JPS60217540A - 光学記録部材 - Google Patents

光学記録部材

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JPS60217540A
JPS60217540A JP59074036A JP7403684A JPS60217540A JP S60217540 A JPS60217540 A JP S60217540A JP 59074036 A JP59074036 A JP 59074036A JP 7403684 A JP7403684 A JP 7403684A JP S60217540 A JPS60217540 A JP S60217540A
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recording
amorphous
film
optical recording
oxides
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JP59074036A
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Kunio Kimura
邦夫 木村
Noboru Yamada
昇 山田
Eiji Ono
鋭二 大野
Nobuo Akahira
信夫 赤平
Mutsuo Takenaga
睦生 竹永
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光、熱等を用いて高速かつ高密度に光学的な情
報を記録、再生できる光学情報記録部材に関するもので
ある。
従来例の構成とその問題点 レーザ光線を利用して高密度な情報の記録、再生を行う
記録媒体としては、基板上にテルル化物Teox1(0
くxl〈2)、を主成分とする薄膜を設けたものがある
(特開昭60−46317号,特開昭50−46318
号,特開昭50−46319)。
また添加成分としては、PbOx3(0〈x2く1)。
Sbox3(o<x3く1.6 )、vOx4(0くx
4く2、5)等が使用される。
これらの記録媒体は、レーザ出力が大であれば感度は良
好であるが、記録,再生装置の小型化。
られないという欠点があった。
次に、前記欠点を補うものとして、TeOx に融点の
低い添加材料を適用し、状態変化の転移温度を下げる試
みがなされている。例えばT120x(0(x (1,
6) (Tl2O:融点300℃)を添加する方法があ
る。
一方状態変化に伴なう光学特性の変化を大きくするため
に、媒体の屈折率を大きくする方法があり、このため、
イオン分極率が大きく、かつ密度の大きい添加材料を用
いる試みがなされている。
例えば、B z Ox + I n Ox (いずれも
o (X <1.5 )などである(特開昭56−38
616号、特開昭55−163638号)、これらの組
成によって、T e Oxを主成分とする記録媒体は、
半導体レーザによる記録2反射光量変化による再生など
が可能となった。
しかし、情報社会の進展に伴ない、これまで以上に情報
伝達の高速化が要求されるようになると従来以上の記録
速度、再生速度、それに伴なう記録感度の向上が必要と
なって来ている。
発明の目的 本発明の光学記録部材は酸素を主成分とする光記録薄膜
、例えばTeOエ を主成分とする材料を改良し、Ta
rn の非晶質状態からTo S、n の結晶状態への
変化を利用し、記録速度、記録感度を増大させ、しかも
耐湿性に優れた記録部材を得ようとするものである。
発明の構成 本発明の光学記録部材は、基材の上に金属酸化物とTo
 とSnより構成されるカルコゲン化物の非晶質で形成
されているもので、記録後の膜組成が部分的にTeSn
の結晶で形成されていることを特徴とするものである。
光照射によって記録を行なう過程は、膜が光の吸収によ
って非晶質から結晶へ変化し、さらに結晶の粒成長によ
る光学的変化を利用するものである。したがって、高速
に記録するためには、この状態変化をいかに速く終了さ
せるかによる。このだめの手段として、Toを主成分と
した種々の添加剤の適用が試みられている。例としてG
o、As。
Se 、 S 、 St 、 Sb 、 Bi の添加
がある。カルコゲン化物よりなる膜は記録感度が良好で
、かつ高速に記録することが可能であるが、膜の耐湿性
、耐熱性に弱く実用レベルのものは得られない。これに
対し、系の中に酸素を含んだ記録膜、Te−TeO2は
耐湿性が優れているものの、非晶質のTeが結晶になる
際、酸化物(Te 02 )のバリアがあるため、安定
な結晶状態になるための構造緩和に時間を要する。こう
した記録部材は、情報として、映像などを記録する場合
は、大きな問題とはならないが、コンピュータ用ディス
クとして用いる場合など、高速が要求される時は問題と
なる。
本発明は、こうした現状よシ考案されたもので金属酸化
物とTe Sn との非晶質で膜を構成するものである
。Te Snは結晶性の優れた化合物で、非化学量組成
を収らず、Te吉Snが1=1のものが知られている。
したがってTeSn単独では、非晶質化が困難で、通常
の蒸着法による急冷速度では、ガラス化しない。しかし
ながら、このTeSnは、金属酸化物と同時に蒸着する
と、金属酸化物は粘性が大きいため、Tarnの結晶化
のバリアーとなり、非晶質のまま基板上の膜中に存在す
る。
こうして得られるTe Snの非晶質の秩序性は他のT
o を含んだカルコゲン化物より、整っているものと推
察される。したがって非晶質から結晶への移行に際して
の構造緩和に要する時間も短く、記録の高速化が達成さ
れる。
以上述べた理由により、金属酸化物とTe −Snを含
んだ光学記録部材は、耐湿性が良好で、しかも記録の高
速化が可能である。以下実施例によって本発明を詳述す
る。
実施例の説明 本発明は膜中で、金属酸化物とTo−8nが共存してい
るが、記録面の膜はX線回折では非晶質状態を示すハロ
ーパターンが認められる。オージェ電子分光法(以下A
ESと略す)による元素分析では、金属酸化物かG e
 O2であれば、Ge、○。
Te 、 Sn が同定される。また、ESCA(El
ectron 5pectroscopy for C
hemical Analysis )による分析でl
d Gem。、 Gem、 Tarn 、To 。
Sn 、 Geなどか同定される。
したがって本発明の組成の限定は、ESCAによる分析
によって、金属酸化物、Tornなどの結合が認められ
ることで行なわれる。また、記録後の状態は、X線回折
によりTe Snの結晶を示すピークが存在するかどう
かによって判別される訳であるが、情報の記録ビットは
小さく、X線回折を行なうことが困難であるので、ガラ
ス基板など耐熱性のよい基板上に蒸着した膜組成を非晶
質から結晶への転移温度以上に加熱した際の状態で同定
する。
本発明で述べる金属酸化物は出発原料の組成を限定して
いるのではなく、蒸着された膜組成としてESCAによ
って金属酸化物となっているが、またはAESによって
酸素が検出されることである(酸素は必ず酸化物を形成
しているため)。本発明に用いる金属酸化物は、Te 
、 Sn 、Ge 。
Si より選択される金属の酸化物により構成される。
この酸化物は単独もしくは二種以上混在していてもよく
、蒸着後は非晶質の状態である。したかって結晶のよう
なTe O、G e O2と書き表わす、化学量論的な
表現は適切ではなく、Te○工。
Ge Qx 、S n Ox 、S iOxとしてXの
値が可変なガラス状態として存在している。
本発明における酸化物の役割は大きく分けて二つある。
−りは耐湿性を向上させることである。
カルコゲン化物は、耐湿性に弱く、水蒸気の存在化で酸
化され酸化物となり結晶化する。ところが金属酸化物が
共存すると、カルコゲン化物が結晶化しようとすると、
介在している金属酸化物が障壁となり、結晶化が阻止さ
れる。壕だ、湿度に強い金属酸化物は湿度に弱いカルコ
ゲン化物のコーティングの役割をも果す。以上述べた理
由により、金属酸化物は防湿に効果を発揮する。
第二の役割は、TeSnを非晶質化させやすくすること
である。Te Sn td結晶性のすぐれた化合物で、
通常の蒸着条件では、非晶化しない。ところが、非晶質
化しやすい金属酸化膜と共存させると、非晶質となる。
これは液相からの急冷時に、粘性の高い金属酸化物がT
e Snの結晶化を阻止し非晶質状態のまま固定化させ
るのに一役を担っているからである。したがって金属酸
化物は、Te Snの非晶質を形成させる必要べからざ
るものである。
本発りJにとって好ましい金属酸化物は、Te。
Sn 、 Ge 、 Siの酸化物より選択される。本
発明にとって、要求される金属酸化物の特性としては、
ガラス化しやすい物質であること、それ白身の耐湿性が
すぐれていることなどが挙げられる。Te。
Sn 、 Go 、 Siの酸化物の中で、Te とS
n酸化物はTe Snを形成した時にできる副産物であ
るが、上述した条件を満たしている。さらにGe、Si
酸化物もガラス形成酸化物としては代表的なもので、本
発明にとっても好ましいものである。その他のガラス形
成酸化物、Pb+Bの酸化物なども使用可能であるが、
単独では耐湿性が剰いので上述した酸化物と共存させて
用いることが必要である。また、ガラス形成酸化物では
ないが、ガラス形成酸化物と共存させてガラスを形成す
る酸化物、例えばTi 、 Znなどの酸化物を用いる
ことも任意である。
次にTe Snについて述べる。本発明におけるTe5
nけ、蒸着後の膜組成がTe Snの非晶質として存在
しているのであって、出発原料として、Te Sn合金
を用いることを限定している訳ではない。出発原料とし
てはGo−、’Snの単体を用いて膜組成をTo Sn
の非晶質として形成することも可能であり、またTe 
Snの合金を用いることも可能である。
本発明におけるTe Snは記録膜として部分的に形成
されていればよく、全てがTe Snである必要はない
。蒸着後の薄膜を加熱により結晶化させてX線回折の結
晶を示すピークは、Te、 Sn単独のピークとTe 
Snのピークが共存しているような場合もあり他の結晶
ピークがあってもTe Snのピークが存在していれば
本発明の範囲内である。さらに、To Snのピークの
他に、TeGe、あるいは、その他の結晶を示すピーク
が存在しても、本発明にとって必要なのは、部分的にT
e Snのピークが認められることである。To Sn
の非晶質膜は、本質的に高速で結晶化しやすいので、他
の単独、あるいは合金の非晶質が共存していても、Te
Snの高速の結晶化が引き金となシ、TeSnと同様に
結晶化が促進される。しかし絶対量として、ある程度以
上存在していなければならな1い。ところが、Te S
nの非晶質状態を定量化する!ごとは困難であるため、
本発明ではAESによって分析されたTeとSnの割合
、および総爪でもって限定する。そしてTo Snや金
−酸化物の非晶質状態における結合はESCAによって
同定されるものとする。
」二連したAESによる分析値として、本発明では、膜
組成のTeとSnの原子数比(Te/Sn)の値が0.
6〜6.0の範囲内にあることである。
0.6より少ない場合、すなわち、SnがTeに対して
多い場合は、TeSnを構成した残りの単体のSn量が
多くなると、Snは単独でTe Sn以上非晶化しにく
いので、蒸着でSnの結晶が析出してしまい、記録が困
難となる。一方、5.0以上になるとTeがTeSn 
に対して多くなり、Tarnの持つ高速応答性よりも、
T、eOxの記録特性、即ち応答性に時間を要するよう
になる。したがってTe/Sn の原子数比は0.5〜
6.0である。
次に膜組成中のTeとSnの原子数の和であるが、これ
は20〜70原子チの範囲内である。
20原子チより少ない場合、To Snの量が少なくな
シ、光学記録に必要な光学的特性を満足しない。逆に7
0w、子チを超えると共存する金属酸化物の量が少なく
なり、耐湿性が低下する。したがってTeとSnの原子
数多の和は20〜70原子チの範囲内である。
本発明の記録部材は、以上述べた組成により構成される
が、次に実施例をもって詳述する。
本発明の光学記録部材は、蒸着法によって樹脂基板上に
蒸着される。蒸着法には、抵抗加熱法と電子ビーム法が
あるが、どちらも使用可能である。
しかし、蒸着の安定性と量産性からは、電子ビーム法の
方が優れているので以下電子ビーム法を用いた場合につ
いて述べる。
金属酸化物とToSnの非晶質膜を形成させるために用
いる化合物は、Too 、GaO2。
SnO2、Sio2などの酸化物と、金属のGe。
Sn 、 To の混合物を用いる。また電子ビーム法
において二源ソースを用いる場合は、金属酸化物を一つ
にし、他をTeSn の合金もしくはToとSnの粉末
を混合してベレットをつくり、これを蒸着することも可
能である。このような蒸着によって金属酸化物とTeS
nの非晶質膜が得られるが、特性を調整する上でTeS
n にさらにTeを加える場合には、T e O2を一
部還元する作用を有した金属粉末、例えばAI 、Cu
 、Znなどを混在させ、所定の温度で熱処理したもの
を用いることも可能である。
実施例1 出発原料として第1表に示した材料1組成を用い、少量
のアルコールを用いて混合した。
粉末269を石英ボートに載せ、電気炉を用いて700
℃でN2ガスを流しながら、2時間焼成した。この焼成
物を粉砕しプレスして成型体を得た。
蒸着は電子ビーム法により行ない、真空度1×10″5
Torr で蒸着した。基板にはガラス基材(181I
III+×18nanX0.2mm )を用いて行ない
記録部材の膜厚を1200八 とした。
上記の方法で得た薄膜のAESによる元素分析の結果は
Te:40原子%、O:32原子チ。
Ge:15原子チ、stt:13原子チであった。
この基板を30o℃で30分加熱後、X線回折を行なっ
たところ、TeとToSn の結晶ピークが観察され、
また加熱後は黒化変態が認められた。
実施例2 二源蒸着が可能な電子ビーム蒸着機を用い、−源にTe
O2,他の蒸着源にTorn合金を用いて蒸着を行なっ
た。なお蒸着速度はT e O2; 15人/秒、Te
Sn : 5へ/秒で、基板は実施例1と同様とした。
膜厚は11o〇八とした。上記の方法で得られた薄膜の
AESによる元素分析の結果は、Te−48原子110
:35原子%、Sn:17原子チで、ESCAによる分
析ではTeO2、TeSnのピークが認められた。この
基板を300℃で 。
30分加熱後、X線回折を行なったところ、TeSnの
結晶ピークが観察され、また加熱後は黒化変態が認めら
れた。
実施例3 実施例1において、出発原料をTeO2,Ge。
Sn、Al とし、AES分析による最終組成が第2表
に示すとおシになるように調整した。評価における黒化
状態とは、簡易の半導体レーザパルス(波長:830n
m)をあて、肉眼で記録後の膜の反射率変化を観察した
ものである。表中で○は充分な黒化が認められたもの、
△は黒化するが、充分ではないもの、Xは黒化しないも
のとして評価した結果である。また、耐湿性評価は温度
6C)C。
相対湿度90%の雰囲気中で行ない、10日口の状態が
顕微鏡観察で何らの変化も認められないものが○で、多
少の変化が認められたものがへ、結晶化して黒い模様が
認められたものを×としだ。
以下余白 第 2 表 結果からも明らかなように黒化状態、耐湿性とも良好な
ものはTe/Sn の値が0.6〜5.0の範囲内であ
る。
実施例4 実施例2のTeO2、TeSn の二源蒸着法によって
光学記録部材を作製し、AE3分析による膜組成が第3
表になるよう、M着速度を可変した。
結果を第3表に示し、評価方法は実施例2と同様とした
結果から明らかなように黒化状態、1飼湿性とも良好な
ものはTo−1−8nO値が20〜70I@子グの範囲
内である。
実施例6 150 rpmで回転する厚さ11叫、直径200圏の
円板状アクリル樹脂基材上に、実施例1で用いたペレッ
トで10八/秒の速度で、厚さ12o〇への簿膜を電子
ビーム蒸着で蒸着し、光ディスクを試作した。
このディスクを用い、第1図のような系で記録実験を行
なった。光導体レーザ1を出た光は第ルンズ2によって
疑似平行光2となり第2のレンズ3で丸くし整形した後
、第3図のレンズ4で釘び平行光になり、ハーフミラ−
5を介して第4のレンズ6で、ディスク上に波長限界的
0.8μmの大きさのスポット9に集光される。この円
スポット9によって照射されたディスク8上の記録膜は
黒化変態し記録か行なわれる。ここで半導体レーザを変
調してディスク上に情報信号を記録することができる。
信号の検出は、ディスク面8からの反射光10をハーフ
ミラ−11を介して受け、し/ズ12を通じて光感応ダ
イオード13で行なった。
半導体レーザ光を単一周波数5津で変調し、照射パワー
8mWで180Orpmで回転するディスク面照射した
ところ、記録が行なわれた。スペクトルアナライザーを
用いてC/ Nを測定したところts s dBが得ら
れた。
実施例6 実施例2の二源蒸着において、TeO2の代りにGeO
2、Sio2.5no2を用いて各々二源蒸着を行なっ
た。金属酸化物の蒸着速度は15八/秒である。基板、
蒸着条件t/i実施例5と同様にしてアクリル樹脂基材
に形成した。
この光ディスクを実施例5と同様の評価装置を用いて評
価したところ、G e O2を用いた場合のC/Nは5
5 dB 18102は53dB、S n O2は50
 dBであった。
発明の効果 以上のように、本発明は金属酸化物とTeSnより構成
することを特徴とするもので、非晶質状態がTarn 
で構成されているため結晶への変化速度が早く、シかも
高いC/Nが得られるものである。さらに、記録膜のマ
トリックスとして、金属酸化物を用いているので耐湿性
も良好で、実用に適した光学記録膜が得られることを特
徴とするものである。
【図面の簡単な説明】
図は本発明の記録部材で形成した光ディスクに情報信号
を記録・再生する装置の概略図である。 8・・・・・・ディスク、9・・・・・・光のスポット

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光学的に情報の記録、再生可能な記録部材の記録
    前の組成が金属酸化物とTe −Sn系より構成される
    カルコゲン化物の非晶質で形成され、記録部の組成の少
    なくとも一部がTe Snの結晶で形成されていること
    を特徴とする光学記録部材。
  2. (2)記録前の膜組成のTe とSnの原子数比(Te
    /Sn )の値が0.5〜5.0の範囲内であることを
    特徴とする特許請求の範囲第り項記載の光学記録部材。
  3. (3)記録前の膜組成のTeとSnの原子数百分率の和
    が20〜70%の範囲内であることを特徴とする特許請
    求の範12JJ第1項記載の光学記録部材。
  4. (4)金属酸化物がTe 、 Sn 、 Ge ’、 
    Si の酸化物群より選択される一種以上を含むことを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光学記録部材。
JP59074036A 1984-04-13 1984-04-13 光学記録部材 Pending JPS60217540A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59074036A JPS60217540A (ja) 1984-04-13 1984-04-13 光学記録部材

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JP59074036A JPS60217540A (ja) 1984-04-13 1984-04-13 光学記録部材

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62152786A (ja) * 1985-12-27 1987-07-07 Hitachi Ltd 相変化記録媒体
CN102612763A (zh) * 2009-09-11 2012-07-25 国立大学法人东北大学 相变化材料及相变化型存储元件

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