた粉末を水５０ｍｌに懸濁し、飽和重曹水にてｐＨ
＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−２１ ５
０ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル水にて
溶出させ、目的分画を減圧下、濃縮後、凍結乾燥し、標
題化合物１５０ｍｇを得た。
ル１．１ｍｌに溶解し、５℃にてトリフルオロ酢酸４．
４ｍｌを加え、同温度にて６時間攪拌後、イソプロピル
エーテル１５０ｍｌ中に注加し、析出物を濾取した。得
られた粉末を水５０ｍｌに懸濁し、飽和重曹水にてｐＨ
＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−２１ ５
０ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル水にて
溶出させ、目的分画を減圧下、濃縮後、凍結乾燥し、標
題化合物１５０ｍｇを得た。
【００８９】ＩＲ（nujol, cm -1）1765, 1670 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.67 (s, 3H, -CH3 ) 3.20 - 3.80 (m, 2H, C2 -H2 ) 4.48 (br.s, 2H, C3 -CH 2 -) 4.97 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.65 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.64 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.09 (br.s, 2H, -NH2 ) 9.41 (d, J=8.0Hz, -CONH-) 11.30 - 12.30 (br, 2H, -OH, -ONH-)
【００９０】実施例２ ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−シアノアセチ
ルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム塩（シン異性体）
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−シアノアセチ
ルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ナトリウム塩（シン異性体）
【００９１】(１) シアノ酢酸３．４２ｇを塩化メチレ
ン３４ｍｌに溶解し、５℃にてＮ，Ｎ−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド３．９６ｇを加え、同温度にて３０分
間攪拌した。一方、実施例１（２）の化合物２．３５ｇ
をメタノール−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５：
１）の混液２８ｍｌに溶解し、５℃にてトリエチルアミ
ン０．３４ｍｌ、次いで１０％ヒドラジンヒドラート
メタノール溶液１．２ｍｌを加え、同温度にて３０分間
攪拌後、先の溶液を加え、同温度にてさらに３０分間攪
拌した。減圧下メタノールを留去し、酢酸エチル１００
ｍｌを加え、１０％クエン酸水１００ｍｌにて洗浄後、
不溶物を濾過した。二層を分離し、水層を酢酸エチル５
０ｍｌにて抽出し、酢酸エチル層を合わせ、５％重曹
水、飽和食塩水各々１００ｍｌにて順次洗浄後、無水芒
硝にて乾燥した。減圧下、酢酸エチルを留去し、残渣に
ジエチルエーテル３０ｍｌを加え、固形物を濾取した。
得られた固形物を酢酸エチル２０ｍｌに溶解し、ジフェ
ニルジアゾメタン３００ｍｇを加え、室温にて、３０分
間攪拌後、減圧下酢酸エチルを留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸
エチルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下留去し、７
−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−３−シ
アノアセチルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）４５
０ｍｇを得た。
ン３４ｍｌに溶解し、５℃にてＮ，Ｎ−ジシクロヘキシ
ルカルボジイミド３．９６ｇを加え、同温度にて３０分
間攪拌した。一方、実施例１（２）の化合物２．３５ｇ
をメタノール−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５：
１）の混液２８ｍｌに溶解し、５℃にてトリエチルアミ
ン０．３４ｍｌ、次いで１０％ヒドラジンヒドラート
メタノール溶液１．２ｍｌを加え、同温度にて３０分間
攪拌後、先の溶液を加え、同温度にてさらに３０分間攪
拌した。減圧下メタノールを留去し、酢酸エチル１００
ｍｌを加え、１０％クエン酸水１００ｍｌにて洗浄後、
不溶物を濾過した。二層を分離し、水層を酢酸エチル５
０ｍｌにて抽出し、酢酸エチル層を合わせ、５％重曹
水、飽和食塩水各々１００ｍｌにて順次洗浄後、無水芒
硝にて乾燥した。減圧下、酢酸エチルを留去し、残渣に
ジエチルエーテル３０ｍｌを加え、固形物を濾取した。
得られた固形物を酢酸エチル２０ｍｌに溶解し、ジフェ
ニルジアゾメタン３００ｍｇを加え、室温にて、３０分
間攪拌後、減圧下酢酸エチルを留去した。残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸
エチルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下留去し、７
−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−３−シ
アノアセチルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）４５
０ｍｇを得た。
【００９２】 ＩＲ（nujol, cm -1）2260, 1790, 1725, 1690 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 3.48 (s, 2H, -CH2 CN) 3.72 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.62 (br.s, 2H, C3 -CH 2 -) 5.22 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.94 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.60 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 6.91 (s, 1H, -CO2 CH<) 7.00 - 7.70 (m, 40H, フェニル x 8) 8.71 (br.s, 1H, チアゾール C2 -NH-) 9.89 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 11.44 (br.s, 1H, -ONH-)
【００９３】(２) (１) の化合物０．７５ｇをアニソ
ール０．７５ｍｌに溶解し、５℃にてトリフルオロ酢酸
２．３ｍｌを加え、同温度にて４時間攪拌後、イソプロ
ピルエーテル１００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し
た。得られた粉末を水３０ｍｌに懸濁し、飽和重曹水に
てｐＨ＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−２
１３０ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル水
にて溶出させ、目的分画を減圧下濃縮後、凍結乾燥し、
標題化合物１５０ｍｇを得た。
ール０．７５ｍｌに溶解し、５℃にてトリフルオロ酢酸
２．３ｍｌを加え、同温度にて４時間攪拌後、イソプロ
ピルエーテル１００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し
た。得られた粉末を水３０ｍｌに懸濁し、飽和重曹水に
てｐＨ＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−２
１３０ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル水
にて溶出させ、目的分画を減圧下濃縮後、凍結乾燥し、
標題化合物１５０ｍｇを得た。
【００９４】ＩＲ（nujol, cm -1）2260, 1765, 1675 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 3.20 - 3.81 (m, 4H, C2 -H2 , -CH 2 CN) 4.45 (br.s, 2H, C3 -CH 2 -) 4.98 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.50 - 5.90 (m, 1H , C7 -H) 6.65 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.12 (br.s, 2H, -NH2 ) 9.20 - 9.60 (m, 1H, -CONH-) 10.00 - 13.50 (br, 2H, -OH, -ONH-)
【００９５】実施例３ ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−ホルミルアミ
ノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリ
ウム塩（シン異性体） （１）実施例１（２）の化合物７．０ｇを、メタノール
５０ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１４ｍｌの混
液に溶解し、５℃にてトリエチルアミン０．８３ｍｌ、
次いで１０％ヒドラジンヒドラート メタノール溶液
４．９５ｍｌを加え、同温度にて、１５分間攪拌した。
次いで、ギ酸のＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステル
２．３４ｇを加え、同温度にて３０分間攪拌後、減圧下
メタノールを留去した。酢酸エチル１００ｍｌを加え、
１０％クエン酸水１００ｍｌにて洗浄し、水層を酢酸エ
チル５０ｍｌにて抽出した。酢酸エチル層を合わせ、飽
和食塩水１００ｍｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、
得られた溶液にジフェニルジアゾメタン３ｇを加え、室
温にて３０分間攪拌した。減圧下酢酸エチルを留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ベ
ンゼン−酢酸エチルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧
下留去し、７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミ
ド〕−３−ホルミルアミノオキシメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性
体）２．３ｇを得た。
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−ホルミルアミ
ノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリ
ウム塩（シン異性体） （１）実施例１（２）の化合物７．０ｇを、メタノール
５０ｍｌ、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１４ｍｌの混
液に溶解し、５℃にてトリエチルアミン０．８３ｍｌ、
次いで１０％ヒドラジンヒドラート メタノール溶液
４．９５ｍｌを加え、同温度にて、１５分間攪拌した。
次いで、ギ酸のＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステル
２．３４ｇを加え、同温度にて３０分間攪拌後、減圧下
メタノールを留去した。酢酸エチル１００ｍｌを加え、
１０％クエン酸水１００ｍｌにて洗浄し、水層を酢酸エ
チル５０ｍｌにて抽出した。酢酸エチル層を合わせ、飽
和食塩水１００ｍｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、
得られた溶液にジフェニルジアゾメタン３ｇを加え、室
温にて３０分間攪拌した。減圧下酢酸エチルを留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ベ
ンゼン−酢酸エチルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧
下留去し、７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミ
ド〕−３−ホルミルアミノオキシメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性
体）２．３ｇを得た。
【００９６】ＩＲ（nujol, cm -1）1790, 1725, 1685 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 3.73 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.62 (br.s, 2H, C3 -CH 2 -) 5.22 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.93 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.59 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 6.91 (s, 1H, -CO2 CH<) 7.00 - 7.70 (m, 40H, フェニル x 8) 7.81 (s, 1H, -CHO) 8.70 (s, 1H, チアゾール C2 -NH-) 9.89 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 11.07 (s, 1H, -NH CHO)
【００９７】（２）（１）の化合物２．２ｇをアニソー
ル２．２ｍｌに溶解し、５℃にてトリフルオロ酢酸６．
６ｍｌを加え、同温度にて３時間攪拌後、イソプロピル
エーテル１５０ｍｌ中に注加し、析出物を濾取した。得
られた粉末を水１００ｍｌに懸濁し、飽和重曹水にてｐ
Ｈ＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−２１１
００ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル水に
て溶出させ、目的分画を減圧下濃縮後、凍結乾燥し、標
題化合物３３０ｍｇを得た。
ル２．２ｍｌに溶解し、５℃にてトリフルオロ酢酸６．
６ｍｌを加え、同温度にて３時間攪拌後、イソプロピル
エーテル１５０ｍｌ中に注加し、析出物を濾取した。得
られた粉末を水１００ｍｌに懸濁し、飽和重曹水にてｐ
Ｈ＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−２１１
００ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル水に
て溶出させ、目的分画を減圧下濃縮後、凍結乾燥し、標
題化合物３３０ｍｇを得た。
【００９８】ＩＲ（nujol, cm -1）1770, 1675 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 3.34，3.62 (ABq, J=17.0Hz, 2H, C2 -H2 ) 4.56 (s, 2H, C3 -CH 2 -) 5.00 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.66 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.32 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.11 (br.s, 2H, -NH2 ) 7.74 (s, 1H, -CHO) 9.41 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 11.00 - 12.80 (br, 2H, -ONH-, -OH)
【００９９】実施例４ ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メチル
−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸ナトリウム塩（シン異性体） （１）７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕
−３−メチリデンアミノオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
２．０４ｇを、テトラヒドロフラン−メタノール（１：
１）の混液２０．４ｍｌに溶解し、２Ｎ−塩化水素メタ
ノール溶液にてｐＨ＝２．０とした。水素化シアノほう
素ナトリウム１５０ｍｇを加え、ｐＨ＝２．０〜２．５
で、室温にて３０分間攪拌した。冷水１００ｍｌを加
え、減圧下溶媒を留去し、食塩１０ｇ、重曹１．０ｇを
加え、酢酸エチル１００ｍｌにて抽出した。酢酸エチル
層を飽和食塩水５０ｍｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥
後、減圧下酢酸エチルを留去し、泡状粉末２．１ｇを得
た。得られた粉末を塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、氷
冷下、ギ酸のＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステル３
１３ｍｇを加え、同温度にて１時間攪拌した。酢酸エチ
ル１００ｍｌを加え、１０％クエン酸水、飽和食塩水各
々５０ｍｌにて順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧
下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンに
て溶出し、目的分画の溶媒を減圧下留去し、、７−〔２
−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−２−
トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性
体）１．７３ｇを得た。
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メチル
−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸ナトリウム塩（シン異性体） （１）７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕
−３−メチリデンアミノオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
２．０４ｇを、テトラヒドロフラン−メタノール（１：
１）の混液２０．４ｍｌに溶解し、２Ｎ−塩化水素メタ
ノール溶液にてｐＨ＝２．０とした。水素化シアノほう
素ナトリウム１５０ｍｇを加え、ｐＨ＝２．０〜２．５
で、室温にて３０分間攪拌した。冷水１００ｍｌを加
え、減圧下溶媒を留去し、食塩１０ｇ、重曹１．０ｇを
加え、酢酸エチル１００ｍｌにて抽出した。酢酸エチル
層を飽和食塩水５０ｍｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥
後、減圧下酢酸エチルを留去し、泡状粉末２．１ｇを得
た。得られた粉末を塩化メチレン２０ｍｌに溶解し、氷
冷下、ギ酸のＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステル３
１３ｍｇを加え、同温度にて１時間攪拌した。酢酸エチ
ル１００ｍｌを加え、１０％クエン酸水、飽和食塩水各
々５０ｍｌにて順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧
下溶媒を留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンに
て溶出し、目的分画の溶媒を減圧下留去し、、７−〔２
−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−２−
トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性
体）１．７３ｇを得た。
【０１００】ＩＲ（nujol, cm -1）1795, 1730, 1685 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 2.89 (s, 3H, -CH3 ) 3.73 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.63 (br.s, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.28 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.94 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.59 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 6.96 (s, 1H, -CO2 CH<) 7.00 - 7.70 (m, 40H, フェニル x 8) 7.80 - 8.40 (br, 1H, -CHO) 8.71 (s, 1H,チアゾール C2 -NH-) 9.91 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-)
【０１０１】（２）（１）の化合物１．６５ｇをアニソ
ール１．６５ｍｌに溶解し、５℃にてトリフルオロ酢酸
４．９ｍｌを加え、同温度にて４時間攪拌後、イソプロ
ピルエーテル１００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し
た。得られた粉末を水７５ｍｌに懸濁し、飽和重曹水に
てｐＨ＝７．２とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−２
１７５ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル水
にて溶出させ、目的分画を減圧下濃縮後、凍結乾燥し、
標題化合物３５０ｍｇを得た。
ール１．６５ｍｌに溶解し、５℃にてトリフルオロ酢酸
４．９ｍｌを加え、同温度にて４時間攪拌後、イソプロ
ピルエーテル１００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し
た。得られた粉末を水７５ｍｌに懸濁し、飽和重曹水に
てｐＨ＝７．２とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−２
１７５ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル水
にて溶出させ、目的分画を減圧下濃縮後、凍結乾燥し、
標題化合物３５０ｍｇを得た。
【０１０２】ＩＲ（nujol, cm -1）1770, 1665 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 3.09 (s, 3H, -CH 3) 3.20 - 3.80 (m, 2H, C2 -H2 ) 4.65，4.80 (ABq, J=12.0Hz, 2H, C3 -CH 2 -) 5.02 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.64 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.64 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.13 (br.s, 2H, -NH2 ) 8.26 (br.s, 1H, -CHO) 9.47 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 11.40 - 12.80 (br, 1H, -OH)
【０１０３】実施例５ ７−アミノ−３−メトキシカルボニルアミノオキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸 (１) ７−アミノ−３−クロロメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル２６．
１ｇをテトラヒドロフラン２５０ｍｌに溶解し、ジ−ｔ
−ブチル−ジ−カーボネート２３．２ｇを加え室温にて
２０時間攪拌した。減圧下、テトラヒドロフランを留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ベン
ゼン−酢酸エチルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下
留去し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−クロ
ロメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メトキ
シベンジルエステル３０．０ｇを得た。
ル−３−セフェム−４−カルボン酸 (１) ７−アミノ−３−クロロメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル２６．
１ｇをテトラヒドロフラン２５０ｍｌに溶解し、ジ−ｔ
−ブチル−ジ−カーボネート２３．２ｇを加え室温にて
２０時間攪拌した。減圧下、テトラヒドロフランを留去
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ベン
ゼン−酢酸エチルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下
留去し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−クロ
ロメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メトキ
シベンジルエステル３０．０ｇを得た。
【０１０４】 ＩＲ（nujol, cm -1） 3320, 1790, 1720, 1515 ＮＭＲ（DMSO-d6 , δppm) 1.40 (s, 9H, -OC(CH 3) 3 ) 3.49, 3.73 (ABq, J=12.0Hz, 2H, C2 -H2 ) 3.76 (s, 3H, -OCH 3 ) 4.49 (s, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.09 (d, J=5.0Hz, 1H, C 6 -H) 5.19 (s, 2H, -CO2 CH2 -) 5.48 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.92, 7.36 (ABq, J=9.0Hz, 4H, フェニル) 7.98 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH- )
【０１０５】(２) (１) の化合物３０．０ｇをアセト
ン３００ｍｌに溶解し、ヨウ化ナトリウム９．５ｇを加
え、２５〜３０℃にて３０分間攪拌した。減圧下アセト
ンを留去し、酢酸エチル３００ｍｌを加え、１０％食塩
水，５％チオ硫酸ナトリウム水、飽和食塩水各々３００
ｍｌにて順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧下、酢
酸エチルを留去し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
−３−ヨードメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ｐ−メトキシベンジルエステルの粉末３４．２ｇを得
た。Ｎ−ヒドロキシフタルイミド１１．１４ｇをＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド１６０ｍｌに溶解し、水素化ナ
トリウム (60% oil suspension )２．０５ｇを加え、３
０〜３５℃にて３０分間攪拌した。２０℃に冷却し、先
の７−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−ヨードメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メトキシベン
ジルエステル３４．１ｇを加え、２０℃以下で３０分間
攪拌した。水１リットルに注加し、析出物を濾取し得ら
れた固形物を塩化メチレン１リットルに溶解した。５％
重曹水５００ｍｌにて２回、飽和食塩水５００ｍｌにて
順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧下、塩化メチレ
ンを留去した。得られた結晶性残渣にジエチルエーテル
を加え濾取し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３
−フタロイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル２７．１ｇを得
た。
ン３００ｍｌに溶解し、ヨウ化ナトリウム９．５ｇを加
え、２５〜３０℃にて３０分間攪拌した。減圧下アセト
ンを留去し、酢酸エチル３００ｍｌを加え、１０％食塩
水，５％チオ硫酸ナトリウム水、飽和食塩水各々３００
ｍｌにて順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧下、酢
酸エチルを留去し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
−３−ヨードメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ｐ−メトキシベンジルエステルの粉末３４．２ｇを得
た。Ｎ−ヒドロキシフタルイミド１１．１４ｇをＮ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド１６０ｍｌに溶解し、水素化ナ
トリウム (60% oil suspension )２．０５ｇを加え、３
０〜３５℃にて３０分間攪拌した。２０℃に冷却し、先
の７−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−ヨードメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸 ｐ−メトキシベン
ジルエステル３４．１ｇを加え、２０℃以下で３０分間
攪拌した。水１リットルに注加し、析出物を濾取し得ら
れた固形物を塩化メチレン１リットルに溶解した。５％
重曹水５００ｍｌにて２回、飽和食塩水５００ｍｌにて
順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧下、塩化メチレ
ンを留去した。得られた結晶性残渣にジエチルエーテル
を加え濾取し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３
−フタロイルオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸 ｐ−メトキシベンジルエステル２７．１ｇを得
た。
【０１０６】 ＩＲ（nujol, cm -1）3340, 1780, 1725, 1685, 1515 ＮＭＲ（DMSO-d6 , δppm ） 1.40 (s, 9H, -OC(CH3 ) 3 ) 3.70 - 4.00 (m, 2H, -C2 -H2 ) 3.74 (s, 3H, -OCH3 ) 4.90 - 5.20 (m, 5H, C3 -CH 2 -, C6 -H, -CO 2CH 2
-) 5.50 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.85, 7.15 (ABq, J=9.0Hz, 4H, フェニル) 7.85 (s, 4H,フェニル) 7.99 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-)
-) 5.50 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.85, 7.15 (ABq, J=9.0Hz, 4H, フェニル) 7.85 (s, 4H,フェニル) 7.99 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-)
【０１０７】(３) (２）の化合物２７．０ｇにフェノ
ール８１ｇを加え、４５〜５０℃にて５．５時間攪拌し
た。イソプロピルエーテル２リットルに溶解し、ジシク
ロヘキシルアミン１０．８ｍｌを加え、氷冷下１０分間
攪拌した。析出晶を濾取し、塩化メチレン５００ｍｌに
溶解後、１０％クエン酸水５００ｍｌにて２回，飽和食
塩水５００ｍｌにて順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、
減圧下塩化メチレンを留去した。残渣を酢酸エチル５０
ｍｌに溶解後、イソプロピルエーテル５００ｍｌに注加
し、析出物を濾取し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ−３−フタロイルオキシメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸１５．１ｇを得た。
ール８１ｇを加え、４５〜５０℃にて５．５時間攪拌し
た。イソプロピルエーテル２リットルに溶解し、ジシク
ロヘキシルアミン１０．８ｍｌを加え、氷冷下１０分間
攪拌した。析出晶を濾取し、塩化メチレン５００ｍｌに
溶解後、１０％クエン酸水５００ｍｌにて２回，飽和食
塩水５００ｍｌにて順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、
減圧下塩化メチレンを留去した。残渣を酢酸エチル５０
ｍｌに溶解後、イソプロピルエーテル５００ｍｌに注加
し、析出物を濾取し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ−３−フタロイルオキシメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸１５．１ｇを得た。
【０１０８】ＩＲ（nujol, cm -1） 3400, 1790, 1735 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.40 (s, 9H, -OC(CH 3 ) 3 ) 2.70 - 4.30 (br, 1H, -CO 2 H ) 3.82 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.96 (s, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.00 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.47 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 7.85 (s, 4H, フェニル ) 7.94 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-)
【０１０９】(４) （３）の化合物６．５０ｇをメタノ
ール６５ｍｌに溶解し、５℃にてトリエチルアミン２．
８２ｍｌ次いで１０％ヒドラジンヒドラート メタノー
ル溶液８．４５ｍｌを加え、同温度にて３０分間攪拌し
た。クロル炭酸メチル３．１ｍｌを滴下し、同温度にて
さらに１０分間攪拌後、不溶物を濾過し、減圧下メタノ
ールを留去した。残渣を酢酸エチル２００ｍｌに溶解
し、１０％クエン酸−５％食塩水２００ｍｌにて洗浄
し、水層をさらに酢酸エチル１００ｍｌにて抽出した。
酢酸エチル層を合わせ、５％重層水１００ｍｌにて２回
抽出し、クエン酸にて酸性とし酢酸エチル２００ｍｌに
て２回抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水１００ｍｌ
にて洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧下酢酸エチルを
留去した。残渣を酢酸エチル５０ｍｌに溶解し、不溶物
を濾過後、ジフェニルジアゾメタン３．９ｇを加え室温
にて１５時間攪拌した。減圧下、酢酸エチルを留去し残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸
エチル−ベンゼンにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下
留去し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−メト
キシカルボニルアミノオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸 ベンズヒドリルエステル４．７ｇを得
た。
ール６５ｍｌに溶解し、５℃にてトリエチルアミン２．
８２ｍｌ次いで１０％ヒドラジンヒドラート メタノー
ル溶液８．４５ｍｌを加え、同温度にて３０分間攪拌し
た。クロル炭酸メチル３．１ｍｌを滴下し、同温度にて
さらに１０分間攪拌後、不溶物を濾過し、減圧下メタノ
ールを留去した。残渣を酢酸エチル２００ｍｌに溶解
し、１０％クエン酸−５％食塩水２００ｍｌにて洗浄
し、水層をさらに酢酸エチル１００ｍｌにて抽出した。
酢酸エチル層を合わせ、５％重層水１００ｍｌにて２回
抽出し、クエン酸にて酸性とし酢酸エチル２００ｍｌに
て２回抽出した。酢酸エチル層を飽和食塩水１００ｍｌ
にて洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧下酢酸エチルを
留去した。残渣を酢酸エチル５０ｍｌに溶解し、不溶物
を濾過後、ジフェニルジアゾメタン３．９ｇを加え室温
にて１５時間攪拌した。減圧下、酢酸エチルを留去し残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸
エチル−ベンゼンにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下
留去し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−メト
キシカルボニルアミノオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸 ベンズヒドリルエステル４．７ｇを得
た。
【０１１０】ＩＲ（nujol, cm -1） 3280, 1785, 1720 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.41 (s, 9H, -OC(CH 3) 3 ) 3.57 (s, 3H, -CH 3 ) 3.68 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.54 (s, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.09 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.55 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.88 (s, 1H, CO2 CH< ) 7.20 - 8.60 (m, 10H,フェニル x 2 ) 7.98 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 10.28 (s, 1H, -ONH-)
【０１１１】(５) （４）の化合物４．７０ｇをアニソ
ール４．７ｍｌに懸濁し、５℃にてトリフルオロ酢酸１
４．１ｍｌを加え、同温度にて２時間攪拌した。イソプ
ロピルエーテル２００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取
し、水４０ｍｌに懸濁した。飽和重曹水にてｐＨ＝８．
０とし、不溶物を濾過後、２Ｎ−塩酸にてｐＨ＝３．０
とし、析出物を濾取し、標題化合物１．１ｇを得た。
ール４．７ｍｌに懸濁し、５℃にてトリフルオロ酢酸１
４．１ｍｌを加え、同温度にて２時間攪拌した。イソプ
ロピルエーテル２００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取
し、水４０ｍｌに懸濁した。飽和重曹水にてｐＨ＝８．
０とし、不溶物を濾過後、２Ｎ−塩酸にてｐＨ＝３．０
とし、析出物を濾取し、標題化合物１．１ｇを得た。
【０１１２】 ＩＲ（nujol, cm -1） 3580, 3270, 3170, 1800, 1720 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 3.00 - 4.00 (m, 5H, -CH 3 , C2 -H2 ) 4.00 - 5.40 (m, 7H, C3 -CH 2 -, C6,7 -H, -NH2 ,
-CO2 H) 10.25 (br.s, 1H, -ONH- )
-CO2 H) 10.25 (br.s, 1H, -ONH- )
【０１１３】実施例６ ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−メトキシカル
ボニルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ナトリウム塩（シン異性体）
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−メトキシカル
ボニルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ナトリウム塩（シン異性体）
【０１１４】(１) Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．
４２ｍｌ、酢酸エチル１．８ｍｌの混液を−１０℃に冷
却し、オキシ塩化リン０．５０ｍｌを加え、同温度にて
３０分間攪拌した。２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−トリチルオキシイミノ酢酸（シン
異性体）２．４４ｇの塩化メチレン２０ｍｌの溶液を−
１０〜−５℃にて滴下し、同温度にて３０分間攪拌し
た。一方、実施例５の化合物０．９２ｇを塩化メチレン
１８ｍｌに懸濁し、Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド
２．３９ｇを加え、３０℃にて３０分間攪拌し均一に溶
解させた。−１０℃にて冷却後、先の溶液を滴下し、同
温度にて３０分間攪拌した。１０％クエン酸水１００ｍ
ｌにて洗浄し、水層をさらに塩化メチレン５０ｍｌにて
抽出後、塩化メチレン層を合わせ、飽和食塩水１００ｍ
ｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥した。得られた溶液に
ジフェニルジアゾメタン０．８８ｇを加え、室温にて１
時間攪拌した。減圧下、塩化メチレンを留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチ
ル−ベンゼンにて溶出後、目的分画の溶媒を減圧下留去
し、７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−
３−メトキシカルボニルアミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異
性体）１．６９ｇを得た。
４２ｍｌ、酢酸エチル１．８ｍｌの混液を−１０℃に冷
却し、オキシ塩化リン０．５０ｍｌを加え、同温度にて
３０分間攪拌した。２−（２−トリチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−２−トリチルオキシイミノ酢酸（シン
異性体）２．４４ｇの塩化メチレン２０ｍｌの溶液を−
１０〜−５℃にて滴下し、同温度にて３０分間攪拌し
た。一方、実施例５の化合物０．９２ｇを塩化メチレン
１８ｍｌに懸濁し、Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド
２．３９ｇを加え、３０℃にて３０分間攪拌し均一に溶
解させた。−１０℃にて冷却後、先の溶液を滴下し、同
温度にて３０分間攪拌した。１０％クエン酸水１００ｍ
ｌにて洗浄し、水層をさらに塩化メチレン５０ｍｌにて
抽出後、塩化メチレン層を合わせ、飽和食塩水１００ｍ
ｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥した。得られた溶液に
ジフェニルジアゾメタン０．８８ｇを加え、室温にて１
時間攪拌した。減圧下、塩化メチレンを留去し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチ
ル−ベンゼンにて溶出後、目的分画の溶媒を減圧下留去
し、７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−
イル）−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−
３−メトキシカルボニルアミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異
性体）１．６９ｇを得た。
【０１１５】 ＩＲ（nujol, cm -1） 3280, 1790, 1725, 1685 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 3.57 (s, 3H, -CH3 ) 3.68 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.57 (br.s, 2H, C3 -CH 2 -) 5.22 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.93 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.60 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 6.90 (s, 1H, -CO2 CH<) 7.00 - 7.70 (m, 40H, フェニル x 8) 8.72 (br.s, 1H, チアゾール C2 -NH-) 9.89 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 10.29 (s, 1H, -ONH-)
【０１１６】(２) (１) の化合物１．５５ｇをアニソ
ール１．５５ｍｌに懸濁し、５℃にてトリフルオロ酢酸
４．６５ｍｌを加え、同温度にて４時間攪拌後、イソプ
ロピルエーテル１００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し
た。得られた粉末を水５０ｍｌに懸濁し、飽和重曹水に
てｐＨ＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−２
１５０ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル
水、５％アセトニトリル水にて順次溶出させ、目的分画
を減圧下、濃縮後、凍結乾燥し、標題化合物２００ｍｇ
を得た。
ール１．５５ｍｌに懸濁し、５℃にてトリフルオロ酢酸
４．６５ｍｌを加え、同温度にて４時間攪拌後、イソプ
ロピルエーテル１００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し
た。得られた粉末を水５０ｍｌに懸濁し、飽和重曹水に
てｐＨ＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−２
１５０ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル
水、５％アセトニトリル水にて順次溶出させ、目的分画
を減圧下、濃縮後、凍結乾燥し、標題化合物２００ｍｇ
を得た。
【０１１７】 ＩＲ（nujol, cm -1） 3300, 1765, 1610, 1530 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 3.30, 3.56 (ABq, J=17.0Hz, 2H, C2 -H2 ) 3.56 (s, 3H, -CH 3 ) 4.52 (br.s, 2H, C3 -CH 2 -) 4.97 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.63 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H , C 7 -H) 6.64 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.08 (br.s, 2H, -NH2 ) 9.37 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 10.70 (br.s, 1H, -ONH-) 11.60 (br.s, 1H, -OH)
【０１１８】実施例７ ７−アミノ−３−（３−オキソブチリル）アミノオキシ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸 トリフルオロ
酢酸塩 （１）実施例５（３）の化合物７．０ｇを、９９．５％
エタノール７０ｍｌに溶解し、５℃にてトリエチルアミ
ン２．９ｍｌ、次いで１０％ヒドラジンヒドラート エ
タノール溶液８．８ｍｌを加え、同温度にて１０分間攪
拌した。トリエチルアミン１．９５ｍｌを追加し、ジケ
テン５．４ｍｌを加え、さらに同温度にて１０分間攪拌
した。減圧下エタノールを留去し、残渣を塩化メチレン
７０ｍｌに溶解後、９．１５Ｎ塩化水素イソプロパノー
ル溶液３．０６ｍｌを加え、５℃にてジフェニルジアゾ
メタン３．９ｇを加え、同温度にて３０分間攪拌した。
１０％クエン酸水、５％重曹水、飽和食塩水各々１００
ｍｌにて順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧下、塩
化メチレンを留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、酢酸エチル−ベンゼンにて溶出
後、目的分画の溶媒を減圧下留去し、７−ｔ−ブトキシ
カルボニルアミノ−３−（３−オキソブチリル）アミノ
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル２．５３ｇを得た。
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸 トリフルオロ
酢酸塩 （１）実施例５（３）の化合物７．０ｇを、９９．５％
エタノール７０ｍｌに溶解し、５℃にてトリエチルアミ
ン２．９ｍｌ、次いで１０％ヒドラジンヒドラート エ
タノール溶液８．８ｍｌを加え、同温度にて１０分間攪
拌した。トリエチルアミン１．９５ｍｌを追加し、ジケ
テン５．４ｍｌを加え、さらに同温度にて１０分間攪拌
した。減圧下エタノールを留去し、残渣を塩化メチレン
７０ｍｌに溶解後、９．１５Ｎ塩化水素イソプロパノー
ル溶液３．０６ｍｌを加え、５℃にてジフェニルジアゾ
メタン３．９ｇを加え、同温度にて３０分間攪拌した。
１０％クエン酸水、５％重曹水、飽和食塩水各々１００
ｍｌにて順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧下、塩
化メチレンを留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーに付し、酢酸エチル−ベンゼンにて溶出
後、目的分画の溶媒を減圧下留去し、７−ｔ−ブトキシ
カルボニルアミノ−３−（３−オキソブチリル）アミノ
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル２．５３ｇを得た。
【０１１９】ＩＲ（nujol, cm -1） 3270, 1785, 1720 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.42 (s, 9H, -OC(CH 3) 3 ) 2.09 (s, 3H, -COCH 3 ) 3.12 (br.s, 2H, -COCH 2- ) 3.73 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.58 (s, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.08 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.55 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.87 (s, 1H, -CO2 CH< ) 7.20 - 7.60 (m, 10H, フェニル x 2) 7.97 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 11.15 (s, 1H, -ONH-)
【０１２０】（２）（１）の化合物２．５２ｇをアニソ
ール２．５２ｍｌに溶解し、５℃にてトリフルオロ酢酸
７．５ｍｌを加え、同温度にて１．５時間攪拌後、イソ
プロピルエーテル１００ｍｌ中に注加した。析出物を濾
取し、標題化合物１．７６ｇを得た。
ール２．５２ｍｌに溶解し、５℃にてトリフルオロ酢酸
７．５ｍｌを加え、同温度にて１．５時間攪拌後、イソ
プロピルエーテル１００ｍｌ中に注加した。析出物を濾
取し、標題化合物１．７６ｇを得た。
【０１２１】 ＩＲ（nujol, cm -1） 3250, 1790, 1720, 1665 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.93 (s, 1.5H, =C(OH) CH 3 ) 2.13 (s, 1.5H, -COCH 3 ) 3.18 (s, 1H, -COCH 2 - ) 3.79 (br.s, 2H, C 2 -H2 ) 4.20 - 5.00 (m, 2.5H, C 3 -CH 2 -, -C H =C(OH)- ) 5.00 - 5.40 (m, 2H, C6,7 -H) 6.00 - 8.00 (br, 4.5H, -NH3 + , -CO 2 H , -CH =C
(OH)- ) 10.12 (br.s, 1H, -ONH-)
(OH)- ) 10.12 (br.s, 1H, -ONH-)
【０１２２】実施例８ ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（３−オキソ
ブチリル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ナトリウム塩（シン異性体） （１）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．５０ｍｌ、酢
酸エチル２．５ｍｌの混液を−１０℃に冷却し、オキシ
塩化リン０．６０ｍｌを加え、同温度にて３０分間攪拌
した。２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−トリチルオキシイミノ酢酸（シン異性体）
３．０９ｇの塩化メチレン３０ｍｌの溶液を−１０〜−
５℃にて滴下し、同温度にて３０分間攪拌した。一方、
実施例７の化合物１．６６ｇを塩化メチレン３０ｍｌに
懸濁し、Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド４．７２ｇ
を加え、３０℃にて３０分間攪拌し、均一に溶解させ
た。−１０℃に冷却後、先の溶液を滴下し、同温度にて
３０分間攪拌した。１０％クエン酸水５０ｍｌにて洗浄
し、水層をさらに塩化メチレン５０ｍｌにて抽出後、塩
化メチレン層を合わせ、飽和食塩水にて１００ｍｌにて
洗浄し、無水芒硝にて乾燥した。得られた溶液にジフェ
ニルジアゾメタン１．０５ｇを加え、室温にて３０分間
攪拌した。減圧下塩化メチレンを留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ベ
ンゼンにて溶出後、目的分画の溶媒を減圧下留去し、７
−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−３−
（３−オキソブチリル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異
性体）１．９０ｇを得た。
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（３−オキソ
ブチリル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ナトリウム塩（シン異性体） （１）Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド０．５０ｍｌ、酢
酸エチル２．５ｍｌの混液を−１０℃に冷却し、オキシ
塩化リン０．６０ｍｌを加え、同温度にて３０分間攪拌
した。２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）−２−トリチルオキシイミノ酢酸（シン異性体）
３．０９ｇの塩化メチレン３０ｍｌの溶液を−１０〜−
５℃にて滴下し、同温度にて３０分間攪拌した。一方、
実施例７の化合物１．６６ｇを塩化メチレン３０ｍｌに
懸濁し、Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド４．７２ｇ
を加え、３０℃にて３０分間攪拌し、均一に溶解させ
た。−１０℃に冷却後、先の溶液を滴下し、同温度にて
３０分間攪拌した。１０％クエン酸水５０ｍｌにて洗浄
し、水層をさらに塩化メチレン５０ｍｌにて抽出後、塩
化メチレン層を合わせ、飽和食塩水にて１００ｍｌにて
洗浄し、無水芒硝にて乾燥した。得られた溶液にジフェ
ニルジアゾメタン１．０５ｇを加え、室温にて３０分間
攪拌した。減圧下塩化メチレンを留去し、残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ベ
ンゼンにて溶出後、目的分画の溶媒を減圧下留去し、７
−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−３−
（３−オキソブチリル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異
性体）１．９０ｇを得た。
【０１２３】 ＩＲ（nujol, cm -1） 3280, 1790, 1730, 1690, 1525 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 2.09 (s, 3H, -COCH3 ) 3.13 (s, 2H, -COCH2 -) 3.75 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.62 (br.s, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.21 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.95 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.60 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 6.90 (s, 1H, -CO2 CH<) 7.00 - 7.60 (m, 40H, フェニル x 8) 8.70 (br.s, 1H, チアゾール, C 2 -NH-) 9.89 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 11.16 (s, 1H, -ONH-)
【０１２４】（２）（１）の化合物１．９０ｇをアニソ
ール１．９ｍｌに懸濁し、５℃にてトリフルオロ酢酸
５．７ｍｌを加え、同温度にて２時間攪拌後、イソプロ
ピルエーテル１５０ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し
た。得られた粉末を水１００ｍｌに懸濁し、飽和重曹水
にてｐＨ＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−
２１１００ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリ
ル水、５％アセトニトリル水にて順次溶出させ、目的分
画を減圧下濃縮後、凍結乾燥し、標題化合物３９０ｍｇ
を得た。
ール１．９ｍｌに懸濁し、５℃にてトリフルオロ酢酸
５．７ｍｌを加え、同温度にて２時間攪拌後、イソプロ
ピルエーテル１５０ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し
た。得られた粉末を水１００ｍｌに懸濁し、飽和重曹水
にてｐＨ＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−
２１１００ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリ
ル水、５％アセトニトリル水にて順次溶出させ、目的分
画を減圧下濃縮後、凍結乾燥し、標題化合物３９０ｍｇ
を得た。
【０１２５】 ＩＲ（nujol, cm -1） 3190, 1770, 1665, 1610, 1530 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 2.12 (s, 3H, -COCH 3) 3.13 (s, 2H, -COCH2 -) 3.34，3.61 (ABq, J=17.5Hz, 2H, C 2-H2 ) 4.52 (br.s, 2H, C3 -CH 2 -) 4.99 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.66 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.64 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.08 (br.s, 2H, -NH2 ) 9.34 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 11.51 (br.s, 1H, -ONH-) 12.00 - 12.60 (br, 1H, -OH) 実施例９ ７−アミノ−３−メチルスルホニルアミノオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル塩酸塩 (１) ７−（２−フェニルアセトアミド）−３−フタル
イミドオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸１
０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド−メタノール
（１：１）の混液３００ｍｌに溶解し、５℃にて１０％
ヒドラジンヒドラートメタノール溶液２２．１ｍｌを滴
下し、同温度にて１５分間攪拌した。塩化メタンスルホ
ニル４．７ｍｌを加え、さらに同温度にて１時間攪拌
後、減圧下、メタノールを留去した。１０％クエン酸水
３００ｍｌを加え、酢酸エチル２５０ｍｌにて２回抽出
し、酢酸エチル層を５％重曹水１００ｍｌにて２回抽出
した。得られた水層をクエン酸にて酸性とし、酢酸エチ
ル２００ｍｌにて２回抽出し、飽和食塩水にて洗浄後、
無水芒硝にて乾燥した。得られた溶液にジフェニルジア
ゾメタン５．６ｇを加え、室温にて２０分間攪拌し、減
圧下、酢酸エチルを留去した。得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸エ
チルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下留去し、７−
（２−フェニルアセトアミド）−３−メチルスルホニル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル３．６ｇを得た。
−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステ
ル塩酸塩 (１) ７−（２−フェニルアセトアミド）−３−フタル
イミドオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸１
０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド−メタノール
（１：１）の混液３００ｍｌに溶解し、５℃にて１０％
ヒドラジンヒドラートメタノール溶液２２．１ｍｌを滴
下し、同温度にて１５分間攪拌した。塩化メタンスルホ
ニル４．７ｍｌを加え、さらに同温度にて１時間攪拌
後、減圧下、メタノールを留去した。１０％クエン酸水
３００ｍｌを加え、酢酸エチル２５０ｍｌにて２回抽出
し、酢酸エチル層を５％重曹水１００ｍｌにて２回抽出
した。得られた水層をクエン酸にて酸性とし、酢酸エチ
ル２００ｍｌにて２回抽出し、飽和食塩水にて洗浄後、
無水芒硝にて乾燥した。得られた溶液にジフェニルジア
ゾメタン５．６ｇを加え、室温にて２０分間攪拌し、減
圧下、酢酸エチルを留去した。得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸エ
チルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下留去し、７−
（２−フェニルアセトアミド）−３−メチルスルホニル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリルエステル３．６ｇを得た。
【０１２６】ＩＲ（nujol, cm -1）1785，1725, 1660 ＮＭＲ（DMSO-d6 , δppm) 2.97 (s, 3H, -CH 3 ) 3.54 (br.s, 2H, -CH 2 CO- ) 3.66 (br.s, 2H, C 2 -H2 ) 4.63, 4.78 (ABq, J=13.5Hz, 2H, C3 -CH 2 - ) 5.14 (d, J=5.0Hz, 1H, C 6 -H ) 5.77 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.90 (s, 1H, -CO 2 CH< ) 7.02 - 7.70 (m, 15H, フェニル x 3) 9.11 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 9.99 (s, 1H, -NHSO 2- )
【０１２７】(２) 五塩化リン１．５９ｇを塩化メチレ
ン２５ｍｌに懸濁し、５℃にてピリジン０．６２ｍｌを
加え、同温度にて１時間攪拌した。（１）の化合物１．
５５ｇを加え、同温度にてさらに１時間攪拌後、−５℃
にてイソブタノール１．５ｍｌを滴下し、−５〜０℃に
て３０分間攪拌した。水１．５ｍｌを滴下し、０℃にて
３０分間攪拌後、塩化メチレン１００ｍｌを加え、１０
％食塩水、飽和食塩水各々５０ｍｌにて順次洗浄した。
塩化メチレン層を無水芒硝にて乾燥後、９．１５Ｎ塩化
水素イソプロパノール溶液０．１４ｍｌを加え、減圧下
塩化メチレンを留去した。残渣に酢酸エチル２０ｍｌ、
ジエチルエーテル２０ｍｌを加え、固形物を濾取し、標
題化合物を０．８９ｇを得た。
ン２５ｍｌに懸濁し、５℃にてピリジン０．６２ｍｌを
加え、同温度にて１時間攪拌した。（１）の化合物１．
５５ｇを加え、同温度にてさらに１時間攪拌後、−５℃
にてイソブタノール１．５ｍｌを滴下し、−５〜０℃に
て３０分間攪拌した。水１．５ｍｌを滴下し、０℃にて
３０分間攪拌後、塩化メチレン１００ｍｌを加え、１０
％食塩水、飽和食塩水各々５０ｍｌにて順次洗浄した。
塩化メチレン層を無水芒硝にて乾燥後、９．１５Ｎ塩化
水素イソプロパノール溶液０．１４ｍｌを加え、減圧下
塩化メチレンを留去した。残渣に酢酸エチル２０ｍｌ、
ジエチルエーテル２０ｍｌを加え、固形物を濾取し、標
題化合物を０．８９ｇを得た。
【０１２８】ＩＲ（nujol, cm -1）3400, 1790, 1730 ＮＭＲ（DMSO-d6 , δppm ） 2.99 (s, 3H, -CH3 ) 3.77 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.76 (br.s, 2H, C3 -CH 2 -) 5.24 (br.s, 2H, C6,7 -H) 6.92 (s, 1H, -CO2 CH<) 7.10 - 7.75 (m, 10H, フェニル x 2) 8.00 - 10.50 (br, 3H, -N+ H 3 ) 10.27 (s, 1H, -NHSO2 -)
【０１２９】実施例１０ ７−アミノ−３−メチルスルホニルアミノオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチ
ルエステル 塩酸塩
−３−セフェム−４−カルボン酸ピバロイルオキシメチ
ルエステル 塩酸塩
【０１３０】(１) 実施例９（１）化合物３．６ｇにア
ニソール３．６ｍｌおよびトリフルオロ酢酸１０．８ｍ
ｌを加え、５℃にて３０分間攪拌した。イソプロピルエ
ーテル３００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し、７−
（２−フェニルアセトアミド）−３−メチルスルホニル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
２．３５ｇを得た。
ニソール３．６ｍｌおよびトリフルオロ酢酸１０．８ｍ
ｌを加え、５℃にて３０分間攪拌した。イソプロピルエ
ーテル３００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し、７−
（２−フェニルアセトアミド）−３−メチルスルホニル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
２．３５ｇを得た。
【０１３１】ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 2.99 (s, 3H, -CH3 ) 3.53 (br.s, 2H, -COCH2 -) 3.60 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.57, 4.84 (ABq, J=12.0Hz, 2H, C3 -CH 2 -) 5.07 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.68 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 7.27 (s, 5H, フェニル) 9.06 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 9.30 - 12.00 (br, 1H, -CO2 H ) 9.95 (s, 1H, -NHSO2 -)
【０１３２】(２) （１）の化合物１．２４ｇをＮ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド７ｍｌに溶解し、ジシクロヘキ
シルアミン０．６２ｍｌを加え、−５℃に冷却した。ピ
バロイルオキシメチルヨーダイド０．９８ｇを加え、−
５〜０℃にて２時間攪拌した。酢酸エチル２０ｍｌを加
え、不溶物を濾過し、濾液を１０％クエン酸水、飽和重
曹水、次いで飽和食塩水各々３０ｍｌにて順次洗浄し、
無水芒硝にて乾燥後、減圧下、酢酸エチルを留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ベ
ンゼン−酢酸エチルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧
下留去し、７−（２−フェニルアセトアミド）−３−メ
チルスルホニルアミノオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル１．６８
ｇを得た。
−ジメチルアセトアミド７ｍｌに溶解し、ジシクロヘキ
シルアミン０．６２ｍｌを加え、−５℃に冷却した。ピ
バロイルオキシメチルヨーダイド０．９８ｇを加え、−
５〜０℃にて２時間攪拌した。酢酸エチル２０ｍｌを加
え、不溶物を濾過し、濾液を１０％クエン酸水、飽和重
曹水、次いで飽和食塩水各々３０ｍｌにて順次洗浄し、
無水芒硝にて乾燥後、減圧下、酢酸エチルを留去した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ベ
ンゼン−酢酸エチルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧
下留去し、７−（２−フェニルアセトアミド）−３−メ
チルスルホニルアミノオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル１．６８
ｇを得た。
【０１３３】 ＩＲ（nujol, cm -1）3350, 3200, 1785, 1750, 1665 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.17 (s, 9H, -COC(CH3 ) 3 ) 3.53 (br.s, 2H, -CH 2 CO- ) 3.64 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.60, 4.75 (ABq, J=13.5Hz, 2H, C3 -CH 2 -) 5.11 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.60 - 5.95 (m, 3H, C 7 -H, -CO 2 CH2 - ) 7.27 (s, 5H,フェニル ) 9.08 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 9.99 (s, 1H, -NHSO2 -)
【０１３４】(３）五塩化リン１．８０ｇを塩化メチレ
ン３０ｍｌに懸濁し、５℃にてピリジン０．７０ｍｌを
加え、同温度にて１時間攪拌した。（２）の化合物１．
６０ｇを加え、同温度にて、さらに１時間攪拌後、−５
℃にてイソブタノール２．７ｍｌを滴下し、−５〜０℃
にて３０分間攪拌した。水２．７ｍｌを滴下し、０℃に
て３０分間攪拌後、塩化メチレン５０ｍｌ、水５０ｍｌ
を加え、攪拌下、重曹にて中和した。二層を分離し、水
層を塩化メチレン５０ｍｌにて抽出し、先の塩化メチレ
ン層と合わせ、１％クエン酸−１０％食塩水５０ｍｌに
て洗浄後、無水芒硝にて乾燥した。９．１５Ｎ塩化水素
イソプロパノール溶液０．４７ｍｌを加え、減圧下、塩
化メチレンを留去し、残渣にジエチルエーテルを加え固
形物を濾取し、標題化合物１．１４ｇを得た。
ン３０ｍｌに懸濁し、５℃にてピリジン０．７０ｍｌを
加え、同温度にて１時間攪拌した。（２）の化合物１．
６０ｇを加え、同温度にて、さらに１時間攪拌後、−５
℃にてイソブタノール２．７ｍｌを滴下し、−５〜０℃
にて３０分間攪拌した。水２．７ｍｌを滴下し、０℃に
て３０分間攪拌後、塩化メチレン５０ｍｌ、水５０ｍｌ
を加え、攪拌下、重曹にて中和した。二層を分離し、水
層を塩化メチレン５０ｍｌにて抽出し、先の塩化メチレ
ン層と合わせ、１％クエン酸−１０％食塩水５０ｍｌに
て洗浄後、無水芒硝にて乾燥した。９．１５Ｎ塩化水素
イソプロパノール溶液０．４７ｍｌを加え、減圧下、塩
化メチレンを留去し、残渣にジエチルエーテルを加え固
形物を濾取し、標題化合物１．１４ｇを得た。
【０１３５】ＩＲ（nujol, cm -1） 3400, 1790, 1750 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.17 (s, 9H, -COC(CH3 ) 3 ) 3.00 (s, 3H, -CH3 ) 3.77 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.66, 4.83 (ABq, J=13.5Hz, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.23 (br.s, 2H, C6,7 -H) 5.83, 5.89 (ABq, J=11.0Hz, 2H, -CO2 CH2 -) 6.10 - 10.00 (br, 3H, -N + H 3 ) 10.23 (s, 1H, -NHSO2 -)
【０１３６】実施例１１ ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−メチルスルホ
ニルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ナトリウム塩（シン異性体） （１）実施例９の化合物０．８４ｇおよび２−（２−ト
リチルアミノチアゾール−４−イル）−２−トリチルオ
キシイミノ酢酸（シン異性体）１．６３ｇを塩化メチレ
ン２０ｍｌに懸濁し、−１０℃に冷却した。ピリジン
０．３１ｍｌ、オキシ塩化リン０．２７ｍｌを順次加
え、同温度にて１５分間攪拌した。酢酸エチル５０ｍｌ
を加え、１０％クエン酸水、飽和食塩水、各々５０ｍｌ
にて順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧下溶媒を留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、ベンゼン−酢酸エチルにて溶出し、目的分画の溶
媒を減圧下留去し、、７−〔２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−トリチルオキシイミノ−
アセトアミド〕−３−メチルスルホニルアミノオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル（シン異性体）１．４３ｇを得た。
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−メチルスルホ
ニルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ナトリウム塩（シン異性体） （１）実施例９の化合物０．８４ｇおよび２−（２−ト
リチルアミノチアゾール−４−イル）−２−トリチルオ
キシイミノ酢酸（シン異性体）１．６３ｇを塩化メチレ
ン２０ｍｌに懸濁し、−１０℃に冷却した。ピリジン
０．３１ｍｌ、オキシ塩化リン０．２７ｍｌを順次加
え、同温度にて１５分間攪拌した。酢酸エチル５０ｍｌ
を加え、１０％クエン酸水、飽和食塩水、各々５０ｍｌ
にて順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧下溶媒を留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、ベンゼン−酢酸エチルにて溶出し、目的分画の溶
媒を減圧下留去し、、７−〔２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−トリチルオキシイミノ−
アセトアミド〕−３−メチルスルホニルアミノオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステル（シン異性体）１．４３ｇを得た。
【０１３７】ＩＲ（nujol, cm -1）1790, 1725, 1690 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 2.97 (s, 3H, -CH 3) 3.65 (br.s, 2H, C 2 -H2 ) 4.63，4.80 (ABq, J=12.0Hz, 2H, C3 -CH 2 -) 5.24 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.92 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.60 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 6.92 (s, 1H, -CO2 CH< ) 7.10 - 7.60 (m, 40H, フェニル x 8) 8.71 (s, 1H, チアゾール C2 -NH-) 9.90 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 10.00 (s, 1H, -NHSO2 -)
【０１３８】（２）（１）の化合物１．３５ｇをアニソ
ール０．７ｍｌに懸濁し、５℃にてトリフルオロ酢酸
２．７ｍｌを加え、同温度にて４時間攪拌後、イソプロ
ピルエーテル２００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し
た。得られた粉末を水６０ｍｌに懸濁し、飽和重曹水に
てｐＨ＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−２
１６０ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル水
にて溶出させ、目的分画を減圧下濃縮後、凍結乾燥し、
標題化合物２３０ｍｇを得た。
ール０．７ｍｌに懸濁し、５℃にてトリフルオロ酢酸
２．７ｍｌを加え、同温度にて４時間攪拌後、イソプロ
ピルエーテル２００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し
た。得られた粉末を水６０ｍｌに懸濁し、飽和重曹水に
てｐＨ＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−２
１６０ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル水
にて溶出させ、目的分画を減圧下濃縮後、凍結乾燥し、
標題化合物２３０ｍｇを得た。
【０１３９】ＩＲ（nujol, cm -1）1760, 1660 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 2.95 (s, 3H, -CH3 ) 3.28, 3.58 (ABq, J=17.0Hz, 2H, C 2 -H2 ) 4.61, 4.75 (ABq, J=12.0Hz, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.00 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.50 - 5.80 (m, 1H, C7 -H) 6.60 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.16 (br.s, 2H, -NH2 ) 9.40 - 9.80 (br, 1H, -NHSO2 -) 10.00 - 12.50 (br, 1H, -OH )
【０１４０】実施例１２ ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−メチルスルホ
ニルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩（シン異性
体） （１）実施例１０の化合物１．１ｇおよび２−（２−ト
リチルアミノチアゾール−４−イル）−２−トリチルオ
キシイミノ酢酸ジシクロヘキシルアミン塩（シン異性
体）２．１８ｇの塩化メチレン２０ｍｌに懸濁し、−１
０℃に冷却した。ピリジン０．４１ｍｌ、オキシ塩化リ
ン０．３６ｍｌを順次加え、同温度にて１５分間攪拌さ
せた。酢酸エチル１００ｍｌを加え、１０％クエン酸
水、飽和食塩水各々１００ｍｌにて順次洗浄し、無水芒
硝にて乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸エ
チルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下留去し、、７
−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−３−メ
チルスルホニルアミノオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル（シン異
性体）１．３５ｇを得た。
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−メチルスルホ
ニルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩（シン異性
体） （１）実施例１０の化合物１．１ｇおよび２−（２−ト
リチルアミノチアゾール−４−イル）−２−トリチルオ
キシイミノ酢酸ジシクロヘキシルアミン塩（シン異性
体）２．１８ｇの塩化メチレン２０ｍｌに懸濁し、−１
０℃に冷却した。ピリジン０．４１ｍｌ、オキシ塩化リ
ン０．３６ｍｌを順次加え、同温度にて１５分間攪拌さ
せた。酢酸エチル１００ｍｌを加え、１０％クエン酸
水、飽和食塩水各々１００ｍｌにて順次洗浄し、無水芒
硝にて乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、ベンゼン−酢酸エ
チルにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下留去し、、７
−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）
−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−３−メ
チルスルホニルアミノオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ピバロイルオキシメチルエステル（シン異
性体）１．３５ｇを得た。
【０１４１】ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.17 (s, 9H, -COC(CH3 ) 3 ) 2.99 (s, 3H, -CH 3) 3.64 (br.s, 2H, C 2 -H 2) 4.62，4.82 (ABq, J=14.0Hz, 2H, C3 -CH 2 -) 5.22 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.70 - 6.10 (m, 3H, C7 -H, -CO2 CH2 - ) 6.58 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.10 - 7.70 (m, 30H, フェニル x 6 ) 8.68 (br.s, 1H, チアゾール C2 -NH-) 9.88 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 9.99 (s, 1H, -NHSO2 - )
【０１４２】（２）（１）の化合物１．３ｇに８０％ギ
酸５．２４ｍｌを加え、室温にて２時間攪拌した。５℃
に冷却し、２Ｎ−塩酸０．７７ｍｌを加え、イソプロピ
ルエーテル−ｎ−ヘキサン（２：１）の混液３００ｍｌ
中に注加し、析出する固形物を濾取し、標題化合物６４
０ｍｇを得た。
酸５．２４ｍｌを加え、室温にて２時間攪拌した。５℃
に冷却し、２Ｎ−塩酸０．７７ｍｌを加え、イソプロピ
ルエーテル−ｎ−ヘキサン（２：１）の混液３００ｍｌ
中に注加し、析出する固形物を濾取し、標題化合物６４
０ｍｇを得た。
【０１４３】 ＩＲ（nujol, cm -1）1785, 1750, 1675, 1630 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.17 (s, 9H, -COC(CH 3 ) 3 ) 2.99 (s, 3H, -CH3 ) 3.50 - 3.80 (m, 2H, C2 -H2 ) 4.00 -10.00 (br, 2H, -NH2 ) 4.60, 4.78 (ABq, J=14.0Hz, 2H, C3 -CH 2 -) 5.21 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.70 - 6.00 (m, 3H, C7 -H, -CO2 CH2 - ) 6.85 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 9.69 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH- ) 10.11 (s, 1H, -NHSO2 -) 12.20 - 12.50 (br, 1H, -OH )
【０１４４】実施例１３ ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メチル
−Ｎ−メチルカルバモイル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性
体） （１）７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕
−３−メチリデンアミノオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
２．５１ｇをテトラヒドロフラン−メタノール（１：
１）の混液２５ｍｌに溶解し、２Ｎ−塩化水素メタノー
ル溶液にてｐＨ＝２．０とした。水素化シアノほう素ナ
トリウム１８０ｍｇを加え、ｐＨ＝２．０〜２．５で室
温にて３０分間攪拌した。冷水１００ｍｌを加え、減圧
下溶媒を留去し、食塩１０ｇ、重曹１．０ｇを加え、酢
酸エチル１００ｍｌにて抽出した。酢酸エチル層を飽和
食塩水５０ｍｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧
下、酢酸エチルを留去し、泡状粉末２．２５ｇを得た。
得られた粉末１．５５ｇを塩化メチレン１５ｍｌに溶解
し、氷冷下、メチルイソシアネート０．４２ｍｌを加
え、室温にて１時間攪拌した。酢酸エチル１００ｍｌを
加え、１０％クエン酸水、飽和食塩水各々５０ｍｌにて
順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧下溶媒を留去し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンにて溶出し、目的
分画の溶媒を減圧下留去し、７−〔２−（２−トリチル
アミノチアゾール−４−イル）−２−トリチルオキシイ
ミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−メチル
カルバモイル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
１．０８ｇを得た。
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メチル
−Ｎ−メチルカルバモイル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性
体） （１）７−〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４
−イル）−２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕
−３−メチリデンアミノオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
２．５１ｇをテトラヒドロフラン−メタノール（１：
１）の混液２５ｍｌに溶解し、２Ｎ−塩化水素メタノー
ル溶液にてｐＨ＝２．０とした。水素化シアノほう素ナ
トリウム１８０ｍｇを加え、ｐＨ＝２．０〜２．５で室
温にて３０分間攪拌した。冷水１００ｍｌを加え、減圧
下溶媒を留去し、食塩１０ｇ、重曹１．０ｇを加え、酢
酸エチル１００ｍｌにて抽出した。酢酸エチル層を飽和
食塩水５０ｍｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧
下、酢酸エチルを留去し、泡状粉末２．２５ｇを得た。
得られた粉末１．５５ｇを塩化メチレン１５ｍｌに溶解
し、氷冷下、メチルイソシアネート０．４２ｍｌを加
え、室温にて１時間攪拌した。酢酸エチル１００ｍｌを
加え、１０％クエン酸水、飽和食塩水各々５０ｍｌにて
順次洗浄し、無水芒硝にて乾燥後、減圧下溶媒を留去し
た。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンにて溶出し、目的
分画の溶媒を減圧下留去し、７−〔２−（２−トリチル
アミノチアゾール−４−イル）−２−トリチルオキシイ
ミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−メチル
カルバモイル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリルエステル（シン異性体）
１．０８ｇを得た。
【０１４５】ＩＲ（nujol, cm -1）1795, 1730, 1680 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 2.58 (d, J=4.5Hz, 3H, -NH CH 3) 2.82 (s, 3H, -CH 3) 3.70 (br.s, 2H, C 2 -H 2) 4.51 (br.s, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.27 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.93 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.60 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 6.93 (s, 1H, -CO2 CH< ) 7.00 - 7.70 (m, 40H, フェニル x 8) 7.80 - 8.40 (br, 1H, -NCONH- ) 8.71 (s, 1H, チアゾール C2 -NH-) 9.89 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-)
【０１４６】（２）（１）の化合物１．４０ｇをアニソ
ール１．４ｍｌに溶解し、５℃にてトリフルオロ酢酸
４．２ｍｌを加え、同温度にて３時間攪拌後、イソプロ
ピルエーテル１００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し
た。得られた粉末を水５０ｍｌに懸濁し、飽和重曹水に
て、ｐＨ＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−
２１５０ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル
水にて溶出させ、目的分画を減圧下濃縮後、凍結乾燥
し、標題化合物２７０ｍｇを得た。
ール１．４ｍｌに溶解し、５℃にてトリフルオロ酢酸
４．２ｍｌを加え、同温度にて３時間攪拌後、イソプロ
ピルエーテル１００ｍｌ中に注加し、析出物を濾取し
た。得られた粉末を水５０ｍｌに懸濁し、飽和重曹水に
て、ｐＨ＝７．５とし溶解させた。ダイヤイオンＨＰ−
２１５０ｍｌに吸着させ、水洗後、２％アセトニトリル
水にて溶出させ、目的分画を減圧下濃縮後、凍結乾燥
し、標題化合物２７０ｍｇを得た。
【０１４７】ＩＲ（nujol, cm -1）1760, 1610 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 2.61 (d, J=4.5Hz, 3H, -NH CH 3) 2.92 (s, 3H, -CH 3) 3.25, 3.58 (ABq, J=18.0Hz, 2H, C2 -H2 ) 4.12，4.57 (ABq, J=9.0Hz, 2H, C 3 -CH 2 -) 4.99 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.66 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.65 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.10 (br.s, 2H, -NH2 ) 8.00 - 8.40 (m, 1H, -NCONH- ) 9.43 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 11.00 - 12.40 (br, 1H, -OH)
【０１４８】実施例１４ ７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−ホルミル）アミノ
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 １−イ
ソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル塩酸塩 (１) 実施例５（３）の化合物７．２ｇをメタノール１
００ｍｌおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ
に溶解し、５℃にてトリエチルアミン２．５ｍｌ、次い
で１０％ヒドラジンヒドラート メタノール溶液１１．
４ｍｌを加え、同温度で３０分間攪拌した。３５％ホル
ムアルデヒド１３ｍｌを滴下し、同温度にてさらに１５
分間攪拌後、減圧下メタノールを留去した。残渣を酢酸
エチル２００ｍｌに溶解し、１０％クエン酸−５％食塩
水１５０ｍｌにて洗浄し、水層をさらに酢酸エチル１０
０ｍｌにて抽出した。酢酸エチル層を合わせ、５％重曹
水１００ｍｌにて２回抽出し、クエン酸にて酸性とし、
酢酸エチル２００ｍｌにて２回抽出した。酢酸エチル層
を飽和食塩水１００ｍｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥
後、減圧下、酢酸エチルを留去した。残渣を酢酸エチル
５０ｍｌに溶解し、ジフェニルジアゾメタン３．５ｇを
加え、室温にて３０分間攪拌した。減圧下、酢酸エチル
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、酢酸エチル−ベンゼンにて溶出し、目的分画の
溶媒を減圧下留去し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ−３−メチリデンアミノオキシメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル５．９６ｇを
得た。
オキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 １−イ
ソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル塩酸塩 (１) 実施例５（３）の化合物７．２ｇをメタノール１
００ｍｌおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌ
に溶解し、５℃にてトリエチルアミン２．５ｍｌ、次い
で１０％ヒドラジンヒドラート メタノール溶液１１．
４ｍｌを加え、同温度で３０分間攪拌した。３５％ホル
ムアルデヒド１３ｍｌを滴下し、同温度にてさらに１５
分間攪拌後、減圧下メタノールを留去した。残渣を酢酸
エチル２００ｍｌに溶解し、１０％クエン酸−５％食塩
水１５０ｍｌにて洗浄し、水層をさらに酢酸エチル１０
０ｍｌにて抽出した。酢酸エチル層を合わせ、５％重曹
水１００ｍｌにて２回抽出し、クエン酸にて酸性とし、
酢酸エチル２００ｍｌにて２回抽出した。酢酸エチル層
を飽和食塩水１００ｍｌにて洗浄し、無水芒硝にて乾燥
後、減圧下、酢酸エチルを留去した。残渣を酢酸エチル
５０ｍｌに溶解し、ジフェニルジアゾメタン３．５ｇを
加え、室温にて３０分間攪拌した。減圧下、酢酸エチル
を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、酢酸エチル−ベンゼンにて溶出し、目的分画の
溶媒を減圧下留去し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ−３−メチリデンアミノオキシメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル５．９６ｇを
得た。
【０１４９】ＩＲ（nujol, cm -1）1790，1720 ＮＭＲ（DMSO-d6 , δppm) 1.41 (s, 9H, -OC(CH3 ) 3 ） 3.67 (br.s, 2H, C 2 -H 2） 4.75 (br.s, 2H, C 3 -CH 2 - ) 5.11 (d, J=5.0Hz, 1H, C 6 -H ) 5.47 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.60, 7.03 (d x d, J=7.0Hz, 2H, =CH 2 ) 6.91 (s, 1H, -CO 2 CH< ) 7.10 - 7.60 (m, 10H, フェニル x 2) 7.98 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-)
【０１５０】(２) （１）の化合物５．７５ｇをメタノ
ール１１５ｍｌに溶解し、氷冷下、２Ｎ−塩化水素メタ
ノール溶液にてｐＨ２．０にした。水素化シアノほう素
ナトリウム８４７ｍｇを加え、ｐＨ２．０〜２．５に保
ちながら同温度で１時間攪拌した。水３５０ｍｌを加
え、減圧下メタノールを留去し、塩化メチレン１５０ｍ
ｌで２回抽出した。飽和食塩水１００ｍｌにて洗浄後、
無水芒硝で乾燥し、氷冷した。Ｎ−ホルミルオキシスク
シイミド１．９３ｇを加え、同温度で３０分間攪拌し、
１０％クエン酸水１００ｍｌ、飽和食塩水１００ｍｌに
て洗浄し、無水芒硝で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢
酸エチル−ベンゼンにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧
下留去し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−
（Ｎ−メチル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
４．５ｇを得た。
ール１１５ｍｌに溶解し、氷冷下、２Ｎ−塩化水素メタ
ノール溶液にてｐＨ２．０にした。水素化シアノほう素
ナトリウム８４７ｍｇを加え、ｐＨ２．０〜２．５に保
ちながら同温度で１時間攪拌した。水３５０ｍｌを加
え、減圧下メタノールを留去し、塩化メチレン１５０ｍ
ｌで２回抽出した。飽和食塩水１００ｍｌにて洗浄後、
無水芒硝で乾燥し、氷冷した。Ｎ−ホルミルオキシスク
シイミド１．９３ｇを加え、同温度で３０分間攪拌し、
１０％クエン酸水１００ｍｌ、飽和食塩水１００ｍｌに
て洗浄し、無水芒硝で乾燥した。減圧下溶媒を留去し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、酢
酸エチル−ベンゼンにて溶出し、目的分画の溶媒を減圧
下留去し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−３−
（Ｎ−メチル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリルエステル
４．５ｇを得た。
【０１５１】ＩＲ（nujol, cm -1） 1790, 1720, 1690 ＮＭＲ（DMSO-d6 , δppm ） 1.41 (s, 9H, -OC(CH 3 ) 3 ) 2.88 (s, 3H, -CH 3 ) 3.71 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.60 (br.s, 2H, C3 -CH 2 -) 5.14 (d, J=5.0Hz, 1H, C 6 -H) 5.54 (d x d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C 7 -H) 6.93 (s, 1H, -CO2 CH<) 7.10 - 7.60 (m, 10H, フェニル×2) 7.80 - 8.30 (m, 2H, -CHO, -CONH- )
【０１５２】(３) （２）の化合物４．５０ｇにフェノ
ール１３．５ｇを加え、５０℃にて３時間攪拌した。放
冷後、ジシクロヘキシルアミン２．５６ｇを加え、イソ
プロピルエーテル３００ｍｌにて固形化した。固形物を
酢酸エチル−ジエチルエーテルにて結晶化し、７−ｔ−
ブトキシカルボニルアミノ−３−（Ｎ−メチル−４−ホ
ルミル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジシクロヘキシルアミン塩２．７５ｇを得た。
ール１３．５ｇを加え、５０℃にて３時間攪拌した。放
冷後、ジシクロヘキシルアミン２．５６ｇを加え、イソ
プロピルエーテル３００ｍｌにて固形化した。固形物を
酢酸エチル−ジエチルエーテルにて結晶化し、７−ｔ−
ブトキシカルボニルアミノ−３−（Ｎ−メチル−４−ホ
ルミル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸ジシクロヘキシルアミン塩２．７５ｇを得た。
【０１５３】
【表１】
【０１５４】(４) （３）の化合物２．７５ｇをＮ，Ｎ
−ジメチルアセトアミド１３．７ｍｌに溶解し、０℃に
て１−イソプロポキシカルボニルオキシエチルヨーダイ
ド１．６６ｇを加え、同温度で２時間攪拌した。酢酸エ
チル１００ｍｌを加え、不溶物を濾別し、１０％クエン
酸水１００ｍｌで洗浄後、水層をさらに酢酸エチル５０
ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を合わせ、２％食塩−
０．５％重曹水１００ｍｌ、飽和食塩水１００ｍｌで洗
浄し、無水芒硝で乾燥した。減圧下、酢酸エチルを留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンにて溶出し、目的分画の
溶媒を減圧下留去し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸 １−イソプロポ
キシカルボニルオキシエチルエステル２．１２ｇを得
た。
−ジメチルアセトアミド１３．７ｍｌに溶解し、０℃に
て１−イソプロポキシカルボニルオキシエチルヨーダイ
ド１．６６ｇを加え、同温度で２時間攪拌した。酢酸エ
チル１００ｍｌを加え、不溶物を濾別し、１０％クエン
酸水１００ｍｌで洗浄後、水層をさらに酢酸エチル５０
ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を合わせ、２％食塩−
０．５％重曹水１００ｍｌ、飽和食塩水１００ｍｌで洗
浄し、無水芒硝で乾燥した。減圧下、酢酸エチルを留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付
し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサンにて溶出し、目的分画の
溶媒を減圧下留去し、７−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸 １−イソプロポ
キシカルボニルオキシエチルエステル２．１２ｇを得
た。
【０１５５】ＩＲ（nujol, cm -1） 1790, 1760, 1690 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.24 (s, J=6.0Hz, 6H, -CH(CH3 ) 2 ) 1.41 (s, 9H, OC(CH3 ) 3 ) 1.49 (d, J=5.0Hz, 3H, -CH 3 ) 3.09 (s, 3H, >NCH 3 ) 3.72 (br.s, 2H, C2 -H2 ) 4.65 (br.s, 2H, C 3 -CH 2 -) 4.70 - 5.00 (m, 1H, -OCO 2 CH < ) 5.09 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.52 (d ×d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.70 - 7.00 (m, 1H, -CO 2 CH < ) 7.95 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-) 8.00 - 8.40 (br, 1H, -CHO )
【０１５６】(５）（４）の化合物２．１２ｇをギ酸
８．５ｍｌに溶解し、０℃にて９．１５Ｎ−塩化水素イ
ソプロパノール溶液１．８３ｍｌを滴下し、同温度で２
分間攪拌した。イソプロピルエーテル２００ｍｌを加
え、デカンテーションにて油状物を分離し、塩化メチレ
ン１０ｍｌに溶解した。イソプロピルエーテル２００ｍ
ｌに注加し、析出物を濾取し、標題化合物１．６６ｇを
得た。
８．５ｍｌに溶解し、０℃にて９．１５Ｎ−塩化水素イ
ソプロパノール溶液１．８３ｍｌを滴下し、同温度で２
分間攪拌した。イソプロピルエーテル２００ｍｌを加
え、デカンテーションにて油状物を分離し、塩化メチレ
ン１０ｍｌに溶解した。イソプロピルエーテル２００ｍ
ｌに注加し、析出物を濾取し、標題化合物１．６６ｇを
得た。
【０１５７】ＩＲ（nujol, cm -1） 1795, 1760, 1670 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.25 (d, J=6.0Hz, 6H, -CH(CH3 ) 2 ) 1.49 (d, J=5.0Hz, 3H, -CH 3 ) 3.11 (s, 3H, >NCH 3 ) 3.84 (br.s, 2H, C 2 -H2 ) 4.60 - 5.00 (m, 1H, -OCO 2 CH < ) 4.72 (br.s, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.24 (br.s, 2H, C6,7 -H) 6.60 - 7.00 (m, 1H, -CO 2 CH < ) 8.00 - 8.50 (br, 1H, -CHO )
【０１５８】実施例１５ ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メチル
−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボニルオキシ
エチルエステル塩酸塩（シン異性体） （１）実施例１４の化合物１．６ｇおよび２−（２−ト
リチルアミノチアゾール−４−イル）−２−トリチルオ
キシイミノ酢酸ジシクロヘキシルアミン塩（シン異性
体）３．３１ｇを塩化メチレン５０ｍｌに懸濁し、−１
０℃に冷却した。ピリジン０．６３ｍｌ、オキシ塩化リ
ン０．５４ｍｌを順次加え、同温度にて１５分間攪拌し
た。酢酸エチル１５０ｍｌを加え、１０％クエン酸水、
飽和食塩水各々１００ｍｌにて順次洗浄し、無水芒硝に
て乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ベンゼン
にて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下留去し、、７−
〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−
２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ
−メチル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸１−イソプロポキシカルボニル
オキシエチルエステル（シン異性体）２．９７ｇを得
た。
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メチル
−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボニルオキシ
エチルエステル塩酸塩（シン異性体） （１）実施例１４の化合物１．６ｇおよび２−（２−ト
リチルアミノチアゾール−４−イル）−２−トリチルオ
キシイミノ酢酸ジシクロヘキシルアミン塩（シン異性
体）３．３１ｇを塩化メチレン５０ｍｌに懸濁し、−１
０℃に冷却した。ピリジン０．６３ｍｌ、オキシ塩化リ
ン０．５４ｍｌを順次加え、同温度にて１５分間攪拌し
た。酢酸エチル１５０ｍｌを加え、１０％クエン酸水、
飽和食塩水各々１００ｍｌにて順次洗浄し、無水芒硝に
て乾燥後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ベンゼン
にて溶出し、目的分画の溶媒を減圧下留去し、、７−
〔２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）−
２−トリチルオキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ
−メチル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸１−イソプロポキシカルボニル
オキシエチルエステル（シン異性体）２．９７ｇを得
た。
【０１５９】ＩＲ（nujol, cm -1） 1795, 1760, 1680 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.24 (d, J=6.0Hz, 6H, -CH(CH 3 ) 2 ) 1.51 (d, J=5.0Hz, 3H, -CH 3 ) 3.09 (s, 3H, >N-CH 3 ) 3.73 (br.s, 2H, C 2 -H 2) 4.50 - 5.00 (m, 1H, -OCO2 CH< ) 4.66 (br.s, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.24 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.91 (m, 1H, C7 -H) 6.57 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 6.70 - 7.10 (m, 1H, -CO 2 CH< ) 7.00 - 7.80 (m, 30H, フェニル×6) 8.00 - 8.40 (br, 1H, -CHO ) 8.69 (br.s, 1H, チアゾール C2 -NH-) 9.89 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH-)
【０１６０】（２）（１）の化合物２．８７ｇに８０％
ギ酸１１．５ｍｌを加え、室温にて２時間攪拌した。水
２７０ｍｌを加え、不溶物を濾別しジエチルエーテル２
５０ｍｌで洗浄した。食塩５０ｇを加え、酢酸エチル１
００ｍｌで４回抽出し、酢酸エチル層を合わせ、４％重
曹−５％食塩水２００ｍｌ、次いで飽和食塩水１００ｍ
ｌで洗浄した。無水芒硝で乾燥後、減圧下溶媒を留去
し、残渣を塩化メチレン１２．３ｍｌに溶解し、０℃で
冷却した。９．１５Ｎ−塩化水素イソプロパノール溶液
０．３ｍｌを加え、イソプロピルエーテル１５０ｍｌに
注加し、析出する固形物を濾取し、標題化合物１．１４
ｇを得た。
ギ酸１１．５ｍｌを加え、室温にて２時間攪拌した。水
２７０ｍｌを加え、不溶物を濾別しジエチルエーテル２
５０ｍｌで洗浄した。食塩５０ｇを加え、酢酸エチル１
００ｍｌで４回抽出し、酢酸エチル層を合わせ、４％重
曹−５％食塩水２００ｍｌ、次いで飽和食塩水１００ｍ
ｌで洗浄した。無水芒硝で乾燥後、減圧下溶媒を留去
し、残渣を塩化メチレン１２．３ｍｌに溶解し、０℃で
冷却した。９．１５Ｎ−塩化水素イソプロパノール溶液
０．３ｍｌを加え、イソプロピルエーテル１５０ｍｌに
注加し、析出する固形物を濾取し、標題化合物１．１４
ｇを得た。
【０１６１】ＩＲ（nujol, cm -1） 1790, 1760, 1670 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.24 (d, J=6.0Hz, 6H, -CH(CH 3 ) 2 ) 1.48 (d, J=5.0Hz, 3H, -CH 3 ) 3.08 (s, 3H, >NCH 3 ) 3.74 (br.s, 2H, C 2 -H2 ) 4.00 - 10.00 (br, 3H, -N+ H 3 ) 4.50 - 5.00 (m, 1H, -OCO2 CH< ) 4.65 (br.s, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.23 (d, J=5.0Hz, 1H, C6 -H) 5.70 - 6.00 (m, 1H, C7 -H) 6.60 -7.00 (m, 1H, -CO2 CH < ) 6.82 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.90 -8.40 (br, 1H, -CHO ) 9.69 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH -) 12.35 (br.s, 1H, -OH )
【０１６２】実施例１６，１７および以下に挙げる化合
物は、実施例１〜１５のいずれかの方法に準じて製造さ
れる。 実施例１６ ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エチル
−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性体） ＩＲ（nujol, cm -1） 1780, 1680, 1605 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.10 (t, J=7.0Hz, 3H, -CH 2 CH 3 ) 3.00 - 3.80 (m, 4H, -CH 2 CH3 , C 2 -H 2) 4.65, 4.82 (ABq, J=9.5Hz, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.01 (d, J=5.0Hz, 1H, C 6 -H) 5.65 (d ×d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.64 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.10 (br.s, 2H, チアゾール C2 -NH 2 ) 7.80 - 8.40 (br, 1H, -CHO ) 9.39 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH -) 11.20 - 12.00 (br, 1H, -OH )
物は、実施例１〜１５のいずれかの方法に準じて製造さ
れる。 実施例１６ ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エチル
−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性体） ＩＲ（nujol, cm -1） 1780, 1680, 1605 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.10 (t, J=7.0Hz, 3H, -CH 2 CH 3 ) 3.00 - 3.80 (m, 4H, -CH 2 CH3 , C 2 -H 2) 4.65, 4.82 (ABq, J=9.5Hz, 2H, C 3 -CH 2 -) 5.01 (d, J=5.0Hz, 1H, C 6 -H) 5.65 (d ×d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.64 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.10 (br.s, 2H, チアゾール C2 -NH 2 ) 7.80 - 8.40 (br, 1H, -CHO ) 9.39 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH -) 11.20 - 12.00 (br, 1H, -OH )
【０１６３】実施例１７ ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エチル
−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性体） ＩＲ（nujol, cm -1） 1770, 1620 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.07 (t, J=7.0Hz, 3H, - CH 3) 2.04 (s, 3H, - CH 3 ) 3.00 - 4.00 (m, 4H, C 2 -H 2 , -CH 2- ) 4.65, 4.82 (ABq, J=10.0Hz, 2H, C 3 -CH 2 ) 5.05 (d, J=5.0Hz, 1H, C 6 -H) 5.67 (d ×d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.64 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.13 (br.s, 2H, チアゾール C2 -NH 2 ) 9.46 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH -) 11.50 - 12.60 (br, 1H, -OH )
ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エチル
−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性体） ＩＲ（nujol, cm -1） 1770, 1620 ＮＭＲ（DMSO -d 6 , δppm ） 1.07 (t, J=7.0Hz, 3H, - CH 3) 2.04 (s, 3H, - CH 3 ) 3.00 - 4.00 (m, 4H, C 2 -H 2 , -CH 2- ) 4.65, 4.82 (ABq, J=10.0Hz, 2H, C 3 -CH 2 ) 5.05 (d, J=5.0Hz, 1H, C 6 -H) 5.67 (d ×d, J=5.0, 8.0Hz, 1H, C7 -H) 6.64 (s, 1H, チアゾール C5 -H) 7.13 (br.s, 2H, チアゾール C2 -NH 2 ) 9.46 (d, J=8.0Hz, 1H, -CONH -) 11.50 - 12.60 (br, 1H, -OH )
【０１６４】(1) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−
３−（Ｎ−メチル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメ
チルエステル 塩酸塩（シン異性体） (2) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (3) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (4) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (5) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (6) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性体） (7) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性
体） (8) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性
体） (9) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性体） (10)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性体） (11)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (12)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (13)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (14)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (15)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (16)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (17)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボ
ニルオキシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (18)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエ
ステル 塩酸塩（シン異性体） (19)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボ
ニルオキシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (20)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボ
ニルオキシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (21)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエ
ステル 塩酸塩（シン異性体） (22)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボ
ニルオキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (23)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボニル
オキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (24)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエステ
ル 塩酸塩（シン異性体） (25)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボニル
オキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (26)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボニル
オキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (27)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエステ
ル 塩酸塩（シン異性体） (28)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボニル
オキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (29)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−アセチル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (30)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−アセチル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩（シン異性
体） (31)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−アセチル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−シクロヘキシルカルボニルオキシエチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (32)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−シアノア
セチルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸 １−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエス
テル 塩酸塩（シン異性体） (33)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−シアノア
セチルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸 ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩（シン
異性体） (34)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−シアノア
セチルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸 １−シクロヘキシルカルボニルオキシエチルエス
テル 塩酸塩（シン異性体） (35)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−ホルミル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (36)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−ホルミル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩（シン異性
体） (37)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−ホルミル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−シクロヘキシルカルボニルオキシエチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (38)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−メチルカルバモイル）アミノオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカ
ルボニルオキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (39)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−メチルカルバモイル）アミノオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチ
ルエステル 塩酸塩（シン異性体） (40)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−メチルカルバモイル）アミノオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカ
ルボニルオキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (41)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−ホルミル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 (42)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−ホルミル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 (43)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−アセチル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 (44)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−アセチル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 (45)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−シアノアセチ
ル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 (46)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−シアノアセチ
ル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 (47)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−アクロイル）
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 (48)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−アクロイル）
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 (49)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−ホルミル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピ
バロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (50)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−ホルミル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 １
−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル 塩
酸塩 (51)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−ホルミル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピ
バロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (52)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−アセチル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 １
−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル 塩
酸塩 (53)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−アセチル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピ
バロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (54)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−アセチル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 １
−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル 塩
酸塩 (55)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−アセチル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピ
バロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (56)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−シアノアセチ
ル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 １−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステ
ル 塩酸塩 (57)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−シアノアセチ
ル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (58)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−シアノアセチ
ル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 １−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステ
ル 塩酸塩 (59)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−シアノアセチ
ル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (60)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−アクロイル）
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル
塩酸塩 (61)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−アクロイル）
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (62)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−アクロイル）
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル
塩酸塩 (63)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−アクロイル）
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩
４−イル）−２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−
３−（Ｎ−メチル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメ
チルエステル 塩酸塩（シン異性体） (2) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (3) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (4) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (5) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−ホルミル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (6) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性体） (7) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性
体） (8) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性
体） (9) ７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性体） (10)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ナトリウム塩（シン異性体） (11)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (12)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (13)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (14)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (15)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (16)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アセチル）アミノオキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボニルオ
キシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (17)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボ
ニルオキシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (18)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエ
ステル 塩酸塩（シン異性体） (19)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボ
ニルオキシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (20)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボ
ニルオキシエチルエステル塩酸塩（シン異性体） (21)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエ
ステル 塩酸塩（シン異性体） (22)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−シアノアセチル）アミノオキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボ
ニルオキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (23)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボニル
オキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (24)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエステ
ル 塩酸塩（シン異性体） (25)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボニル
オキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (26)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカルボニル
オキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (27)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチルエステ
ル 塩酸塩（シン異性体） (28)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−エ
チル−Ｎ−アクロイル）アミノオキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカルボニル
オキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (29)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−アセチル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (30)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−アセチル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩（シン異性
体） (31)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−アセチル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−シクロヘキシルカルボニルオキシエチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (32)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−シアノア
セチルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸 １−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエス
テル 塩酸塩（シン異性体） (33)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−シアノア
セチルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸 ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩（シン
異性体） (34)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−シアノア
セチルアミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸 １−シクロヘキシルカルボニルオキシエチルエス
テル 塩酸塩（シン異性体） (35)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−ホルミル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (36)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−ホルミル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩（シン異性
体） (37)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−ホルミル
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−シクロヘキシルカルボニルオキシエチルエステル
塩酸塩（シン異性体） (38)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−メチルカルバモイル）アミノオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸 １−イソプロポキシカ
ルボニルオキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (39)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−メチルカルバモイル）アミノオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸 ピバロイルオキシメチ
ルエステル 塩酸塩（シン異性体） (40)７−〔２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−
２−ヒドロキシイミノ−アセトアミド〕−３−（Ｎ−メ
チル−Ｎ−メチルカルバモイル）アミノオキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸 １−シクロヘキシルカ
ルボニルオキシエチルエステル 塩酸塩（シン異性体） (41)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−ホルミル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 (42)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−ホルミル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 (43)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−アセチル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 (44)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−アセチル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 (45)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−シアノアセチ
ル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 (46)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−シアノアセチ
ル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 (47)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−アクロイル）
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 (48)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−アクロイル）
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 (49)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−ホルミル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピ
バロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (50)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−ホルミル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 １
−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル 塩
酸塩 (51)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−ホルミル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピ
バロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (52)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−アセチル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 １
−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル 塩
酸塩 (53)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−アセチル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピ
バロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (54)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−アセチル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 １
−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル 塩
酸塩 (55)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−アセチル）ア
ミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸 ピ
バロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (56)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−シアノアセチ
ル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 １−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステ
ル 塩酸塩 (57)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−シアノアセチ
ル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (58)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−シアノアセチ
ル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 １−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステ
ル 塩酸塩 (59)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−シアノアセチ
ル）アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸 ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (60)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−アクロイル）
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル
塩酸塩 (61)７−アミノ−３−（Ｎ−メチル−Ｎ−アクロイル）
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩 (62)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−アクロイル）
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
１−イソプロポキシカルボニルオキシエチルエステル
塩酸塩 (63)７−アミノ−３−（Ｎ−エチル−Ｎ−アクロイル）
アミノオキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ピバロイルオキシメチルエステル 塩酸塩
【０１６５】次に本発明化合物の優れた性質を明らかに
するために、以下のようにして抗菌試験および経口吸収
実験を行った。
するために、以下のようにして抗菌試験および経口吸収
実験を行った。
実験例１ 抗菌試験 本発明化合物および対照化合物の各種細菌に対する最小
発育阻止濃度（ＭＩＣ）を測定した。結果を表２に示
す。
発育阻止濃度（ＭＩＣ）を測定した。結果を表２に示
す。
【０１６６】
【表２】
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ1 は水素原子、低級アルキル基またはヒドロ
キシ保護基を、Ｒ2 は水素原子または低級アルキル基
を、Ｒ3 は式−ＣＯＲ5 で示される基（式中、Ｒ5は水
素原子、置換基を有していてもよい低級アルキル基、ま
たは低級アルケニル基を示す。）、式−ＣＯ2 Ｒ6 で示
される基、式−ＳＯ2 Ｒ6 で示される基、式−ＣＯＮＨ
Ｒ6 で示される基（前記式中、Ｒ6 は低級アルキル基を
示す。）、または式−ＣＯＮＨ2 で示される基を、Ｒ4
はカルボキシル基またはエステル化されたカルボキシル
基を示す。〕で表されるセファロスポリン化合物または
その医薬として許容される塩。 - 【請求項２】 一般式(II) 【化２】 （式中、Ｒ2 は水素原子または低級アルキル基を、Ｒ3
は式−ＣＯＲ5 で示される基（式中、Ｒ5 は水素原子、
置換基を有していてもよい低級アルキル基、または低級
アルケニル基を示す。）、式−ＣＯ2 Ｒ6 で示される
基、式−ＳＯ2 Ｒ6で示される基、式−ＣＯＮＨＲ6 で
示される基（前記式中、Ｒ6 は低級アルキル基を示
す。）、式−ＣＯＮＨ2 で示される基を、Ｒ4 はカルボ
キシル基またはエステル化されたカルボキシル基を示
す。〕で表される７−アミノセファロスポリン化合物ま
たはその塩。 - 【請求項３】 一般式(II) 【化３】 （式中、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は、それぞれ前記と同意
義。）で表される化合物と、一般式(III) 【化４】 （式中、Ｒ1 は前記と同意義、Ｒ7 は水素原子またはア
ミノ保護基を示す。)で表される化合物またはその反応
性誘導体とを反応させる工程を経るか、 (1)一般式(IV) 【化５】 (式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ4 およびＲ7 はそれぞれ前記と
同意義。)で表される化合物（以下化合物(IV)とい
う。）と一般式(V−1) Ｒ5-ＣＯ2 Ｈ (V−1) (式中、Ｒ5 は前記と同意義。)で表される化合物とを反
応させる工程を経るか、(2)化合物(IV)と一般式(V−2) Ｒ6-ＯＣＯＸ (V−2) (式中、Ｒ6 は前記と同意義、Ｘはハロゲン原子を示
す。)で表される化合物とを反応させる工程を経るか、
(3)化合物(IV)と一般式(V−3) Ｒ6-ＳＯ2 Ｘ (V−3) (式中、Ｒ6 およびＸは前記と同意義。)で表される化合
物とを反応させる工程を経るか、(4)化合物(IV)とクロ
ロスルホニルイソシアネートあるいはトリクロロアセチ
ルイソシアネートとを反応させ、クロロスルホニルある
いはトリクロロアセチル基を脱離させる工程を経るか、
(5)化合物(IV)と一般式(V−4) Ｒ6-ＮＣＯ (V−4) (式中、Ｒ6 は前記と同意義。)で表される化合物とを反
応させる工程を経るか、 一般式(VI) 【化６】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＸはそれぞれ前
記と同意義。）で表される化合物と、一般式(VII) 【化７】 （式中、Ｒ7 は前記と同意義。)で表される化合物とを
反応させる工程を経るか、 一般式(VIII) 【化８】 （式中、Ｒ2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＲ7 はそれぞれ前記と
同意義。）で表される化合物と、一般式(IX) Ｈ2 ＮＯＲ1 (IX) （式中、Ｒ1 は前記と同意義。)で表される化合物とを
反応させる工程を経ることを特徴とする、一般式(I) 【化９】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 はそれぞれ前記と
同意義。）で表されるセファロスポリン化合物またはそ
の医薬として許容される塩の製造法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5134953A JPH06345775A (ja) | 1993-06-04 | 1993-06-04 | セファロスポリン化合物、その製造法および中間体化合物 |
| AU68163/94A AU6816394A (en) | 1993-06-04 | 1994-05-30 | Cephalosporin compound, process for producing the same, and intermediate compound |
| PCT/JP1994/000864 WO1994029320A1 (fr) | 1993-06-04 | 1994-05-30 | Compose de cephalosporine, procede d'obtention de ce compose et compose intermediaire |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5134953A JPH06345775A (ja) | 1993-06-04 | 1993-06-04 | セファロスポリン化合物、その製造法および中間体化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06345775A true JPH06345775A (ja) | 1994-12-20 |
Family
ID=15140435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5134953A Pending JPH06345775A (ja) | 1993-06-04 | 1993-06-04 | セファロスポリン化合物、その製造法および中間体化合物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06345775A (ja) |
| AU (1) | AU6816394A (ja) |
| WO (1) | WO1994029320A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100400498B1 (ko) * | 2000-11-16 | 2003-10-08 | 씨제이 주식회사 | 세펨 유도체 또는 그 염의 신규한 제조방법 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2702257C (en) | 2007-10-09 | 2016-07-12 | Sopharmia, Inc. | Broad spectrum beta-lactamase inhibitors |
| CA2905240A1 (en) | 2013-03-12 | 2014-10-09 | Gladius Pharmaceuticals Coproration | Derivatized 3-styryl-cephalosporins |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6216486A (ja) * | 1985-07-16 | 1987-01-24 | Teijin Ltd | ３−ヨ−ドメチルセフアロスポリン化合物の製造法 |
-
1993
- 1993-06-04 JP JP5134953A patent/JPH06345775A/ja active Pending
-
1994
- 1994-05-30 AU AU68163/94A patent/AU6816394A/en not_active Abandoned
- 1994-05-30 WO PCT/JP1994/000864 patent/WO1994029320A1/ja active Application Filing
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100400498B1 (ko) * | 2000-11-16 | 2003-10-08 | 씨제이 주식회사 | 세펨 유도체 또는 그 염의 신규한 제조방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| AU6816394A (en) | 1995-01-03 |
| WO1994029320A1 (fr) | 1994-12-22 |
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