JPS61158054A - 光学情報記録再生デイスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は大容量のデータの記録、高速アクセスを可能に
する光ディスクの分野に用いられる光学情報記録再生デ
ィスクの製造方法に関するものである。

従来の技術 酸化物に金属を含ませて、光学情報を記録再生する薄膜
の作成方法としては、次の３種の方法が知られている。

第１は、酸化物を、これを還元する容器に入れて、真空
中で加熱し、酸化物を一部還元しながら、薄膜を形成す
る方法、第２は、酸化物と金属及び還元材料を混合し、
これを真空中で加熱する方法、第３は、酸化物蒸発源と
、金属蒸発源の複数の蒸発源を用いて、共蒸着すること
により、薄膜を形成する方法である。

発明が解決しようとする問題点 従来の方法の中で特に、最初に述べた第１の還元薄膜形
成及び、第２の混合体による還元薄膜形成法は、真空中
での加熱において、化学反応を生じ、基板の上に酸化物
と金属の混合体が形成される方法である。

この反応は、還元用の物質、例えば、Ｗ、Ａ／。

Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｒ等、材料によって速度が異なり、一定
の比率の膜を形成するためには、材料の種類。

混合比そして、加熱条件など、厳密に選択する必要があ
った。又、反応を伴なうため、蒸着制御を高精度に行う
必要がある。

第３の方法は、共蒸着であり、反応を除くことができる
点で有利であるが、それぞれの蒸発源の加熱パワーの制
御が最も重要であり、膜形成の組成変動の要因になりや
すい。

又、第１．第２の方法では、酸化物と金属の分離を発生
しやすく、蒸発中に、蒸発源の形状が、溶融等の現象で
、変化しやすく、安定な蒸発が困難である。

問題点を解決するだめの手段 反応過程をなくするために、酸化物及び、所定の金属を
あらかじめ混合する。ただし混合体の加熱では、相互の
蒸気圧の差により、突沸等が生じ、蒸発時に粒状の欠陥
を薄膜に生じやすいという問題点が発生する。本発明で
は、あらかじめ、混合体の成型体を作っておき、これに
、高融点、低蒸気圧の酸化物を添加しておくことが重要
な点である。

作　　用 あらかじめ、加圧成型し、これを不活性ガス雰囲気中で
、熱処理を施こし、焼結させておいた高融点、低蒸気圧
の酸化物を添加した蒸発源においては、真空中での加熱
において、蒸発源成型体の融解が生じにくく、添加酸化
物が、加熱蒸発過程において、さらに焼結が進行する。

このため、蒸発中において、成型体の形状変化が生ずる
ことなく、安定な蒸着を実現できる。

又、突沸等による粒状欠陥の発生をおさえた蒸着膜の形
成が可能になる。

実施例 酸化物母体材料として、Ｔ　ｅ　０２　１モル、Ｔ。

０．６モル、そして、高融点低蒸気圧添加酸化物材料と
して、ＳｉＯを用い、これを０．３モルの割合で混合成
型する。

成型体は、第１図に示すように、母体酸化物（１）。

金属粒子（２）、高融点、低蒸気圧添加材料（３）−ｉ
ｒ＝−ら構成する。

これを、最も融点の低い成分であるＴｏの融点Ｔｍ＝４
４９°Ｃに対し、４２５°Ｃで熱処理する。焼結により
、成型体は固化する。

得られた成型体を第２図に示すように、例えば、Ｃｕの
ルツボ４に設置し加熱する。

加熱＼膜形成は、抵抗加熱、電子ビーム加熱。

スパッタ等の方式がある。

以上の方法で生成した成型体の真空中での加熱膜形成に
より、Ｔ　ｅ　Ｏ１，１〜。、８の嘆を形成することが
できる。

発明の効果 以上のように本発明によれば、加熱膜形成中での成型蒸
発源の形状変化が少なく、安定に膜形成ができる。また
、突沸等が生じにくく、粒状欠陥の少ない高い品質の膜
が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光学情報記録再生ディスクの製造方法
における混合体の成型体の断正面図、第２図は同熱処理
後の混合体成型体の断正面図である０ １・・・・・・酸化物母体、２・・・・・・金属、３・
・・・・・高融点低蒸気圧添加酸化物材料、４・・・・
・・Ｃｕのルツボ。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）酸化物に金属を含ませてなる薄膜を基板に形成し
   、光照射により、膜の状態を変化させ、情報を記録再生
   するディスクを製造するに際し、前記酸化物と金属の原
   材料に、融点が、この酸化物の融点より高く、かつ蒸気
   圧が、前記酸化物の１／１００以下の酸化物を添加混合
   し、加圧成型して作った蒸発源材料を用いて、真空中で
   薄膜を形成する光学情報記録再生ディスクの製造方法。
2. （２）酸化物として、ＴｅＯ＿２、ＧｅＯ＿２、Ｓｂ＿
   ２Ｏ＿３、ＳｎＯ、ＰｂＯ、Ｓｅ＿２Ｏ＿３、ＭｏＯ＿
   ３の少なくとも１つを選び、これに金属として、Ｔｅ、
   Ｇｅ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｅ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔの少
   なくとも１つを用いることを特徴とする特許請求の範囲
   第１項記載の光学情報記録再生ディスクの製造方法。
3. （３）融点が高く、蒸気圧の低い酸化物添加材料として
   、Ａｌ＿２Ｏ＿３、ＳｉＯ＿２、ＳｉＯ、ＷＯ＿３、Ｔ
   ｉＯ＿２、Ｎｂ＿２Ｏ＿５の少なくとも１つを選び、混
   合することを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光
   学情報記録再生ディスクの製造方法。
4. （４）混合体を加圧成形した後に、不活性ガス雰囲気に
   おいて、構成無機材料の融点以下で熱処理を施こして蒸
   発源を得ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
   の光学情報記録再生ディスクの製造方法。
5. （５）蒸発源を電子ビームで加熱し、真空中で、酸化物
   と金属の混合薄膜を形成することを特徴とする特許請求
   の範囲第１項記載の光学情報記録再生ディスクの製造方
   法。