JPS6092292A - 中間体および新規な抗菌剤としての3‐アジドセフアロスボリン類 - Google Patents

中間体および新規な抗菌剤としての3‐アジドセフアロスボリン類

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JPS6092292A
JPS6092292A JP59202894A JP20289484A JPS6092292A JP S6092292 A JPS6092292 A JP S6092292A JP 59202894 A JP59202894 A JP 59202894A JP 20289484 A JP20289484 A JP 20289484A JP S6092292 A JPS6092292 A JP S6092292A
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amino
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JP59202894A
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ドウグラス・オー・スプライ
ウエイン・エイ・スピツツアー
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Eli Lilly and Co
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    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/59Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3 with hetero atoms directly attached in position 3
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
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    • C07D513/00Heterocyclic compounds containing in the condensed system at least one hetero ring having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for in groups C07D463/00, C07D477/00 or C07D499/00 - C07D507/00
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  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の目的 多くの3−置換セファロスポリン抗生物質が知られてい
る。例えば、3−ヒドロキシおよび3−メトキシ置換3
−セフェム化合物はChauvetteによりアメリカ
合衆国特許番号3,917,587および3,917,
588に記述されており、3−ハロー3−セフェム化合
物はChauveLLeによりアメリカ合衆国特許番号
3,925,372および3,962,227に、3−
スルホニルオキシ−3−セフェムおよび3−第二アミノ
−3−セフェム化合物はSp i t zerにより各
々アメリカ合衆国特許番号3,985,737および4
..013,651に、そして3−へテロ環チオ置換3
−セフェムはアメリカ合衆国特許番号3,992.37
7に記載されている。多くの3−置換メチル−3−セフ
ェム化合物モマたセファロスポリンの技術分野において
よく知られている。アメリカ合衆国特許番号3,274
,1.86.3,278,531.3,360,515
および3,634,418にある3−アジドメチル置換
セファロスポリンは3−置換メチル−3−セフェム化合
物の筒中に入る。3−アジドメチル−3−セフェム化合
物は3−アミノメチル−3−セフェム抗生物質へと変換
されており、Ileymcsらは3−アミノメチル−3
−セフェム化合物を用いてセファロスポリンT−ラクタ
ムを合成した。7−アジドセファロスポリンは、アメリ
カ合衆国特許番号4,297,488中でC11ris
tensenらにより有用な中間体として開示されてい
る。
本発明は、中間体および抗菌化合物として有用な新規な
3−アジドセファロスポリンζこ関する。
特に、7−アミノおよび7−アシルアミノ−3−アジド
−3−セフェム−4−カルボン酸もしくはそのエステル
またはその塩が提供されている。3−アジド−3−セフ
ェムは、3−ノ10−3−セフェムまたは3−アルキル
スルホニルオキシ−3−セフェムのエステルをアルカリ
金属アジドと反応させることによって製造される。その
アジドエステルは脱エステル化されて3−アジド−3−
セフェム−4−カルボン酸を与える。後者は慣用的な方
法により塩、例えばナトリウムまたはカリウム塩へと変
換できる。3−アジド−3−セフェムは、遊離の酸また
はその塩として、ヒトおよび動物に対して病原となる微
生物の発育を阻害する。本発明の化合物は、抗菌活性を
有する6−チア−1,3−ジアザビシクロC5,2,0
’)ノネン、6−チア−1,4−ジアザビシクロ(5,
2,0’)ノネンおよび3−アミノ−2−置換−3−セ
フェム化合物を製造するための有用な中間体でもある。
発明の構成および効果 本発明により、中間体または抗菌剤として有用(式中、
Rは水素または技 がC1〜C4アルキル(式中、aは
ハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、C1〜Cアルキル、6
1〜C4アルコキシ、シアン、ヒドロキシメチル、アミ
ノメチル、カルボキシアミド、カルボキシメチルまたは
01〜C4アルコキシカルボニルメチルである。)の−
置換フェニル基n’ (式中、a′、a″とa″′ は独立に水素、ハロゲン
、ヒドロキシ、CN6 アルキルまたはC1〜C4ア4 ルコキシである。)の二もしくは三置換フェニル基であ
り、nがOまたは1である式 %式% のアロイルまたはアラルカッイル基であるか、kはR3
が式 (式中、bはアミノ、保護アミノ、C1〜C3アルキル
またはフェニルである。)である式%式% のアリールオキシアセチルまたはアリールチオア七チル
基であるか、kは式 R’−CH−C−(式中、R4は
1. +こ定義したに2であるか、チェニル、フリルも
しくは1,4−シクロへキサジェニルである。Qはヒド
ロキシ、ホルミルオキシ、カルボキシ、スルホ基−50
3■またはアミノである。
)のα−置置換アラルカイイルたはへテロアリールアル
カノイル置換基であるか、またはkは式(式中、R5は
各々上に定義したR2またはに3であり、k は水素ま
たは01〜C3アルキルである。)のオキシイミノ置換
アラルカッイルまたはへテロアリールアルカノイル基で
ある。k は水素またはカルボキシ保護基である。〕で
表わされる3−アジド−3−セフェムまたは製薬的【こ
許容されるその塩を提供する。さらに、Z′がハロまた
はC1〜C4アルキル−5o2−o−であり、艮とR1
が上に定義したものである式(3) の化合物をアジド生成試薬と反応させること、および必
要ならkが水素である式(1)の化合物をアシル化する
かまたはkが水素以外のものである式(1)の化合物を
脱アシル化すること、およびさらに必要ならいかなる保
護基をも除去すること、および/またはその生成物を塩
の型にすることを特徴とする上に定義したような式(1
)で表わされる化合物の製造法を提供する。
「01〜C4アルキル」はメチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、5ec−ブチルおよび
【−ブチルを指し、「C0〜C4アルコキシ」はメトキ
シ、エトキシ、n−プロポキシ、n−ブトキシまたは1
−ブトキシのような基を意味シ、「ハロゲン」はフルオ
ロ、クロロ、ブロモまたはヨードを意味する。
RがR−C(0)−である時、式(1)においてkによ
り表わされるアシル基の例はアセチル、プロピオニル、
ブチリル、クロロアセチルおよびシアノアセチルである
。kがアロイルまたはアラルカッイル基である場合、そ
の例はベンゾイル、4−クロロベンゾイル、2,6−シ
メトキシベンゾイル、4−ヒドロキシベンゾイル、4−
メチルベンゾイル、4−メトキシベンゾイル、3.4−
ジクロロベンゾイル、3−シアノベンゾイル、4−メト
キシカルボニルメチルベンゾイル、4−エチルベンゾイ
ル、4−7’ロモー3−メチルベンゾイル、4−1−ブ
チルベンゾイル、2−フルオロベンゾイル、3−ヒドロ
キシベンゾイル、4−カルバモイルベンゾイル、2−ア
ミノメチルベンゾイル、3−エトキシベンゾイル、フェ
ニルアセチル、4−クロロフェニルアセチル、4−メチ
ルフェニルアセチル、4−ヒドロキシフェニルアセチル
、3,4−ジメチルフェニルアセチル、2−アミノメチ
ルフェニルアセチル、4−メトキシフェニルアセチル、
2.6−シメトキシフエニルアセチル、4−エトキシフ
ェニルアセチル、3−ブロモフェニルアセチル、3.4
−ジヒドロキシフェニルアセチル、3.5−ジクロロ−
4−ヒドロキシフェニルアセチル、3−10ロー4−ヒ
ドロキシフェニルアセチル、3−エトキシ−4−ヒドロ
キシフェニルアセチル、4−シアノフェニルアセチル、
4−カルボキシフェニルアセチル、4−カルボキシメチ
ルフェニルアセチル、4−【−ブチルフェニルアセチル
、3゜4.5−トリヒドロキシフェニルアセチルおよび
3−フロモー4−エトキシフェニルアセチルヲ包含する
。kがへテロアリールアルカノイル基である場合、kの
例は2−チェニルアセチル、3−チェニルアセチル、2
−7リルアセチル、II]−テトラゾール−1−イルア
セチル、2H−テトラゾール−5−イルアセチノペチア
ゾールー4−イルアセチル、オキサゾール−4−イルア
セチル、2−メチルチアゾール−4−イルアセチル、2
−アミノチアゾール−4−イルアセチルおよび2−フェ
ニルオキサゾール−4−イルアセチルを含む。Rがアリ
ールオキシアセチルまたはアリールチオアセチル基であ
る場合、その例はフェノキシアセチル、4−クロロフェ
ノキシアセチル、3.4−ジクロロフエノキシアセチル
、4−メチルフェノキシアセチル、4−フルオロフェノ
キシアセチル、4−ヒドロキシフェノキシアセチル、3
−クロロ−4−メトキシフェノキシアセチル、4−エト
キシフェノキシアセチル、フェニルチオアセチル、4−
クロロフェニルチオアセチル、3,5−ジクロロフェニ
ルチオアセチルペ4−フルオロフェニルチオアセチル、
3,4−ジクロロフェニルチオアセチル、’4−ブロモ
フェニルチオアセチルおよび4−クロロ−3−メチルフ
ェニルチオアセチルである。
kがα−置置換アラルカイイルたはへテロアリールアル
カノイル基である場合、その例はフェニルグリシル、4
−ヒドロキシフェニルグリシル、4−エトキシフェニル
グリシル、4−クロロフェニルクリシル、3−クロロ−
4−ヒドロキシフェニルクリシル、2−チェニルグリシ
ル、マンゾロイル、マロニル、α−スルホフェニルアセ
チルおよびα−アミノ−1,4−シクロへキサジエン−
1−イルアセチルを包含する。kがオキシイミノ−置換
アシル基である場合、そのような基の例はα−ヒドロキ
シイミノフェニルアセチル、a−メトキシイミノフェニ
ルアセチル、α−メトキシイミノ−2−7リルアセチル
、a−メトキシイミノ−2−チェニルアセチル、α−ヒ
ドロキシイミノ−(2−アミノチアゾール−4−イル)
アセチルおよびα−メトキシイミノ−(2−アミノチア
ゾール−4−イル)アセチルである。
「保護アミノ」は、セファロスポリンおよびペプチドの
技術分野において一般に用いられる慣用的なアミン保護
基によって置換されたアミノ基を指す。そのような基の
例は、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、【−
ブトキシカルボニル(BOC)、l−リクロロエトキシ
力ルボニル、ベンジルオキシカルボニル、P−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルおよびジフェニルメトキシカル
ボニルのようなアルキルオキシカルボニルならびにアラ
ルキルオキシカルボニル基であり、アリルオキシカルボ
ニルおよびジアルキルエチニルカルビニルオキシカルボ
ニル(例えばジメチルエチニルカルビニルオキシカルボ
ニル)のようなアルケニルオキシカルボニルおよびアル
キニルオキシカルボニル基でアリ、シクロペンチルオキ
シカルボニルおよびシクロへキシルオキシカルボニルの
ようなシクロアルコキシカルボニル基であり、アセト酢
酸エチルおよびアセト酢酸メチルのようにアミノ基とエ
ナミンを形成するβ−ケトエステルであり、トリチルの
ようなアリール型の保護基、トリアルキルシリル(例え
ばトリメチルシリルおよびジメチルブチルシリル)のよ
うなシリル型の保護基、アセチル、クロロアセチルおよ
びフタロイルのようなアシルおよびジアシル基、ならび
に他の一般に用いられるアミノ保護基である。
「カルボキシ保護基」は、温和な加水分解または水素化
分解の条件の下で容易に除去され、カルボキシ基の一時
的な保護のためにβ−ラクタムおよびポリペプチドの技
術分野において一般に用いられるエステル形成基を意味
する。そのような基の例は、【−ブチル、2.2.2−
トリクロロエチル、2.2.2−1リブロモエチルおよ
び2−ヨードエチルのようなアルキルおよび置換アルキ
ル基、ベンジル、4−ニトロベンジル、4−メトキシベ
ンジルおよびジフェニルメチルのようなアラルキル基、
トリメチルシリル、トリエチルシリルおよびジメチル−
【−ブチルシリルのようなトリアルキルシリル基、フェ
ナシルおよび置換フェナシル基、またはN−オキシコハ
ク酸イミドおよびN−オキシフタルイミド基である。
式(1)inよって表わされる7β−アシルアミノ−3
−アジドセファロスポリンの中で、あるものセチル置換
化合物のようなkがR2+Z )CH2−C−である化
合物は好ましい。同様に、kが□−C馬−Jニー、例え
ば2−または3−チェニルアセチルであるヘテロアリー
ルアルカノイル置換化合物は好ましい。さらに好ましい
3−アジド化合物は・R”ゞR’−Ct((Q)と−ア
シル基、特に式中Qがヒドロキシ、カルボキシまたはア
ミノであルモのおよびk がフェニル、チェニル、フリ
ルまたは2−アミノ−1,3−チアゾール−4−イルで
ありk がメチルである kが水素である時、式(1)によって表わされる3−ア
ジド化合物は、R1が式(1月こついて以前に定義(7
たものと同じ意味をもつ式(2)の化合物または無機酸
および有機スルホン酸と形成するその塩として示される
。無機酸と形成する塩は、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩
、硫酸塩およびリン酸塩である。有機スルホン酸で形成
される塩は、例えばメタンスルホン酸塩およびn−ブタ
ンスルホン酸塩のような61〜C4アルキルスルホン酸
塩ならびにベンゼンスルホン酸塩およびp−1−ルエン
スルホン酸塩のようなアリールスルホン酸塩である。
1(がアシル基である式(1)の化合物は、式(3)〔
式中、Z′はハロゲンまたは01〜C4アルキル−5O
2−〇−であり、kl はカルボキシ保護基である。k
は式(1)について定義した水素以外のものである。〕
によって表わされる3−ハロー3−セフェムエステルま
たは3−アルキルスルホニルオキシ−3−セフェムエス
テルを用いて製造される。
式(3)において、ハロゲンは好ましくはクロロまたは
ブロモである。3−ハロまたは3−アルキルスルホニル
オキシ−3−セフェムは不活性溶媒中でアルカリ金属ア
ジド、好ましくはアジ化ナトリウムと反応させる。その
アジド〔式(1)〕は〕3−ハロー3−セフェムエステ
およびテトラメチルグアニジニウムアシド(TMGA)
を用いてもまた製造できる。その反応は、出発物質およ
びアジドが少なくとも部分曲に溶解する不活性溶媒中で
行うことができる。無機アジドを用いる反応に適当な溶
媒はジメチルホルムアミド、ジメチルア19− セトアミドおよO・ジメチルスルホキシドである。
アジドとして゛「MGAを用いる場合、テトラヒドロフ
ラン、アセトニトリルおよび塩化メチレンのような他の
溶媒もまた使用することができる。その反応はテトラア
ルキルアンモニウム塩のようなフェーズトランスファー
(phase transfer)試薬を用いることに
よって、水/有機二相の不均一溶媒系中でも行うことが
できる。
その反応は約0℃ないし約45℃の温度、好ましくは約
5℃ないし約25℃で実行される。
別法として、本発明のセファロスポリンアジドは、式(
2)の7−アミノ−3−アジド−3−セフェム−4−カ
ルボン酸エステルをN−アシル化スることによっても製
造できる。そのN−アシル化は、7−ACA、7−AD
CAおよび7−アミノ−3−ハロー3−セフェムエステ
ルのヨウナ7−アミノセファロスポリン骨核化合物のN
−アシル化において一般に用いられるアシル化法により
実行される。例えば、アシル化は、塩化メチレン、アセ
トニトリル、テトラヒドロフランまたはそれ20− らの混合物のような有機溶媒中、無水の条件下で望まし
いカルボン酸のカルボキシ基の活性誘導体を式(2)の
7−アミノ−3−アジド−3−セフェムエステルとカッ
プリングさせることによって行うことができる。アシル
化の目的に適した活性誘導体は酸ハロゲン化物、酸アジ
ド、混合酸無水物および活性エステルである。アシル化
に、塩化物のような酸ハロゲン化物が用いられる場合、
酸結合剤もまた用いられる。トリエチルアミンのような
第三アミンまたはピリジンおよびキノリンのようなアミ
ンは酸結合剤として適している。
用い得る活性エステルは、縮合剤の存在下、酸およびN
−ヒドロキシへテロ環とで形成されるようなものである
。N−ヒドロキシコハク酸イミド、N−ヒドロキシフタ
ルイミドおよびヒドロキシベンゾトリアゾール(HBT
)は有用な活性エステル形成化合物である。カルボジイ
ミド、例えばジシクロへキシルカルボジイミドおよびジ
エチルカルボジイミドのような縮合剤もまた活性エステ
ルをつくるために用いることができる。
ジシクロへキシルカルボジイミドのようなカルボジイミ
ド゛を用いて酸と7−アミン化合物を縮合することに」
二で)で、式(2)の7−アミノ−3−アジド骨核エス
テルをアシル化することも可能である。
酸を、クロロギ酸のエステルとその酸の反応により生成
する混合酸無水物エステルへと変換することもまたでき
る。適当なエステルはクロロギ酸エチルおよびクロロギ
酸イソブチルである。混合酸無水物はトリエチルアミン
(T EA )のようなC00Tfにおいて、R4およ
びQは以前に定義した7−アミノ−3−アジドエステル
のアシル化の間、カルボン酸のアシル化部に存在する遊
離のアミノおよびカルボキシ基はいかなるものも保護さ
れることが望ましい。例えば、式(1)においてQがア
ミノまたはカルボキシである時、これらの基はアシル化
の間保護され、その後に脱保護を受けて抗菌型の3−ア
ジド化合物を与えることができる。
kが水素である式(1)の化合物は、7−アシルアミノ
−3−アジドセファロスポリンエステルの製造について
上に述べた手法に従って、3−ハロ(またはアルキルス
ルホニルオキシ)−7−アミノ−3−セフェムエステル
およびアジドを用いて製造される。別法として、3−ハ
ロまたは3−スルホニルオキシ骨核エステルの7−アミ
ン基は、アジドとの反応の前にアミノ保護基で保護して
もよく、反応の後で保護基は除去される。この目的に有
用な具体的な保護基は、アルコキシカルボニル、置換ア
ルコキシカルボニル、シクロアルコキシカルボニル、ア
リールオキシカルボニルおよびアダマンチルオキシカル
ボニルであり、ジカルボキシ化合物でつくったジアシル
基、トリチル基ならびに7−アミノ化合物と1,2−ジ
フェニル−1゜2−エタンジオール環状カーボネートか
ら生成する「OX」保護基である。これらの保護された
7−アミノ−3−アジド−3−セフェムエステルは構〔
式中、Pは、R4がC1〜C5アルキル、ハロ置換C1
〜C5アルキル、C3〜C7シクロアルキル、ベンジル
、二l−ロベンジル、ハロペンシル、メトキシベンジル
、ジフェニルメチルもしくはアダマンチルオキシカルボ
ニルである 1 R−0−C−NtT− のモノアシルアミノ基またはPはYがC1〜C3アによ
って表わされるジアシルアミノ基、または式によって表
わされる4、5−ジフェニル−4−オキサゾリン−2−
オン(Ox)である。〕によって表わされる。 0 式R4−0−C−のアミノ保護基の例は、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、【−ブトキシカルボニル
、n−アミルオキシカルボニル、トリクロロエトキシカ
ルボニル、シクロプロポキシカルボニル、シクロペント
キシカルボニル、シクロヘキソキシカルボニル、ベンジ
ルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカルボ
ニル、ジフェニルメトキシカルボニルおよびアダマンチ
ルオキシカルボニルである。アミノ保護基Pの例はフタ
ルイミド、コハク酸イミドおよびグルタルイミドである
式(4)により表わされるアミノ保護3−アジドエステ
ルの例は、p−ニトロベンジル7−(t−ブチルオキシ
カルボニルアミノ)−3−アジド−3−セフェム−4−
カルボキシレート、P−メトキシベンジル7−(2,2
,2−トリクロロエトキシカルボニルアミノ)−3−ア
ジド−3−セフェム−4−カルボキシレート、ジフェニ
ルメチル7−(【−ブチルオキシカルボニルアミノ)−
3−アジド−3−セフェム−4−カルボキシレート、P
−ニトロベンジル7−フタルイミド−3−アジド−3−
セフェム−4−カルボキシレート、P−ニトロベンジル
7−(4,5−ジフェニル−4−、tキサゾリン−2−
オン−1−イル)−3−アジド−3−セフェム−4−カ
ルボキシレートおヨO: 2.2゜2−トリクロロエチ
ル7−(4,,5−ジフェニル−4−オキサゾリン−2
−オン−1−イル)−3−アジド−3−セフェム−4−
カルボキシレートである。
7−アミノ−3−アジド骨核化合物〔式(1)でKがI
(”lはまた必要ならば7−アシルアミノ−3−アジド
−3−セフェム−4−カルボン酸エステル〔式(1)で
Rは水素以外のものであり、R1が保護基である〕のN
−説アシル化により製造することもできる。そのN−説
アシル化は、7−アシルエステルをハロゲン化イミド形
成試薬と反応させて7−アミド基のハロゲン化イミドを
生成することによって実行される。アルコールまたはア
ルキルジオール化合物をハロゲン化イミドに加えて相当
するイミノエーテルを生成し、後者は7−アミノ化合物
へと分解される。有用なハロゲン化イミド形成試薬は、
例えば五塩化リンまたは三塩化リンであり、一方、メチ
ルアルコール、エチルアルコールまたはインブチルアル
コールのような低級アルコール類は適当なイミノエーテ
ル形成試薬として役に立つ。N−説アシル化は塩化メチ
レンまたはトリクロロエタンのようなハロゲン化炭化水
素溶媒中で行われる。
一般に、ハロゲン化イミド形成の段階は約−5℃ないし
約45℃の温度範囲で行われ、一方、イミノエーテルの
生成は約−35℃ないし約5℃の ・より低温で行われ
る。イミノエーテル生成に次いで、反応混合物を約20
℃ないし25℃に温め、27− 水を加えるかまたは自然分解を経て、イミノエーテルは
加水分解されるか分解して7−アミノ−3−アジドエス
テルが生成する。
本発明により提供される化合物は無機または有機酸類お
よび塩基類(R,が水素である時)と塩を形成すること
かできる。特に、温血動物の化学療法に有用な製薬的に
許容される塩が好ましい。
セファロスポリンの技術分野において一般に見うれるす
べての製薬的に許容される塩は本発明の筒中に包含され
ることになる。
7−アシルアミノ−3−アジド−3−セフェム−4−カ
ルボン酸またはその塩は、ヒトまたは動物にとって病原
となる細菌の発育を阻害する。抗菌活性は、3−アジド
遊離酸またはその塩を代表的な細菌に対して試験する標
準的な試験管内(invitro)試験において証明さ
れる。例えば、7β−(2−チェニルアセトアミド)−
3−アジド−3−セフェム−4−カルボン酸は次の表−
1に示すように種々の微生物の発育を阻害した。
28− 表−1 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アジド−3
−セフェム−4−カルボン酸の試験管内(in vit
ro)抗菌活性−ディスクプレート検定法スタフィロコ
ッカス・アウレウス 30(S taphylococ
cus aureus )バシラス・サチリス 30 (Bacillus 5ubtilis)バシラス・ス
テアロサーモフィラス 20(Bacillus st
earothermophilus)ミクロコツカス・
ルテウス 23 (Micrococcus 1uteus)プロテウス
・ブルガリス 25 (Proteus vulgaris)サルモネラ・ガ
リナルム 19 (Salmonella gallinarum)エシ
ェリキア・コリ 21 (Escherichia coli)シュードモナス
・ソラナセアルム 29(Pseudomonas s
olanacearum)1、濃度 1〜/屑l 同濃度での同じ試験において、試験化合物は、酵母菌お
よび真菌のサツカロミセス・ポストリアヌス(Sacc
haromyces postorianus)、カン
ジダ・アルビカフ 7. (Candida albi
cans )およびトリコフィトン・メンタグロフィテ
ス(TrichopHyton menia −gro
phytes )ならびに細菌シュードモナス・アルカ
ノール(Pseudomonas aeruginos
a)およびセレイシア−7ルセッセ7 ス(5erra
tia marcescens ) に対し検出可能な
大きさの阻害の範囲を示さなかった。
標準的な寒天稀釈性試験において、本発明の同じ試験化
合物は表−2に示すように数多くの病原性細菌の発育も
また1([1害した。
表−2 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アジド−3
−セフェム−4−カルボン酸の試験管内(in vit
ro )抗菌活性−寒天稀釈法5taphylococ
cus aureus XI、l 8〃 V4] 64 〃 X400 128 // 513E 64 ’ 5treptococcus epidermid
is EPl] 15222 4 2pyogenes C2030,5 pneumoniae Park O,25sp、D 
X66 128 sp、D 2041 128 ’ Haemophilus 1nfluenzae 
C,L、l 5〃 76 4 Escherichia col i N I Q 6
4、、EC1416 u TEM 128 5Klebsiella pneumoniae X2
6 4KAE 12B X68 16 6Enterobacter aerogenes C
32128EB17 128 7Enterobacter cloacae EB 
5 12 B〃 265A 128 8Sa1monella typhi X514 16
〃 1335 16 1、ストレプトコッカス・エビデルミゾイス2、ピオゲ
ネス 3、ニューモニエ 4、ヘモフィルス・インフルエンゼ 5、クレブシェラ・ニューモニエ 6、エンテロバクタ−・アエロケネス 7、エンテロバクタ−・クロアカニ 8、サルモネラ・チフィ 3l− −Hの試験において、試験化合物はシュードモナス・セ
レイシアおよびプロテウスの菌株に対しMIC128ま
たはそれ以1−を示した。
R1がカルボキシ保護基である式(1)の化合物は既知
の手法により脱エステル化されて遊離の酸型(R,=I
−1)となる。本発明の3−アジドセファロスポリンの
製造に有用な好ましいカルボキシ保護エステル基はP−
ニトロベンジルエステル基である。その3−アジドP−
ニトロベンジルエステルは、約5℃ないし10℃の温度
で亜鉛および塩酸と処理することにより容易に脱エステ
ル化されて3−アジド遊離カルボン酸を与える。
式(1,) (R,は保護基)により表わされる3−ア
ジドセファロスポリンエステルは、式(5)で表わされ
る2−置換−3−アミノセファロスポリンおよび式(6
)で表わされる四・七縮環二環性β−ラクタム化合物の
中間体としてもまた有用である。
=32= 00R1 これらの式において、kとR1は式(1)について定義
したものと同じ意味を有しており、R5はC1〜C4ア
ルキル、フェニルまたは置換フェニルであって、Zは0
またはSであり、Yは、k′5がC1〜C3アルキル、
フェニルまたは置換−yエニルである二価のラジカル(
a)または(b)である。
1 3−アジド−3−セフェムエステルは低級アルカノール
、フェノール、置換フェノール、チオフェノール、置換
チオフェノールおよび低級アルキルチオールと反応して
式(5)の中間体を与え、一方、低級アルカノールおよ
びフェノールは反応して式(6)の化合物を与える。Z
がSである式(5)により表わされる2−置換−3−ア
ミノ−3−セフエムエステルは、3−アジドエステルを
チオフェノールまたはアルキルチオールと反応させるこ
とによって得られる。その反応は、2−チオ置換=3−
セフェムの生成に加え、3−アジドのアミンへの還元も
起る。反応生成物は3−アミノ−3−セフェムエステル
を伴い、これは明らかに2位での相伴う置換反応なしに
3−アジド基の還元から生じたものである。3−アジド
エステルとチオールとの反応は不活性溶媒中、約45℃
ないし約75℃の温度範囲で行われる。過剰のチオール
が用いられ、一般に約3〜5当量が最良の結果を得るの
に十分である。その反応は通常約90分で完結する。ジ
クロロエタン、塩化メチレンおよび類 〜似物のような
ハロゲン化炭化水素がこの反応に適した溶媒である。
2−チオfut換−3−アミノー3−セフェムエステル
は単離され、シリカゲルを用いるクロマトグラフィーに
より同時に生成した3−アミノエステルから分離される
Zが0である式(5)により表わされる化合物および式
(6)により表わされる環拡大した化合物は、3−アジ
ド−3−セフェムエステルと低級アルカノール、フェノ
ールまたは置換フェシールドノ反応によって製造される
。3−アジドエステルとアルカノールまたはフェノール
との反応は大抵の場合、エチルアルコールを用いる下の
反応図式(R。
はエステル形成基)に例証されているように三つの異性
生成物の混合物を与える。
この反応は、過剰のアルカノールまたはフェノールを用
いて、アセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフ
ランまたは塩化メチレンのような不活性溶媒中、約45
℃ないし約75℃の温度で行われる。反応は素早く進行
し、通常約1時間で完結する。好ま]7くは、この反応
は少なくとも3モル当量過剰のアルカノールまたはフェ
ノールを用いて、アセトン中、還流下で実行される。生
成物は単離され、シリカゲルを用いるクロマトグラフィ
ーにより各々分離される。■がラジカル(b)である式
(6)により表わされる化合物がその反応において主生
成物と(7て得られる。
上の式(5)および(6)において、[61〜C4アル
キノ川は、例えばメチル、エチル、n−プロピノペ n
−ブチルおよび【−ブチルのような直鎖および分枝鎖の
低級アルキル基を指し、「置換フェニル」は、例えば4
−クロロフェニル、3−10ロフエニル、3−ブロモフ
ェニル、4−フルオロフェニルおよび2−フルオロフェ
ニルのヨウナハロフェニルを指し、[C1〜C4アルコ
キシフエニ−37o1p ル」は、例えば4−メトキシフェニル、3−エトキシフ
ェニル、3,4−ジメトキシフェニルおよび4−【−ブ
トキシフェニルのような基を意味し、「アルキルフェニ
ル」は、例えば4−メチルフェニル、4−t−’:l;
’チルフェニル、3−メチルフェニル、3,4−ジメチ
ルフェニルまたは4−イソプロビルフェニルヲ意味スル
式(5)および(6)によって表わされる化合物はお互
いに異性体の関係にある。式(5)の化合物は2.3−
置換セフェム化合物であり、式(6)の化合物は四員環
β−ラクタム環に縮合した七員環チアジアゼピン環を有
している。式(6)の化合物はここでAC8系に従って
以下のように番号付けされる。
=38− 式(6)の化合物は6−チアー■、3−ジアザビシクロ
C5,2,0)ノン−3−エン〔式(6)でY=b ’
)または6−チア−1,4−ジアザビシクロC5,2,
0〕ノン−3−エンと命名される。
式(6)により表わされる七員環チアジアゼピン化合物
は、式(5)の化合物のようなセフェロスポリン3−セ
フェム化合物に特徴的な発色団を持っていない。式(6
)の化合物はUVスペクトルにおいて3−セフェム特有
の吸収を示さないことから、式(5)の化合物は式(6
)の化合物と区別できる。
3−アジドセファロスポリンの場合と同様に、kが水素
である式(5)および(6)の化合物は、もし必要なら
ばN−アシル化合物〔式(5)および(6)でkがII
以外のもの〕をN−説アシル化することによって製造し
てもよい。そのN−説アシル化は、3−アジド化合物の
N−説アシル化について上に述べたように(7て行われ
る。N−説アシル化を経て得られる7−アミノ−2−置
換−3−アミノ骨核化合物および8−アミノビシクロノ
ネン骨核化合物は、R1、R5およびYが式(5)およ
び(6)について以前に定義したものと同じ意味を持つ
式(5′)および(6′)によって示される。
上記の骨核化合物は、7−アミノ−3−アジド−3−セ
フェム骨核エステルのアシル化について先に述へたアシ
ル化手法に従ってN−アシル化できる。
3.7−ジアミツー3−セフェム化合物〔式(5′)〕
および〕8−アミノービシクロノネン式(6’)’:1
は鉱酸および有機スルホン酸と酸付加塩を形成する。例
えば、そのような塩は塩酸塩、臭化水素酸塩、硫酸塩お
よびリン酸塩のような鉱酸塩ならびにメタンスルホン酸
塩、P−トルエンスルホン酸塩およびナフタレンスルホ
ン酸塩のようなスルホン酸塩を包含する。これらの塩は
、」1記骨核化合物の単離、精製および貯蔵に用いるの
に有用で安定な型である。
式(6)により表わされる化合物は好ましい化合物であ
り、特にYが−N、=C(OR5’)−でありに5′が
メチルまたはエチルである1、3−ジアザビシクロノン
−3−エンは好ましい。この型のさらに好ましい化合物
は、kが次の式のアシル基である式(6)により表わさ
れる。
0 0 0 R3−CI(2−へ一、R2−(Z)−CH2−L 、
 R’−Ctl(Q)−C−〇 または R−C,−C− \。R6 そのような好ましいビシクロノネンの例は、kがフェニ
ルアセチル、フェノキシアセチル、2−チェニルアセチ
ル、フェニルチオアセチル、マンゾロイル、マロニル、
D−フェニルグリシル、D −P−ヒドロキシフェニル
グリシル、α−メトキシイミノフェニルアセチ/lz、
α−メトキシイミノ−2−アミノ−1,3−チアゾール
−4−イルアセチル、α−メトキシイミノ−2−7リル
アセチルであり、k5′がメチルまたはエチルであるも
のである。
遊離の酸またはその塩としての3−アミノ−2−置換−
3−セフェム化合物〔式(5)〕および遊離の酸または
その塩としてのビシクロノネン〔式(6)〕は、ヒトま
たは動物に対し病原性の細菌の発育を阻害する抗菌剤で
ある。表−3に、式(5)および(6)により表わされ
る三つの異性体生成物の試験管内(in vitro 
)での抗菌性(ディスクプレート検定法により測定)が
示されている。
(以下余白) 表−3 試験管内(in vitro )抗菌活性−ディスクプ
レート試験化合物1 試験微生物 阻害範囲の大きさく朋、直径)濃度:31
g/肩l BC スタフィロコッカス・アウレウス 18 29 29バ
シラス・サチリス 15 27 30ミクロコツカス・
ルテウス 10 25 24トリコフイトン・メンタグ
ロフィテス tr、” −−カンジダ・アルビカンス 
− 13 −バシラス・ステアロサーモフィラス 11
 34 36エシエリキア・コリ 12 25 30シ
ユードモナス・ソラナセアルム −1211プロテウス
・ブルガリス −−(「。
1化合物A:C2R−(2α、7α、8β)〕−〕4−
メトキシー9−オキソー8−C(2−チェニルアセチル
)アミン〕−6−チアー1,3−ジアザビシクロC5,
2,0’)ノン−3−エン−2−カルボン酸ナトリウム
塩。
化合物B:(:2R−(2α、7α、8β))−3−メ
トキシ−9−オキソ−8−((2−チェニルアセチル)
アミン〕−6−チアー1,4−ジアザビシクロC5,2
,0’)ノン−3−エン−2−カルボン酸ナトリウム塩
化合物Cニアβ−〔(2−チェニルアセチル)アミンジ
−2−メトキシ−3−アミノ−3−セフェム−4−カル
ボン酸ナトリウム塩。
2【r、は阻害範囲の大きさがこん跡程度であることを
示す。
7β−アシルアミノ−3−アジド−3−セフェム−4−
カルボン酸〔式(1)でkがアシル〕−7β−アシルア
ミノ−2−置換−3−アミノ−3−セフェム−4−カル
ボン酸〔式(5)でkがアシル〕および異性体の8β−
アシルアミノビシクロジアザノネン−2−カルボン酸〔
式(6)でkがアシル〕または製薬的に許容されるその
塩は、細菌感染症を治療または予防するため、傷、切傷
および剥離への局処適用に使用できる。それらは細菌感
染症の治療において非経口または経口でも投与できる。
経口月に、化合物は遊離の酸またはその塩としてカプセ
ル、錠剤または懸濁液に製剤化できる。注射用には、化
合物は0.9%生理食塩水、注射用水、5%デキストロ
ースまたはグルコースのような一般に用いられる生理的
流動体中に懸濁液または溶液として製剤化される。本化
合物は、約501&ないし約2500119の有効で非
毒性の量を一回投与できる。代りの方法として、化合物
を一日2ないし4回または4時間毎に分けて投薬するこ
ともできる。
kが水素である式(1)、(5)および(6)によって
表わされる本発明骨核化合物は、先に述べたように相当
するアシルアミノ化合物の製造に有用な中間体である。
同様に、本化合物のエステルも中間体である。
本発明をさらに説明するために次のような発明の範囲を
限定しない実施例を提供する。これらの実施例において
、融点は補正していない。用いられている省略形は次の
通りである:Ikは赤外線スペクトル、LTVは紫外線
スペクトル、NMRは核磁気共鳴スペクトルであり、N
 M Rスペクトルにおいてシグナルの型を指示する用
語は、s=−重線、m=多重線、d−二重線、br −
幅広、J−結合定数、H2−ヘルツであって、pNBは
P−ニトロベンジル、FDMSは電解脱離法マススペク
トルである。
実施例−1 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アジド−3
−セフェム−4−カルボン酸アリル7β−(2−チェニ
ルアセトアミド)−3−クロロ−3−セフェム−4−カ
ルボン酸アリル0.409gをジメチルホルムアミド2
0m1に溶かし、この溶液を水浴で約5℃に冷却し、こ
れにアジ化ナトリウム0.07311’(1,1当量)
を加えた。反応混合物を冷却しながら1時間半攪拌した
後、冷酢酸エチルを含む分液ロートへ移した。その混合
物を水で5回、食塩水で1回洗浄し、硫酸す) IJウ
ム上で乾燥した後、真空中30℃で蒸発乾固して3−ア
ジド化合物0.389g(94%)を得た。
IR(クロロホルム): 2100および17801I
−1 N M R(60MHz 、 CD Cl 3) :δ
3.58(S。
2H、C,、−H) 、 3.83(s、2H,側鎖の
C112)14.72 (m 、 2H、アリ/l/ 
CH2) 、4−93(d。
J = 4 Hz 、 I EI、Ca H) 、5.
2〜5.6(m、3H,7リル) 、 5.75 (’
dd 、 J=4 、8Hz 、IH。
C7−H)および7.50(d、■−1、N I−1)
実施例−2 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アジド−3
−セフェム−4−カルボン酸P−ニトロベンジル 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−メチルスル
ホニルオキシ−3−セフェム−4−カルボン酸P−二ト
ロベンジル0.554gをDMFIOttriに溶かし
、この溶液にアジ化ナトリウムo、065g(1モル当
量)を加え、その混合物を室温で30分間攪拌した。混
合物を、酢酸エチルを含む分液ロートへ移して、溶液を
水で3回、食塩水で1回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾
燥した後、蒸発乾固して生成物0.523gを黄色の泡
として得り。この生成物は、酢酸エチル−トルエン(1
:1)を展開液として用いるシリカゲル薄層クロマトグ
ラフィー(発色剤はヨウ素)」二で単一点を示した。
実施例−3 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アジド−3
−セフェム−4−カルボン酸メチル7β−(2−チェニ
ルアセトアミド)−3−クロロ−3−セフェム−4−カ
ルボン酸メチルオヨびその相当する2−セフェム異性体
の混合物2゜ダをDMF100+*lに溶かし、その溶
液を水浴で約5℃に冷却して、これにアジ化ナトリウム
3.84g(1,1当量)を加えた。その反応混合物を
5℃で30分間、次いで冷却することなく1時間攪拌し
た後、酢酸エチルを含む分液ロートへ移した。
反応混合物を水で5回、食塩水で1回洗浄し乾燥した後
、蒸発乾固して粗生成物19.5gを褐色の固体として
得た。
IR(CuCl3): 2100(アジド)、1770
(β−ラクタムカルボニル)m−1゜ U■:λmax 296nm、ε−8,000Cエタノ
ール)。
47− N MR(60Mll z 、 CI)Cl 3) :
δ3.57 (l)r s。
2 H、C2H) 、 3.87 (s 、 2 [1
、側鎖のメチレン) 、4.97 (d 、 J−4H
z 、1 ’I、 Ce H) 。
5−70 (d d 1.1 =4.8 Hz 、11
−I 、 C7II )。
実施例−4 7β−フェノキシアセトアミド−3−アジド−3−セフ
ェム−4−カルボン酸ジフェニルメチル7β−フェノキ
シアセトアミド−3−クロロ−3−セフェム−4−カル
ボン酸ジフェニルメチル1、.728QをDMF25m
/!に溶かし、この溶液にアジ化ナトリウム0.220
17(1,05当量)を加え、その混合物を室温で1時
間攪拌した。反応混合物を、酢酸エチルを含む分液ロー
トへ移し、水で3回、食塩水で1回洗浄し、乾燥した後
、蒸発乾固した。その粗生成物をシリカゲル15gのク
ロマトグラフィーにかけ、トルエン500IIIl/酢
酸エチル−トルエン(1:1)500meで溶出して精
製した。多くの両分を集め、両分24〜31をまとめた
。まとめた両分を蒸発乾固して生成物0.79gMを黄
色の泡として得た。
48− IR(CuCl2):2105,17854 。
NMR(CDCl2):δ2.80,3.27(ABq
J−16Hz 、 2 H、C2H) 、 4.57 
(s 、 2 H。
側鎖のCH2) 、4−92 (d、J =4 Hz 
、 I H、CeH) 、5.50 (d d 、 J
−4、8Hz 、 I H、C7−H)。
実施例−5 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アジド−3
−セフェム−4−カルボン酸2.2.2−トリクロロエ
チル 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−クロロ−3
−セフェム−4−カルボン酸2.2.2−トリクロロエ
チル2.926gをDM F 17 rxlに溶カし、
この溶液を水浴で5℃に冷却して、これにアジ化ナトリ
ウム0.427gを加えた。その反応混合物を水浴中で
2時間攪拌した後、酢酸エチルを含む分液ロートへ移し
た。その混合物を水および食塩水で洗浄し、乾燥した後
、蒸発乾固して粗3−アジド生成物2.54gを得た。
1k(CuCl2)=2110,17880−1゜UV
: λmax300 nm 、ε=3,800(エタノ
ール)。
N M R(60M II z 、 CD CI a 
) :δ3:58(S。
2 II 、 C2II ) 、3−85 (s 、2
 H1側鎖のCH2)。
4.75.4.98(A”Q 、J=1.1l−1z、
2H,エステル) 、 5.00 (d 、 J−4I
−1z 、 L H、C6H) 、 5−73 (co
d 、 )=4 、8Hz 、 1.1−1 、 C7
−f−1)。
実施例−6 7β−アセトアミド−3−アジド−3−セフェム−4−
カルボン酸メチル 7β−アセトアミド−3−クロロ−3−セフェム−4−
カルボン酸0.784gをDMF40mJに溶かし、そ
の溶液を水浴で5℃に冷却して、これにアジ化ナトリウ
ム0.193gを加えた。その反応混合物を冷却しなが
ら45分間攪拌した後、酢酸エチルを含む分液ロートへ
移した。その混合物を冷水および食塩水で洗浄[7、乾
燥した後、蒸発乾固して3−アジドエステル生成物0.
581gを黄色固体として得た。
IR(CIIC+3):2105(アジド)、1770
(β−ラクタムカルボニル)mO N M R(CD CI 3.5 Q M Hz ) 
:δ2.07(S。
3H,側鎖のCH3) 、 3.58 (S 、 3H
、エステルCH3) 、 3.83 (s 、 2H,
C2−H) 、 5.00(dlJ−4H11IHIC
6−I])+5.75(dd。
1−4.8Hz 、LH,C7H)。
実施例−7 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アジド−3
−セフェム−4−カルボン酸 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アジド−3
−セフェム−4−カルボン酸P−ニトロベンジル0.6
25gをT HF 24 mlに溶かし、その溶液を冷
水10m1で稀釈した後、水浴中で冷却した。その冷却
した溶液へ約2時間かけて亜鉛末1.58fおよび混合
物のpHを約4,3に保つのに十分な量の0.INない
しIN塩酸を少量ずつ加えた。亜鉛および酸を添加する
間、反応混合物の温度を約5℃に保った。亜鉛末添加が
完了した後、IN塩酸でpHを2.7に調整し、混合物
を濾過した。そのr液を酢酸エチルと混合し、炭酸水素
ナトリウム水溶液で2回抽出した。水層を分離し、酢酸
エチルを加えて層をつくり、冷却したIN塩酸で酸性化
]7た。有機層を分離して、食塩水で洗浄し、乾燥した
後、溶媒蒸発して表題の酸0.116gを淡黄色固体と
して得た。その生成物をジエチルエーテルで摩砕し、沢
過した後、風乾して酸生成物80〜を黄色固体と(7て
得た。
実施例−8 7β−(2−チェニルアセトアミド)−2−フェニルチ
オ−3−アミノ−3−セフェム−4−カットボン酸P−
ニトロベンジル 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アジド−3
−セフェム−4−カルボン酸P−ニトロベンジル0.6
75gを1,2−ジクロロエタン33m1に溶かし、こ
の溶液にチオフェノール0.74g(5当量)を加えた
。その溶液を還流下で90分間加熱した後、蒸発乾固し
た。反応生成物残留物をシリカゲル(Merck 、ト
ルエン)8gのクロマトグラフィーにかけ、トルエン5
’00me150係酢酸エチル−トルエン500III
eを用いて溶出した。
初期の両分(23〜26)に出発原料および表題の化合
物の混合物が含まれていた。中間の両分(31〜36)
中に表題の化合物0.035gが含まれており、後の両
分(45〜59)は3−アミノエステル01236gを
含んでいた。
7β−(2−チェニルアセトアミド)−2−フェニルチ
オ−3−アミノ−3−セフェム−4−カルボン酸P−ニ
トロベンジル IR(CHCI3): 1775α (β−ラクタムカ
ルボニル) FDMS:582 N M R(60M Hz 、 CD Cl a ) 
:δ3.8 (S 、2H。
チオ7 エフ H) 、5.4 (m、 4 H、Ce
 H、C7−Hおよびp NB ) 、 5.4 (b
r、NHzプロトン)。
7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アミノ−3
−セフェム−4−カルボン酸P−ニトロベンジル 融点(MP)=211〜213°C(塩化メチレン、ア
セトン、ヘキサンから)。
MS:475 IN(KBr): 1762ctn ’ (β−ラクタ
ムカルボニル)。
UV(エタ/−/l/):λmaX=2:36nm 、
ε=14.500(チオフェン)、λ1□ax −28
6nm 。
ε−19・000(pNB斗共役Nl−l2)。
NMR(r)MSO−d6):δ3.0B、3.42(
ABq。
1 =l l Hz 、 2 TI 、 C2tl )
 、3.76 (S、2 H9側鎖CH2) 、 5.
20 (m 、 411. C6−4−1、C,Hおよ
びpNB) 、 7.6 (br s 、Nll2)。
元素分析:計算値: C,50,62(1,3,821
N11.1..8]、、0,20.23.測定値:C,
50,86−〇 。
3.70;N、11.91i0,20.09゜実施例−
9 (2R−(2(t、7α、8β)〕−〕4−メトキシー
9−オキシー8−C2−チェニルアセチル)アミン〕−
6−チアー1.3−ジアザビシクロ〔5゜2.0〕ノン
−3−エン−2−カルボン酸2−プロペニルエステル 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アジド−3
−セフェム−4−カルボン酸アリル4.06flをアセ
トン75mJに溶かし、この溶液にメチルアルコール7
5M1を加えた。その溶液を還流下で1時間加熱した後
、蒸発乾固した。残留物をシリカゲルのクロマトグラフ
ィーにかけ、トルエン600ffl/、次いで80%酢
酸エチル−トルエン600m1を用いて溶出した。表題
の化合物を含む両分をまとめ、蒸発して表題の化合物1
.31gを得た。その生成物をシリカゲルのクロマトグ
ラフィーに再びかけ、トルエン500a+/、次いで8
5%酢酸エチル−トルエンで溶出して精製した。
FpMS:409゜ IR(CHCI3): 1778側−1(β−ラクタム
カルボニル)。
Mp=125〜127℃(塩化メチレン−ヘキサンから
)。
UV:λmax−232nm、ε=9,700゜NMR
(T−60、CDCl5):δ3.27 、3.52(
ABQ IJ−16Hz 、2 H、S CH2) 、
 a、 63 (s 、 3 H、OCH3) 、3−
83 (S、3 H,チオフェア ) 、 4.72 
(m 、 2H、アリルメチレフ)、5゜55− 2〜5.5 (m、5H,H7,H8およびアリル)。
6、00 (s 、 L H、C5H)。
元素分析、C1□T]19N305S2として:計算値
:C949,86;II、 4.68 ;N、 10.
26 、 測定値:C149,63、tl、4.42 
;N、9.97゜実施例−10 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−アジド−3
−セフェム−4−カルボン酸P−ニトロベンジルのメタ
ノールとの反応 3−アジドエステル4.95Fをアセトン100m1に
溶かし、この溶液にメチルアルコール100Meを加え
た。その溶液を還流下で1時間加熱した後、反応混合物
を蒸発乾固した。残留物をシリカゲル(Merck 、
 l・ルエン)14gのクロマトグラフィーにかけ、酢
酸エチル−トルエン(容積比1:1)800+(+1次
いでトルエン800 mlを用いて溶出した。異性体の
環拡大生成物が最初に溶出さし、次いで2−メトキシ−
3−アミノ−3−セフェムエステルが溶出された。
単離された生成物の構造および物理的データー56− は次の通りである。
FDMS : 504゜ I R(CHCI3) : 1773C1n (β−ラ
クタムカルボニル)。
UV(C2H50H):λmax 237 nm 、 
e = 12゜250(チェニル)、2m21z 26
8 nm 、ε−10,200(pNB)。
NMR(CDCl3):δ3.10 、3.50 (A
Bq 、 J−14H2,2H,C2−H)、3.65
(S 、3H,0CH3)、3.83(S 、2H,側
鎖CH2) 、 5.38 (m 、 4H,C7−H
,C8−H,pNB)、6.05(S 、 11−I。
C3−H)・ FDMS:504゜ I R(COCl2) : 1775m−1(β−ラク
タムカルボニル)。
Iノ V (C2H6OH) : λmax ” 35
 ”” ’ ε =13,500、λmax277nm
、ε−13,000゜NMR(CDCl2): δ3,
63(s 、3H,0CH3)。
3.83(S、2)(、側鎖CI(2) 、 4.33
 、4.55 (ABq、 J−14Hz 、 21−
1 、C21−■) 、5.1〜5−6 (m、5H、
C7−H、C8−1−1、p NB )。
FDMS:s04゜ Mp=236℃(CH,、CI□−へキサンから、白色
結晶)。
I R(KBr) : 1778 ’l” ’ 。
U V (C2H50H) :λmax 235 An
m 、ε−14,800、λmax291〜3nm、ε
−17,000゜NMR(DMSO−d6):δ3−3
3 (s 、 3 H、OCH3)、3.92(S、2
H,側鎖CH2) 、 5.1 (s 、 I H。
C2−H) 、 5.14〜5.3 (m 、 4H、
C6−H、C7−HおよびpNB)。
元素分析:計算値: C,49,99i’L 4.00
 ;N。
11.10.測定値:C,50,19;H,4,01;
N、10.866 実施例−11 (:2R−(2α、7α、8β)〕−〕4−メトキシー
9−オキソー8−C2−チェニルアセチル)アミノシー
6−チア−1,3−ジアザビシクロC5,2゜0)ノン
−3−エン−2−カルボン酸ナトリウム塩 実施例−101こ記載したようにして得たC2R−(2
α、7α、8β)〕−〕4−メトキシー9−オキソー8
−C(2−チェニルアセチル)アミンシー6−チア−1
,3−ジアザビシクロC5,2,0)ノン−3−エン−
2−カルボン酸4−ニトロベンジルエステルを酢酸エチ
ル25txlに溶かし、この溶液に最初に炭酸水素す)
 IJウム0.121gおよび水25m/を加え、次い
で5%Pd/c触媒0.362ダを加えた。その混合物
をParrの水素化装置中、5 Q psiの水素圧の
下、空温で1時間水素化した。
濾過助剤を用いて触媒を濾過し、P液の水相を分離して
凍結乾燥した。生成物を淡黄色の固体として4%の収率
で得た。
IR(KBr):1756ff (β−ラクタムカルボ
ニル)。
NMR(D20):δ3,45(d、2H,C3−H)
、3゜7 Q (s 、OCI−1a ) 、3−93
 (S、側鎖メチレン)、 5.1〜5.7 (m 、
 2 F(、β−ラクタム−H)、 5.83(s 、
 I H、C2I−1)。
実施例−12 C2R−(2d、7a、8β))−3−メトキシ−9−
オキソ−8−C(2−チェニルアセチル)アミノコ−6
−チア−1,4−ジアザC5,2,0)ノン−3−エン
−2−カルボン酸ナトリウム塩実施例−10に記載した
ようにして得た3−メトキシ−1,4−ジアゾ−ノン−
3−エンP−ニトロベンジルエステル0.276 f/
 ヲ、実施例−11に記載した手法に従って水素化した
。表題の化合物0.12’1(37%)をクリーム色の
固体として得た。
IR(KBr):1760(1711’。
実施例−13 7β−C(2−チェニルアセチル)アミノ〕−2−メト
キシー3−アミノ−3−セフェム−4−カルボン酸ナト
リウム 実施例−10に記載したようにして得た7β−〔(2−
チェニルアセチル)アミン〕−2−メトキシー3−アミ
ノ−3−セフェム−4−カルボン酸P−ニトロベンジル
0.399gを、実施例−11の手法に従って5%Pd
/C上で水素化した。表題の化合物809(16%)を
淡黄色固体として得た。
IR(KBr):1761CIn ’。
実施例−14 C2R−(2α、7α、8β)〕−〕4−エトキシー9
−オキソー8−CC2チェニルアセチル)アミノシー6
−チア−1,3−ジアザビシクロC5,2゜0〕ノン−
3−エン−2−カルボン酸4−二トロベンジルエステル 7β−C(2−チェニルアセチル)アミノコ−3−アジ
ド−3−セフェム−4−カルボン酸P−ニトロベンジル
2.531i1をアセトン50dおよびエチルアルコー
ル50m1に溶かし、その溶液を還流下、1時間15分
加熱した後、蒸発乾固した。
その粗生成物は薄層クロマトグラム上に三つの点を示し
た。主要な4−エトキシ−1,3−ジアザ異性体(表題
の化合物)を、シリカゲル151i’のクロマトクラフ
ィーでトルエン600+/、次いで75%酢酸エチル−
トルエン600rxlで溶出して、他の異性体から分離
した。その表題の化合物は、メチルエチルケトン−ヘキ
サンから再結晶後、融点約154℃から約155℃の細
かい白色針状晶(0,713g)として得られた。
その生成物の構造は結晶性生成物のX線解析により確認
された。
IR(CHCI3):1775ff 。
NMR(6QMHz 、CDCl2−DCDCl5−D
:δ1.23(t、3H,エトキシ)、3.33(S 
、2H。
C3−H)、3.80(S 、2H,側鎖メチレンH)
4.1(m、2H)、5.42(S 、4H,pNBx
ステル、C7−HおよびC3−H) 、 6.13 (
S 、 IH、C2−H)。
FDMS:518゜ 元素分析:計算値:C,50,96iH,4,28iN
10.80. 測定値:C,50,98;H,4,49
;N。
10.57゜ 上に述べた主要な異性体(表題の化合物)はクロマトグ
ラフィーカラムから初期の両分中に溶出された。後期の
両分には三異性体すべてが含まれていたが、最終画分に
異性生成物である7β−((2−チェニルアセチル)ア
ミノシー2−エトキシ−3−アミノ−3−セフェム−4
−カルボン酸P−ニトロベンジルが4%の収率で含まれ
ていた。
NMR(CDCl2−DMSO−δ6,60MHz):
δ1.07(d 、J=8Hz 、エトキシのCH3)
 、 3.87(S、2H,側鎖メチl/7H)、3.
80(m、2H。
エトキシのメチレン)、5.12(S、IH,C7−H
)。
5.2〜5.5(m、pNB 1ステル、C6−Hおよ
びC7−H)。
63− FDMS:518゜ ゛ 実施例−15 C2R−(2α、7α、8β)〕−〕9−オキソー4−
フェノキシー8CC2−チェニルアセチル)アミノコ−
6−チア−1,3−ジアザビシクロ〔5゜2.0〕ノン
−3−エン−2−カルボン酸4−ニトロベンジルエステ
ル 7β−〔(2−チェニルアセチル)アミン〕−3−アジ
ドー3−セフェム−4−カルボン酸P−ニトロベンジル
3.38gを、フェノール3.175gを含むアセトン
9011tに溶かし、その溶液を還流下で1時間加熱し
た後、蒸発乾固した。
残留物をシリカゲル(トルエン)18gのクロマトグラ
フィーにかけ、トルエン6ooTIL11次いで75%
酢酸エチル−トルエン600 mlで溶出した。生成物
(表題の化合物)は両分41〜43および49〜50の
溶出液中で結晶化し、p過して0.175gを得た。P
液から更に生成物を0.338gを得た。一番晶(0,
175g)を塩化メチレンから再結晶して融点約165
℃ないし約16764− ℃の細かい白色針状晶を得た。
元素分析:計算値: C,55,11i)(、:3.9
1−N。
9.89.測定値:C,54,84iH,3,66iN
、9゜66゜ FDMS : 566゜ I R(KBr) : 177901 ’。
U■(C2H50H):λmax 235nm、 t=
 10,000、λmax 265 nm 、ε=7,
500゜実施例−16 C2R−(2α、7α、8β)〕−〕4−メトキシー9
−オキソー8−α−(2−アミノチアゾール−4−イル
)−α−メトキシイミノアセチル)アミノシー6−チア
−1,3−ジアザビシクロC5,2゜0〕ノン−3−エ
ン−2−カルボン酸 表題の化合物は骨核物質であるC2R−(2α。
7α、8β)〕−〕4−メトキシー9−オキソー8−ア
ミノ6−チア−1,3−ジアザビシクロ〔5゜2.0〕
ノン−3−エン−2−カルボン酸4−ニトロベンジルエ
ステル(式6′でY=−N−と−0CH3゜R,=pN
B)を塩化メチレン中、等モル量のジシク口へキシルカ
ルボジイミドの存在下で2−(2−トリチルアミノチア
ゾール−4−イル)−2−メトキシイミノ酢酸を用いて
アシル化することによって得られる。アミノ保護のトリ
チル基およびエステル基は、それぞれギ酸および亜鉛−
塩酸還元によって除去され、式 特許出願人 イーライ・リリー・アンド・カンパニ67

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 〔式中、kは水素またはk が01〜C4アルキル(式
    中、3はハロゲン、アミノ、ヒドロキシ、C1〜Cアル
    キル、C1〜C4アルコキシ、シアノ、ヒドロキシメチ
    /lz、アミノメチル、カルボキシアミド、カルボキシ
    メチルまたは01〜C4アルコキシカルボニルメチルで
    ある。)の−置換フェニル基もしくは式 (式中、a/、a″とa″′は独立に水素、ハロゲン、
    ヒドロキシ、C−Cアルキルまたは61〜C4ア4 ルコキシである。)の二もしくは三置換フェニル基であ
    り、nがOまたは1である式 %式% のアロイルまたはアラルカッイル基であるか、kはに3
    が式 (式中、bはアミノ、保護アミノ、ClNC5アルキル
    またはフェニルである。)である式R3−CH−C−の
    ヘテロアリールアルカノイル基であるか、Kは■(が上
    に定義したものと同じ意味をもちZかOまたはSである
    式 %式% のアリールオキシアセチルまたはアリールチオアセチル
    基であるか、1(は式 %式%(: (式中、R4は−11に定義[7たR2であるか、チェ
    ニル、アリールまたは1,4−シクロへキサジェニルで
    ある。Qはヒドロキシ、ホルミルオキシ、カルボキシ、
    スルホ基−8O11またはアミンである。)のα−置置
    換アラツカノイルたはヘテロアリールアルカノイル置換
    基であるか、またはkは式%式% (式中、R5は各々」−に定義したR2およびR3であ
    り B6は水素またはC1〜C3アルキルである。)の
    オキシイミノ置換アラルカッイルまたはへテロアリール
    アルカノイル基である。klは水素またはカルボキシ保
    護基である。〕で表わされる化合物または製薬的に許容
    されるその塩。 (2)Rがアシル基R−C(0)−である特許請求の範
    囲第1項記載の化合物または製薬的に許容されるその塩
    。 0 (3)kがアシル基に−CH2−C−である特許請求の
    範囲第1項記載の化合物または製薬的に許容されるその
    塩。 (4)k が2−チェニルである特許請求の範囲特許請
    求の範囲第1項記載の化合物または製薬的に許容される
    その塩。 (6) 7β−(2−チェニルアセトアミド)−3−ア
    ジド−3−セフェム−4−カルボン酸、7β−(フェノ
    キシアセトアミド)−3−アジド−3−セフェム−4−
    カルボン酸、7β−(アセドア= 3− ミド)−3−アジド−3−セフェム−4−カルボン酸ま
    たは7β−アミノ−3−アジド−3−セフェム−4−カ
    ルボン酸から成る群から選択される特許請求の範囲第1
    項記載の化合物または製薬的に許容されるその塩。 (7) Z′がハロまたはC1〜C4アルキル−502
    −〇−であり、RとRが特許請求の範囲第1項で定義し
    たものである式(3)の化合物 をアジド生成試薬と反応させること、および必要ならR
    が水素である式(1)の化合物をアシル化するかまたは
    kが水素以外のものである式(1)の1化合物を脱アシ
    ル化すること、およびさらに必要ならいかなる保護基を
    も除去すること、および/またはその生成物を塩の型に
    することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の式(
    1)の化合物または製薬的に許容されるその塩の製造法
    。 (8)特許請求の範囲第1項から第6項のいずれ 4− か−項に記載の式(1)の化合物または製薬的に許容さ
    れるその塩の化学療法的に有効な量を温血動物に投与す
    ることを特徴とする温血動物の細菌感染症を治療または
    抑制する方法。 (9)一つまたはそれ以上の製薬的に許容される担体ま
    たはビークルと、活性成分としての特許請求の範囲第1
    項から第6項のいずれか一項に記載の式(1)の化合物
    または製薬的に許容されるその塩から成る製剤。
JP59202894A 1983-09-28 1984-09-26 中間体および新規な抗菌剤としての3‐アジドセフアロスボリン類 Pending JPS6092292A (ja)

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