JPS60131656A - 光学情報記録再生用担体の製造方法 - Google Patents
光学情報記録再生用担体の製造方法Info
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- G11B2007/24318—Non-metallic elements
- G11B2007/2432—Oxygen
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ビデオ、オーディオの信号記録再生。
消去および静止画像２文書、各種デジタル信号の大容量
フフイリング等のオフィスオートメーション、コンピュ
ータ分野に使用できる光学情報記録再生用担体の製造方
法に関するものである。
フフイリング等のオフィスオートメーション、コンピュ
ータ分野に使用できる光学情報記録再生用担体の製造方
法に関するものである。
従来例の構成とその問題点
蒸着薄膜を用い、これにレーザ光を照射し、膜に変形を
生じさせて、光学情報を記録再生する担体としては、Ｔ
ｅ薄膜、Ｔｅ−８ｅ薄膜、あるいはｐｔ合金薄膜を利用
したものが、知られているが、これら、の薄膜は、膜に
密着した保護層を設けることが困難であシ、その担体の
信頼性に問題がある。
生じさせて、光学情報を記録再生する担体としては、Ｔ
ｅ薄膜、Ｔｅ−８ｅ薄膜、あるいはｐｔ合金薄膜を利用
したものが、知られているが、これら、の薄膜は、膜に
密着した保護層を設けることが困難であシ、その担体の
信頼性に問題がある。
て、既に、Ｔ ｅ Ｏｘ Ｏ（ｘ（２，０（Ｔ ｅとＴ
ｅ Ｏ２との混合物、Ｘはテルルを１としたときの酸
素の量）の薄膜を利用するものが、知られている。この
担体は、密着保護を行うことができ、感度的にもすぐれ
ている。この膜は、その形成法にょ勺、膜厚方向に対す
るＴｅと０め組成比および膜の構成粒子径（１ｏ人〜５
０人）を選ぶことができる特徴を有している。
ｅ Ｏ２との混合物、Ｘはテルルを１としたときの酸
素の量）の薄膜を利用するものが、知られている。この
担体は、密着保護を行うことができ、感度的にもすぐれ
ている。この膜は、その形成法にょ勺、膜厚方向に対す
るＴｅと０め組成比および膜の構成粒子径（１ｏ人〜５
０人）を選ぶことができる特徴を有している。
この薄膜を設ける方法として、Ｔｅを入れた蒸発源とＴ
ｅ Ｏ２を入れた蒸発源の二つを用意し、二つの蒸発
源をコントロールして基板上にＴ ｅ 、 ＴｅＯ２を
同時に蒸着することが考えられたが、二つの蒸発源を同
時にコントロールして目的とする薄膜を形成することは
困難である。
ｅ Ｏ２を入れた蒸発源の二つを用意し、二つの蒸発
源をコントロールして基板上にＴ ｅ 、 ＴｅＯ２を
同時に蒸着することが考えられたが、二つの蒸発源を同
時にコントロールして目的とする薄膜を形成することは
困難である。
発明の目的
そこで、本発明はより簡単に薄膜を作ることができる光
学情報記録再生用担体の製造方法を提供することを目的
とするものである。
学情報記録再生用担体の製造方法を提供することを目的
とするものである。
発明の構成
本発明は化学当量比の金属または半金属の酸化物と金属
または半金属Ｍ単体の混合体を蒸発源として透明本板上
にＭＯｘ（Ｍは金属または半金属、○は酸素、Ｏ（ｘ、
（Ａ、ＡはＭの量を１とした場合の酸素０の量を比化学
等量比で表わしだ値）なる記録用の薄膜を形成すること
を特徴とする光学記録再生用担体の製造方法である。
または半金属Ｍ単体の混合体を蒸発源として透明本板上
にＭＯｘ（Ｍは金属または半金属、○は酸素、Ｏ（ｘ、
（Ａ、ＡはＭの量を１とした場合の酸素０の量を比化学
等量比で表わしだ値）なる記録用の薄膜を形成すること
を特徴とする光学記録再生用担体の製造方法である。
実施例の説明
薄膜を形成する基板は、第１図に示すように、微細な、
（’／１６〜Ａ／４深さ）のレーザスポット光ガイド用
の凹凸溝を形成した透明樹脂基板１又は、ガラス基板を
用いる。この上に薄膜を形成し、保護板２を膜に接着す
る。情報の記録再生は、レンズ３を通して、半導体レー
ザ光５を４に絞り込んで、薄膜に照射し、薄膜を加熱し
、熱的に膜の状態を変化させて、情報の記録を行う。情
報の再生は、同じ光学系を用い、弱いレーザ光を照射し
、膜からの透過光量又は、反射光量の変化を検出してお
こなう。
（’／１６〜Ａ／４深さ）のレーザスポット光ガイド用
の凹凸溝を形成した透明樹脂基板１又は、ガラス基板を
用いる。この上に薄膜を形成し、保護板２を膜に接着す
る。情報の記録再生は、レンズ３を通して、半導体レー
ザ光５を４に絞り込んで、薄膜に照射し、薄膜を加熱し
、熱的に膜の状態を変化させて、情報の記録を行う。情
報の再生は、同じ光学系を用い、弱いレーザ光を照射し
、膜からの透過光量又は、反射光量の変化を検出してお
こなう。
この薄膜としては、： Ｔｏｏ ＧｅＯ５ｎＯＸＩ Ｘ
Ｉ Ｘｐ ＳｂＯｘ、 Ｉｎｋｘ、Ｂｉｂｘ（０（！＜Ａ 、 Ａ
はＴｅ。
Ｉ Ｘｐ ＳｂＯｘ、 Ｉｎｋｘ、Ｂｉｂｘ（０（！＜Ａ 、 Ａ
はＴｅ。
Ｇｅ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｂｉ Ｏ量を１とした場合の
酸素の量を化学等量比で表わした値。）など、化学当量
の酸化物に、単体金属が分散している材料を適用する。
酸素の量を化学等量比で表わした値。）など、化学当量
の酸化物に、単体金属が分散している材料を適用する。
これら薄膜は、各種の形成方法が用いられる。第２図に
示すように、基板６を、軸７を用いて回転させ、るつぼ
８より蒸着ソース材料９を蒸発させて薄膜１０を基板６
に形成する。
示すように、基板６を、軸７を用いて回転させ、るつぼ
８より蒸着ソース材料９を蒸発させて薄膜１０を基板６
に形成する。
この蒸着ソース材料９を、つぎのように構成する。基本
的には、酸素について所望の非化学当量比になるように
、酸化物と単体金属を秤量し、混合して、蒸着ソース材
料９を作成する。
的には、酸素について所望の非化学当量比になるように
、酸化物と単体金属を秤量し、混合して、蒸着ソース材
料９を作成する。
一般的に、これら２種の材料は、その蒸気圧が著しく異
る。このため、蒸着ソース材料と、形成した薄膜の間で
は、組成が変化する。高い温度領域では、その蒸気圧差
は著しく減少し、蒸着ソース材料組成と、薄膜の間にお
ける組成のずれは、減少する。したがって抵抗加熱法に
比べて、スパッタリング、あるいは、電子ビーム加熱等
を適用することが好ましい。
る。このため、蒸着ソース材料と、形成した薄膜の間で
は、組成が変化する。高い温度領域では、その蒸気圧差
は著しく減少し、蒸着ソース材料組成と、薄膜の間にお
ける組成のずれは、減少する。したがって抵抗加熱法に
比べて、スパッタリング、あるいは、電子ビーム加熱等
を適用することが好ましい。
薄膜形成の後に、この上に密着して第１図に示すように
、保護材料１を形成することにより、膜を、機械的な接
触および、化学的な変化から保護することができ、安定
な情報記録再生担体を構成することができる。
、保護材料１を形成することにより、膜を、機械的な接
触および、化学的な変化から保護することができ、安定
な情報記録再生担体を構成することができる。
〈実施例１〉
薄膜Ｔｅ０ｘ（ｏくｘく２．ｏ）において、蒸着ソース
の原材料として、２酸化チル、単体テルルを使用する。
の原材料として、２酸化チル、単体テルルを使用する。
これらの混合比は、次のように選ぶことができる。
ｘ＝ｏ、ｆｊ５ ＴｅＯ２：Ｔｅ ＝ ０．２５：０．
７５ｘ−１，ｏ Ｔｏｏ２：Ｔｅ −ｏ＋６ｏ：ｏ、５
０Ｘ＝１．５ ＴｅＯ２：Ｔｅ＝Ｏ＝７５：０−２５所
望の薄騰組成を得るために、ＴｅＯ２およびＴｅの秤量
比を選び、これら２種の粉末をあらがじめ十分混合し、
望ましくは、加圧、熱処理成型して蒸着ソースとする。
７５ｘ−１，ｏ Ｔｏｏ２：Ｔｅ −ｏ＋６ｏ：ｏ、５
０Ｘ＝１．５ ＴｅＯ２：Ｔｅ＝Ｏ＝７５：０−２５所
望の薄騰組成を得るために、ＴｅＯ２およびＴｅの秤量
比を選び、これら２種の粉末をあらがじめ十分混合し、
望ましくは、加圧、熱処理成型して蒸着ソースとする。
これを、真空度１０ ’Ｔｏｒｒ において、電子ビー
ム等で加熱することにより、基板にＴ ｅ Ｏｘ’薄膜
が得られる。この蒸着ソース材料から得る膜は、膜厚方
向のＸ値の変動は、極めて小さい〇〈実施例２〉 Ｇ ｅ Ｏｘ 、Ｓ ｎ Ｏｘ 、Ｓ ｂＯｘ ｒ Ｉ
ｎ Ｏｘ 、Ｂ １０ ｘ等の薄膜においても、それ
ぞれ、Ｇｅｏｘについては、ＧｅＯ２とＧｅ、５ｎＯｘ
については、Ｓ ｎ Ｏ２とＳｎ又はＳｎＯとＳｎそし
て、ｓｂｏ工については、Ｓｂ２Ｏ３とｓｂ。
ム等で加熱することにより、基板にＴ ｅ Ｏｘ’薄膜
が得られる。この蒸着ソース材料から得る膜は、膜厚方
向のＸ値の変動は、極めて小さい〇〈実施例２〉 Ｇ ｅ Ｏｘ 、Ｓ ｎ Ｏｘ 、Ｓ ｂＯｘ ｒ Ｉ
ｎ Ｏｘ 、Ｂ １０ ｘ等の薄膜においても、それ
ぞれ、Ｇｅｏｘについては、ＧｅＯ２とＧｅ、５ｎＯｘ
については、Ｓ ｎ Ｏ２とＳｎ又はＳｎＯとＳｎそし
て、ｓｂｏ工については、Ｓｂ２Ｏ３とｓｂ。
および、Ｉｎｏ！については、Ｉｎ２ｏ３とＩ ｎ 、
Ｂｉｂｘについては、Ｂｉ２Ｏ３とＢｉ を、所望の
モル比で秤量し、これを十分混合、加圧加熱成型した蒸
着ソース材料から、蒸着形成できる。
Ｂｉｂｘについては、Ｂｉ２Ｏ３とＢｉ を、所望の
モル比で秤量し、これを十分混合、加圧加熱成型した蒸
着ソース材料から、蒸着形成できる。
〈実施例３〉
酸化物と単体金属において蒸気圧が、大きく異る物質に
ついては、還元材料を一部加えることにより、より均質
な膜を得ることができる。例えば、Ｔｅｏ！薄膜におい
て、還元材料としてＡｔを用いることかでき、次のよう
にして、所望のＸ値の膜を得る。
ついては、還元材料を一部加えることにより、より均質
な膜を得ることができる。例えば、Ｔｅｏ！薄膜におい
て、還元材料としてＡｔを用いることかでき、次のよう
にして、所望のＸ値の膜を得る。
ｘ ＝ １．０の膜にするには、次のモル比を使用する
。
。
ＴｅＯ２：Ｔｅ：Ａｔ−１：ｏ、４：ｏ、４を混合し、
あらかじめ加熱処理を施す。Ａｔは還元作用でＡｔ２Ｏ
３になｐ Ａｔ １ケ当セ酸素を１．５ケ減少させる。
あらかじめ加熱処理を施す。Ａｔは還元作用でＡｔ２Ｏ
３になｐ Ａｔ １ケ当セ酸素を１．５ケ減少させる。
ＴｅＯ量は、１．４であシ、酸素の量は、２−〇、４
Ｘ １．５ ＝ １．４となり、ｘ ＝ １．０に々る
。
Ｘ １．５ ＝ １．４となり、ｘ ＝ １．０に々る
。
〈実施例４〉
次にこれら、薄膜に対して、添加材料を加えたものを第
３図及び第４図に示す。
３図及び第４図に示す。
第３図は、蒸着ソース材料として、Ｔ ｅ Ｏ２および
Ｔｅに加えて、添加材料Ｍ１を用いたもので、組成とし
て、Ｃｕを加えている。この場合、薄膜の安定性が、向
上する特徴を有する。同様にＺｎ。
Ｔｅに加えて、添加材料Ｍ１を用いたもので、組成とし
て、Ｃｕを加えている。この場合、薄膜の安定性が、向
上する特徴を有する。同様にＺｎ。
Ｓｎ、Ｂｉ、Ｉｎ等および、還元材料を用いて、同様に
安定な膜を形成することができる。
安定な膜を形成することができる。
又、第４図では、２種の添加材料を加えた例を示してい
る。
る。
ＴｅＯ工は、実施例１又は実施例２で述べた要領でＸ値
を定める。これに、添加材料として、Ｓｓ。
を定める。これに、添加材料として、Ｓｓ。
Ｓ、Ｓｎ、Ｇｏ等のうち、少くとも２種の組成Ｍ１゜Ｍ
２を選んで、加え、蒸着ソース材料とする。これから形
成した薄膜は特に消去特性について、安定な特性を得る
ことができる。
２を選んで、加え、蒸着ソース材料とする。これから形
成した薄膜は特に消去特性について、安定な特性を得る
ことができる。
又、添加量によっては、情報記録における応答速度特性
を選ぶことができる０酸化物ＭｍＯｎにおいて安定性は
、酸素の多い組成領域で高く、ＭＯアの表現において、
ｏ＜ｙ〈−の組成のなかでレーザ照射による記録振巾は
、第５図に示すようにｙの小さい領域で、ピークを得る
０安定性と振巾記録薄膜に加わるように蒸発源に入れる
混合体に添加材料としては少くともＺｎ、Ｃｕ、Ｓｎ、
Ｇｅ。
を選ぶことができる０酸化物ＭｍＯｎにおいて安定性は
、酸素の多い組成領域で高く、ＭＯアの表現において、
ｏ＜ｙ〈−の組成のなかでレーザ照射による記録振巾は
、第５図に示すようにｙの小さい領域で、ピークを得る
０安定性と振巾記録薄膜に加わるように蒸発源に入れる
混合体に添加材料としては少くともＺｎ、Ｃｕ、Ｓｎ、
Ｇｅ。
Ｂｉ、Ｉｎ、Ｓｓ、Ｓ、Ｓｂのうちの１つを単体または
酸化物の状態で用いることができる。
酸化物の状態で用いることができる。
発明の効果
以上のように本発明によれば一つの蒸発源のみをコント
ロールすればよいので、きわめて容易に目的とする薄膜
を基板上に形成することができるものである。
ロールすればよいので、きわめて容易に目的とする薄膜
を基板上に形成することができるものである。
第１図は光学情報記録再生用担体の断正面図、第２図は
本発明の光学情報記録再生用担体の製造方法を実施した
装置の一部断正面図、第３図、第４図、第５図は同方法
説明のための特性図である。 ６・・・・・・基板、７・・・・・・軸、８・・・・・
・るつぼ、９・・・・・・蒸着ソース材料、１ｏ・・・
・・・薄膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第３
図 Ｍｔ Ｔｅ＆
本発明の光学情報記録再生用担体の製造方法を実施した
装置の一部断正面図、第３図、第４図、第５図は同方法
説明のための特性図である。 ６・・・・・・基板、７・・・・・・軸、８・・・・・
・るつぼ、９・・・・・・蒸着ソース材料、１ｏ・・・
・・・薄膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第３
図 Ｍｔ Ｔｅ＆
Claims (5)
- （１）化学当量比の金属または半金属の酸化物と金属ま
たは半金属単体の混合体を蒸発源として、透明基板上に
ＭＯよ（Ｍは金属または半金属、０は酸素、Ｏ（ｘ （
Ａ 、 ＡはＭの量を１とした場合の酸素０の量を比化
学等量比で表わした値）なる記録用の薄膜を形成するこ
とを特徴とする光学情報記録再生用担体の製造方法。 - （２）混合体に酸化物を還元する還元材料を含ませた特
許請求の範囲第１項記載の光学情報記録再生用担体の製
造方法。 - （３）混合体にあらかじめ加えた金属または半金属単体
と、還元で生じた金属または半金属単体と、還元で残っ
た化学当量比の酸化物に含まれる金属または半金属単体
との和と、前記化学当量比の酸（ｍ 、 ｎは化学当量
比の酸化物ＭｍＯｎの値）である特許請求の範囲第２項
記載の光学情報記録再生用担体の製造方法。 - （４）還元材料としてＣ、Ｃｕ 、 Ｓｎ 、Ｗ、 Ｆ
ｅ 、Ａｔ 。 Ｚ、ｎのうちの少くとも一種を用いた特許請求の範囲第
２項記載の光学情報記録再生用担体δ製造方法０ - （５）混合体に添加材料として少くともＣｕ 、 Ｓｎ
。 Ｇｅ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｓｅ、Ｓ、Ｓｂのうちの１つを加え
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光学情
報記録再生用担体の製造方法０
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23919283A JPS60131656A (ja) | 1983-12-19 | 1983-12-19 | 光学情報記録再生用担体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23919283A JPS60131656A (ja) | 1983-12-19 | 1983-12-19 | 光学情報記録再生用担体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60131656A true JPS60131656A (ja) | 1985-07-13 |
Family
ID=17041082
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23919283A Pending JPS60131656A (ja) | 1983-12-19 | 1983-12-19 | 光学情報記録再生用担体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60131656A (ja) |
-
1983
- 1983-12-19 JP JP23919283A patent/JPS60131656A/ja active Pending
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