JPS60217540A - 光学記録部材 - Google Patents
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- JPS60217540A JPS60217540A JP59074036A JP7403684A JPS60217540A JP S60217540 A JPS60217540 A JP S60217540A JP 59074036 A JP59074036 A JP 59074036A JP 7403684 A JP7403684 A JP 7403684A JP S60217540 A JPS60217540 A JP S60217540A
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- G11B2007/24316—Metals or metalloids group 16 elements (i.e. chalcogenides, Se, Te)
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- G11B2007/24318—Non-metallic elements
- G11B2007/2432—Oxygen
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は光、熱等を用いて高速かつ高密度に光学的な情
報を記録、再生できる光学情報記録部材に関するもので
ある。
報を記録、再生できる光学情報記録部材に関するもので
ある。
従来例の構成とその問題点
レーザ光線を利用して高密度な情報の記録、再生を行う
記録媒体としては、基板上にテルル化物Teox1(0
くxl〈2)、を主成分とする薄膜を設けたものがある
(特開昭60−46317号,特開昭50−46318
号,特開昭50−46319)。
記録媒体としては、基板上にテルル化物Teox1(0
くxl〈2)、を主成分とする薄膜を設けたものがある
(特開昭60−46317号,特開昭50−46318
号,特開昭50−46319)。
また添加成分としては、PbOx3(0〈x2く1)。
Sbox3(o<x3く1.6 )、vOx4(0くx
4く2、5)等が使用される。
4く2、5)等が使用される。
これらの記録媒体は、レーザ出力が大であれば感度は良
好であるが、記録,再生装置の小型化。
好であるが、記録,再生装置の小型化。
られないという欠点があった。
次に、前記欠点を補うものとして、TeOx に融点の
低い添加材料を適用し、状態変化の転移温度を下げる試
みがなされている。例えばT120x(0(x (1,
6) (Tl2O:融点300℃)を添加する方法があ
る。
低い添加材料を適用し、状態変化の転移温度を下げる試
みがなされている。例えばT120x(0(x (1,
6) (Tl2O:融点300℃)を添加する方法があ
る。
一方状態変化に伴なう光学特性の変化を大きくするため
に、媒体の屈折率を大きくする方法があり、このため、
イオン分極率が大きく、かつ密度の大きい添加材料を用
いる試みがなされている。
に、媒体の屈折率を大きくする方法があり、このため、
イオン分極率が大きく、かつ密度の大きい添加材料を用
いる試みがなされている。
例えば、B z Ox + I n Ox (いずれも
o (X <1.5 )などである(特開昭56−38
616号、特開昭55−163638号)、これらの組
成によって、T e Oxを主成分とする記録媒体は、
半導体レーザによる記録2反射光量変化による再生など
が可能となった。
o (X <1.5 )などである(特開昭56−38
616号、特開昭55−163638号)、これらの組
成によって、T e Oxを主成分とする記録媒体は、
半導体レーザによる記録2反射光量変化による再生など
が可能となった。
しかし、情報社会の進展に伴ない、これまで以上に情報
伝達の高速化が要求されるようになると従来以上の記録
速度、再生速度、それに伴なう記録感度の向上が必要と
なって来ている。
伝達の高速化が要求されるようになると従来以上の記録
速度、再生速度、それに伴なう記録感度の向上が必要と
なって来ている。
発明の目的
本発明の光学記録部材は酸素を主成分とする光記録薄膜
、例えばTeOエ を主成分とする材料を改良し、Ta
rn の非晶質状態からTo S、n の結晶状態への
変化を利用し、記録速度、記録感度を増大させ、しかも
耐湿性に優れた記録部材を得ようとするものである。
、例えばTeOエ を主成分とする材料を改良し、Ta
rn の非晶質状態からTo S、n の結晶状態への
変化を利用し、記録速度、記録感度を増大させ、しかも
耐湿性に優れた記録部材を得ようとするものである。
発明の構成
本発明の光学記録部材は、基材の上に金属酸化物とTo
とSnより構成されるカルコゲン化物の非晶質で形成
されているもので、記録後の膜組成が部分的にTeSn
の結晶で形成されていることを特徴とするものである。
とSnより構成されるカルコゲン化物の非晶質で形成
されているもので、記録後の膜組成が部分的にTeSn
の結晶で形成されていることを特徴とするものである。
光照射によって記録を行なう過程は、膜が光の吸収によ
って非晶質から結晶へ変化し、さらに結晶の粒成長によ
る光学的変化を利用するものである。したがって、高速
に記録するためには、この状態変化をいかに速く終了さ
せるかによる。このだめの手段として、Toを主成分と
した種々の添加剤の適用が試みられている。例としてG
o、As。
って非晶質から結晶へ変化し、さらに結晶の粒成長によ
る光学的変化を利用するものである。したがって、高速
に記録するためには、この状態変化をいかに速く終了さ
せるかによる。このだめの手段として、Toを主成分と
した種々の添加剤の適用が試みられている。例としてG
o、As。
Se 、 S 、 St 、 Sb 、 Bi の添加
がある。カルコゲン化物よりなる膜は記録感度が良好で
、かつ高速に記録することが可能であるが、膜の耐湿性
、耐熱性に弱く実用レベルのものは得られない。これに
対し、系の中に酸素を含んだ記録膜、Te−TeO2は
耐湿性が優れているものの、非晶質のTeが結晶になる
際、酸化物(Te 02 )のバリアがあるため、安定
な結晶状態になるための構造緩和に時間を要する。こう
した記録部材は、情報として、映像などを記録する場合
は、大きな問題とはならないが、コンピュータ用ディス
クとして用いる場合など、高速が要求される時は問題と
なる。
がある。カルコゲン化物よりなる膜は記録感度が良好で
、かつ高速に記録することが可能であるが、膜の耐湿性
、耐熱性に弱く実用レベルのものは得られない。これに
対し、系の中に酸素を含んだ記録膜、Te−TeO2は
耐湿性が優れているものの、非晶質のTeが結晶になる
際、酸化物(Te 02 )のバリアがあるため、安定
な結晶状態になるための構造緩和に時間を要する。こう
した記録部材は、情報として、映像などを記録する場合
は、大きな問題とはならないが、コンピュータ用ディス
クとして用いる場合など、高速が要求される時は問題と
なる。
本発明は、こうした現状よシ考案されたもので金属酸化
物とTe Sn との非晶質で膜を構成するものである
。Te Snは結晶性の優れた化合物で、非化学量組成
を収らず、Te吉Snが1=1のものが知られている。
物とTe Sn との非晶質で膜を構成するものである
。Te Snは結晶性の優れた化合物で、非化学量組成
を収らず、Te吉Snが1=1のものが知られている。
したがってTeSn単独では、非晶質化が困難で、通常
の蒸着法による急冷速度では、ガラス化しない。しかし
ながら、このTeSnは、金属酸化物と同時に蒸着する
と、金属酸化物は粘性が大きいため、Tarnの結晶化
のバリアーとなり、非晶質のまま基板上の膜中に存在す
る。
の蒸着法による急冷速度では、ガラス化しない。しかし
ながら、このTeSnは、金属酸化物と同時に蒸着する
と、金属酸化物は粘性が大きいため、Tarnの結晶化
のバリアーとなり、非晶質のまま基板上の膜中に存在す
る。
こうして得られるTe Snの非晶質の秩序性は他のT
o を含んだカルコゲン化物より、整っているものと推
察される。したがって非晶質から結晶への移行に際して
の構造緩和に要する時間も短く、記録の高速化が達成さ
れる。
o を含んだカルコゲン化物より、整っているものと推
察される。したがって非晶質から結晶への移行に際して
の構造緩和に要する時間も短く、記録の高速化が達成さ
れる。
以上述べた理由により、金属酸化物とTe −Snを含
んだ光学記録部材は、耐湿性が良好で、しかも記録の高
速化が可能である。以下実施例によって本発明を詳述す
る。
んだ光学記録部材は、耐湿性が良好で、しかも記録の高
速化が可能である。以下実施例によって本発明を詳述す
る。
実施例の説明
本発明は膜中で、金属酸化物とTo−8nが共存してい
るが、記録面の膜はX線回折では非晶質状態を示すハロ
ーパターンが認められる。オージェ電子分光法(以下A
ESと略す)による元素分析では、金属酸化物かG e
O2であれば、Ge、○。
るが、記録面の膜はX線回折では非晶質状態を示すハロ
ーパターンが認められる。オージェ電子分光法(以下A
ESと略す)による元素分析では、金属酸化物かG e
O2であれば、Ge、○。
Te 、 Sn が同定される。また、ESCA(El
ectron 5pectroscopy for C
hemical Analysis )による分析でl
d Gem。、 Gem、 Tarn 、To 。
ectron 5pectroscopy for C
hemical Analysis )による分析でl
d Gem。、 Gem、 Tarn 、To 。
Sn 、 Geなどか同定される。
したがって本発明の組成の限定は、ESCAによる分析
によって、金属酸化物、Tornなどの結合が認められ
ることで行なわれる。また、記録後の状態は、X線回折
によりTe Snの結晶を示すピークが存在するかどう
かによって判別される訳であるが、情報の記録ビットは
小さく、X線回折を行なうことが困難であるので、ガラ
ス基板など耐熱性のよい基板上に蒸着した膜組成を非晶
質から結晶への転移温度以上に加熱した際の状態で同定
する。
によって、金属酸化物、Tornなどの結合が認められ
ることで行なわれる。また、記録後の状態は、X線回折
によりTe Snの結晶を示すピークが存在するかどう
かによって判別される訳であるが、情報の記録ビットは
小さく、X線回折を行なうことが困難であるので、ガラ
ス基板など耐熱性のよい基板上に蒸着した膜組成を非晶
質から結晶への転移温度以上に加熱した際の状態で同定
する。
本発明で述べる金属酸化物は出発原料の組成を限定して
いるのではなく、蒸着された膜組成としてESCAによ
って金属酸化物となっているが、またはAESによって
酸素が検出されることである(酸素は必ず酸化物を形成
しているため)。本発明に用いる金属酸化物は、Te
、 Sn 、Ge 。
いるのではなく、蒸着された膜組成としてESCAによ
って金属酸化物となっているが、またはAESによって
酸素が検出されることである(酸素は必ず酸化物を形成
しているため)。本発明に用いる金属酸化物は、Te
、 Sn 、Ge 。
Si より選択される金属の酸化物により構成される。
この酸化物は単独もしくは二種以上混在していてもよく
、蒸着後は非晶質の状態である。したかって結晶のよう
なTe O、G e O2と書き表わす、化学量論的な
表現は適切ではなく、Te○工。
、蒸着後は非晶質の状態である。したかって結晶のよう
なTe O、G e O2と書き表わす、化学量論的な
表現は適切ではなく、Te○工。
Ge Qx 、S n Ox 、S iOxとしてXの
値が可変なガラス状態として存在している。
値が可変なガラス状態として存在している。
本発明における酸化物の役割は大きく分けて二つある。
−りは耐湿性を向上させることである。
カルコゲン化物は、耐湿性に弱く、水蒸気の存在化で酸
化され酸化物となり結晶化する。ところが金属酸化物が
共存すると、カルコゲン化物が結晶化しようとすると、
介在している金属酸化物が障壁となり、結晶化が阻止さ
れる。壕だ、湿度に強い金属酸化物は湿度に弱いカルコ
ゲン化物のコーティングの役割をも果す。以上述べた理
由により、金属酸化物は防湿に効果を発揮する。
化され酸化物となり結晶化する。ところが金属酸化物が
共存すると、カルコゲン化物が結晶化しようとすると、
介在している金属酸化物が障壁となり、結晶化が阻止さ
れる。壕だ、湿度に強い金属酸化物は湿度に弱いカルコ
ゲン化物のコーティングの役割をも果す。以上述べた理
由により、金属酸化物は防湿に効果を発揮する。
第二の役割は、TeSnを非晶質化させやすくすること
である。Te Sn td結晶性のすぐれた化合物で、
通常の蒸着条件では、非晶化しない。ところが、非晶質
化しやすい金属酸化膜と共存させると、非晶質となる。
である。Te Sn td結晶性のすぐれた化合物で、
通常の蒸着条件では、非晶化しない。ところが、非晶質
化しやすい金属酸化膜と共存させると、非晶質となる。
これは液相からの急冷時に、粘性の高い金属酸化物がT
e Snの結晶化を阻止し非晶質状態のまま固定化させ
るのに一役を担っているからである。したがって金属酸
化物は、Te Snの非晶質を形成させる必要べからざ
るものである。
e Snの結晶化を阻止し非晶質状態のまま固定化させ
るのに一役を担っているからである。したがって金属酸
化物は、Te Snの非晶質を形成させる必要べからざ
るものである。
本発りJにとって好ましい金属酸化物は、Te。
Sn 、 Ge 、 Siの酸化物より選択される。本
発明にとって、要求される金属酸化物の特性としては、
ガラス化しやすい物質であること、それ白身の耐湿性が
すぐれていることなどが挙げられる。Te。
発明にとって、要求される金属酸化物の特性としては、
ガラス化しやすい物質であること、それ白身の耐湿性が
すぐれていることなどが挙げられる。Te。
Sn 、 Go 、 Siの酸化物の中で、Te とS
n酸化物はTe Snを形成した時にできる副産物であ
るが、上述した条件を満たしている。さらにGe、Si
酸化物もガラス形成酸化物としては代表的なもので、本
発明にとっても好ましいものである。その他のガラス形
成酸化物、Pb+Bの酸化物なども使用可能であるが、
単独では耐湿性が剰いので上述した酸化物と共存させて
用いることが必要である。また、ガラス形成酸化物では
ないが、ガラス形成酸化物と共存させてガラスを形成す
る酸化物、例えばTi 、 Znなどの酸化物を用いる
ことも任意である。
n酸化物はTe Snを形成した時にできる副産物であ
るが、上述した条件を満たしている。さらにGe、Si
酸化物もガラス形成酸化物としては代表的なもので、本
発明にとっても好ましいものである。その他のガラス形
成酸化物、Pb+Bの酸化物なども使用可能であるが、
単独では耐湿性が剰いので上述した酸化物と共存させて
用いることが必要である。また、ガラス形成酸化物では
ないが、ガラス形成酸化物と共存させてガラスを形成す
る酸化物、例えばTi 、 Znなどの酸化物を用いる
ことも任意である。
次にTe Snについて述べる。本発明におけるTe5
nけ、蒸着後の膜組成がTe Snの非晶質として存在
しているのであって、出発原料として、Te Sn合金
を用いることを限定している訳ではない。出発原料とし
てはGo−、’Snの単体を用いて膜組成をTo Sn
の非晶質として形成することも可能であり、またTe
Snの合金を用いることも可能である。
nけ、蒸着後の膜組成がTe Snの非晶質として存在
しているのであって、出発原料として、Te Sn合金
を用いることを限定している訳ではない。出発原料とし
てはGo−、’Snの単体を用いて膜組成をTo Sn
の非晶質として形成することも可能であり、またTe
Snの合金を用いることも可能である。
本発明におけるTe Snは記録膜として部分的に形成
されていればよく、全てがTe Snである必要はない
。蒸着後の薄膜を加熱により結晶化させてX線回折の結
晶を示すピークは、Te、 Sn単独のピークとTe
Snのピークが共存しているような場合もあり他の結晶
ピークがあってもTe Snのピークが存在していれば
本発明の範囲内である。さらに、To Snのピークの
他に、TeGe、あるいは、その他の結晶を示すピーク
が存在しても、本発明にとって必要なのは、部分的にT
e Snのピークが認められることである。To Sn
の非晶質膜は、本質的に高速で結晶化しやすいので、他
の単独、あるいは合金の非晶質が共存していても、Te
Snの高速の結晶化が引き金となシ、TeSnと同様に
結晶化が促進される。しかし絶対量として、ある程度以
上存在していなければならな1い。ところが、Te S
nの非晶質状態を定量化する!ごとは困難であるため、
本発明ではAESによって分析されたTeとSnの割合
、および総爪でもって限定する。そしてTo Snや金
−酸化物の非晶質状態における結合はESCAによって
同定されるものとする。
されていればよく、全てがTe Snである必要はない
。蒸着後の薄膜を加熱により結晶化させてX線回折の結
晶を示すピークは、Te、 Sn単独のピークとTe
Snのピークが共存しているような場合もあり他の結晶
ピークがあってもTe Snのピークが存在していれば
本発明の範囲内である。さらに、To Snのピークの
他に、TeGe、あるいは、その他の結晶を示すピーク
が存在しても、本発明にとって必要なのは、部分的にT
e Snのピークが認められることである。To Sn
の非晶質膜は、本質的に高速で結晶化しやすいので、他
の単独、あるいは合金の非晶質が共存していても、Te
Snの高速の結晶化が引き金となシ、TeSnと同様に
結晶化が促進される。しかし絶対量として、ある程度以
上存在していなければならな1い。ところが、Te S
nの非晶質状態を定量化する!ごとは困難であるため、
本発明ではAESによって分析されたTeとSnの割合
、および総爪でもって限定する。そしてTo Snや金
−酸化物の非晶質状態における結合はESCAによって
同定されるものとする。
」二連したAESによる分析値として、本発明では、膜
組成のTeとSnの原子数比(Te/Sn)の値が0.
6〜6.0の範囲内にあることである。
組成のTeとSnの原子数比(Te/Sn)の値が0.
6〜6.0の範囲内にあることである。
0.6より少ない場合、すなわち、SnがTeに対して
多い場合は、TeSnを構成した残りの単体のSn量が
多くなると、Snは単独でTe Sn以上非晶化しにく
いので、蒸着でSnの結晶が析出してしまい、記録が困
難となる。一方、5.0以上になるとTeがTeSn
に対して多くなり、Tarnの持つ高速応答性よりも、
T、eOxの記録特性、即ち応答性に時間を要するよう
になる。したがってTe/Sn の原子数比は0.5〜
6.0である。
多い場合は、TeSnを構成した残りの単体のSn量が
多くなると、Snは単独でTe Sn以上非晶化しにく
いので、蒸着でSnの結晶が析出してしまい、記録が困
難となる。一方、5.0以上になるとTeがTeSn
に対して多くなり、Tarnの持つ高速応答性よりも、
T、eOxの記録特性、即ち応答性に時間を要するよう
になる。したがってTe/Sn の原子数比は0.5〜
6.0である。
次に膜組成中のTeとSnの原子数の和であるが、これ
は20〜70原子チの範囲内である。
は20〜70原子チの範囲内である。
20原子チより少ない場合、To Snの量が少なくな
シ、光学記録に必要な光学的特性を満足しない。逆に7
0w、子チを超えると共存する金属酸化物の量が少なく
なり、耐湿性が低下する。したがってTeとSnの原子
数多の和は20〜70原子チの範囲内である。
シ、光学記録に必要な光学的特性を満足しない。逆に7
0w、子チを超えると共存する金属酸化物の量が少なく
なり、耐湿性が低下する。したがってTeとSnの原子
数多の和は20〜70原子チの範囲内である。
本発明の記録部材は、以上述べた組成により構成される
が、次に実施例をもって詳述する。
が、次に実施例をもって詳述する。
本発明の光学記録部材は、蒸着法によって樹脂基板上に
蒸着される。蒸着法には、抵抗加熱法と電子ビーム法が
あるが、どちらも使用可能である。
蒸着される。蒸着法には、抵抗加熱法と電子ビーム法が
あるが、どちらも使用可能である。
しかし、蒸着の安定性と量産性からは、電子ビーム法の
方が優れているので以下電子ビーム法を用いた場合につ
いて述べる。
方が優れているので以下電子ビーム法を用いた場合につ
いて述べる。
金属酸化物とToSnの非晶質膜を形成させるために用
いる化合物は、Too 、GaO2。
いる化合物は、Too 、GaO2。
SnO2、Sio2などの酸化物と、金属のGe。
Sn 、 To の混合物を用いる。また電子ビーム法
において二源ソースを用いる場合は、金属酸化物を一つ
にし、他をTeSn の合金もしくはToとSnの粉末
を混合してベレットをつくり、これを蒸着することも可
能である。このような蒸着によって金属酸化物とTeS
nの非晶質膜が得られるが、特性を調整する上でTeS
n にさらにTeを加える場合には、T e O2を一
部還元する作用を有した金属粉末、例えばAI 、Cu
、Znなどを混在させ、所定の温度で熱処理したもの
を用いることも可能である。
において二源ソースを用いる場合は、金属酸化物を一つ
にし、他をTeSn の合金もしくはToとSnの粉末
を混合してベレットをつくり、これを蒸着することも可
能である。このような蒸着によって金属酸化物とTeS
nの非晶質膜が得られるが、特性を調整する上でTeS
n にさらにTeを加える場合には、T e O2を一
部還元する作用を有した金属粉末、例えばAI 、Cu
、Znなどを混在させ、所定の温度で熱処理したもの
を用いることも可能である。
実施例1
出発原料として第1表に示した材料1組成を用い、少量
のアルコールを用いて混合した。
のアルコールを用いて混合した。
粉末269を石英ボートに載せ、電気炉を用いて700
℃でN2ガスを流しながら、2時間焼成した。この焼成
物を粉砕しプレスして成型体を得た。
℃でN2ガスを流しながら、2時間焼成した。この焼成
物を粉砕しプレスして成型体を得た。
蒸着は電子ビーム法により行ない、真空度1×10″5
Torr で蒸着した。基板にはガラス基材(181I
III+×18nanX0.2mm )を用いて行ない
記録部材の膜厚を1200八 とした。
Torr で蒸着した。基板にはガラス基材(181I
III+×18nanX0.2mm )を用いて行ない
記録部材の膜厚を1200八 とした。
上記の方法で得た薄膜のAESによる元素分析の結果は
Te:40原子%、O:32原子チ。
Te:40原子%、O:32原子チ。
Ge:15原子チ、stt:13原子チであった。
この基板を30o℃で30分加熱後、X線回折を行なっ
たところ、TeとToSn の結晶ピークが観察され、
また加熱後は黒化変態が認められた。
たところ、TeとToSn の結晶ピークが観察され、
また加熱後は黒化変態が認められた。
実施例2
二源蒸着が可能な電子ビーム蒸着機を用い、−源にTe
O2,他の蒸着源にTorn合金を用いて蒸着を行なっ
た。なお蒸着速度はT e O2; 15人/秒、Te
Sn : 5へ/秒で、基板は実施例1と同様とした。
O2,他の蒸着源にTorn合金を用いて蒸着を行なっ
た。なお蒸着速度はT e O2; 15人/秒、Te
Sn : 5へ/秒で、基板は実施例1と同様とした。
膜厚は11o〇八とした。上記の方法で得られた薄膜の
AESによる元素分析の結果は、Te−48原子110
:35原子%、Sn:17原子チで、ESCAによる分
析ではTeO2、TeSnのピークが認められた。この
基板を300℃で 。
AESによる元素分析の結果は、Te−48原子110
:35原子%、Sn:17原子チで、ESCAによる分
析ではTeO2、TeSnのピークが認められた。この
基板を300℃で 。
30分加熱後、X線回折を行なったところ、TeSnの
結晶ピークが観察され、また加熱後は黒化変態が認めら
れた。
結晶ピークが観察され、また加熱後は黒化変態が認めら
れた。
実施例3
実施例1において、出発原料をTeO2,Ge。
Sn、Al とし、AES分析による最終組成が第2表
に示すとおシになるように調整した。評価における黒化
状態とは、簡易の半導体レーザパルス(波長:830n
m)をあて、肉眼で記録後の膜の反射率変化を観察した
ものである。表中で○は充分な黒化が認められたもの、
△は黒化するが、充分ではないもの、Xは黒化しないも
のとして評価した結果である。また、耐湿性評価は温度
6C)C。
に示すとおシになるように調整した。評価における黒化
状態とは、簡易の半導体レーザパルス(波長:830n
m)をあて、肉眼で記録後の膜の反射率変化を観察した
ものである。表中で○は充分な黒化が認められたもの、
△は黒化するが、充分ではないもの、Xは黒化しないも
のとして評価した結果である。また、耐湿性評価は温度
6C)C。
相対湿度90%の雰囲気中で行ない、10日口の状態が
顕微鏡観察で何らの変化も認められないものが○で、多
少の変化が認められたものがへ、結晶化して黒い模様が
認められたものを×としだ。
顕微鏡観察で何らの変化も認められないものが○で、多
少の変化が認められたものがへ、結晶化して黒い模様が
認められたものを×としだ。
以下余白
第 2 表
結果からも明らかなように黒化状態、耐湿性とも良好な
ものはTe/Sn の値が0.6〜5.0の範囲内であ
る。
ものはTe/Sn の値が0.6〜5.0の範囲内であ
る。
実施例4
実施例2のTeO2、TeSn の二源蒸着法によって
光学記録部材を作製し、AE3分析による膜組成が第3
表になるよう、M着速度を可変した。
光学記録部材を作製し、AE3分析による膜組成が第3
表になるよう、M着速度を可変した。
結果を第3表に示し、評価方法は実施例2と同様とした
。
。
結果から明らかなように黒化状態、1飼湿性とも良好な
ものはTo−1−8nO値が20〜70I@子グの範囲
内である。
ものはTo−1−8nO値が20〜70I@子グの範囲
内である。
実施例6
150 rpmで回転する厚さ11叫、直径200圏の
円板状アクリル樹脂基材上に、実施例1で用いたペレッ
トで10八/秒の速度で、厚さ12o〇への簿膜を電子
ビーム蒸着で蒸着し、光ディスクを試作した。
円板状アクリル樹脂基材上に、実施例1で用いたペレッ
トで10八/秒の速度で、厚さ12o〇への簿膜を電子
ビーム蒸着で蒸着し、光ディスクを試作した。
このディスクを用い、第1図のような系で記録実験を行
なった。光導体レーザ1を出た光は第ルンズ2によって
疑似平行光2となり第2のレンズ3で丸くし整形した後
、第3図のレンズ4で釘び平行光になり、ハーフミラ−
5を介して第4のレンズ6で、ディスク上に波長限界的
0.8μmの大きさのスポット9に集光される。この円
スポット9によって照射されたディスク8上の記録膜は
黒化変態し記録か行なわれる。ここで半導体レーザを変
調してディスク上に情報信号を記録することができる。
なった。光導体レーザ1を出た光は第ルンズ2によって
疑似平行光2となり第2のレンズ3で丸くし整形した後
、第3図のレンズ4で釘び平行光になり、ハーフミラ−
5を介して第4のレンズ6で、ディスク上に波長限界的
0.8μmの大きさのスポット9に集光される。この円
スポット9によって照射されたディスク8上の記録膜は
黒化変態し記録か行なわれる。ここで半導体レーザを変
調してディスク上に情報信号を記録することができる。
信号の検出は、ディスク面8からの反射光10をハーフ
ミラ−11を介して受け、し/ズ12を通じて光感応ダ
イオード13で行なった。
ミラ−11を介して受け、し/ズ12を通じて光感応ダ
イオード13で行なった。
半導体レーザ光を単一周波数5津で変調し、照射パワー
8mWで180Orpmで回転するディスク面照射した
ところ、記録が行なわれた。スペクトルアナライザーを
用いてC/ Nを測定したところts s dBが得ら
れた。
8mWで180Orpmで回転するディスク面照射した
ところ、記録が行なわれた。スペクトルアナライザーを
用いてC/ Nを測定したところts s dBが得ら
れた。
実施例6
実施例2の二源蒸着において、TeO2の代りにGeO
2、Sio2.5no2を用いて各々二源蒸着を行なっ
た。金属酸化物の蒸着速度は15八/秒である。基板、
蒸着条件t/i実施例5と同様にしてアクリル樹脂基材
に形成した。
2、Sio2.5no2を用いて各々二源蒸着を行なっ
た。金属酸化物の蒸着速度は15八/秒である。基板、
蒸着条件t/i実施例5と同様にしてアクリル樹脂基材
に形成した。
この光ディスクを実施例5と同様の評価装置を用いて評
価したところ、G e O2を用いた場合のC/Nは5
5 dB 18102は53dB、S n O2は50
dBであった。
価したところ、G e O2を用いた場合のC/Nは5
5 dB 18102は53dB、S n O2は50
dBであった。
発明の効果
以上のように、本発明は金属酸化物とTeSnより構成
することを特徴とするもので、非晶質状態がTarn
で構成されているため結晶への変化速度が早く、シかも
高いC/Nが得られるものである。さらに、記録膜のマ
トリックスとして、金属酸化物を用いているので耐湿性
も良好で、実用に適した光学記録膜が得られることを特
徴とするものである。
することを特徴とするもので、非晶質状態がTarn
で構成されているため結晶への変化速度が早く、シかも
高いC/Nが得られるものである。さらに、記録膜のマ
トリックスとして、金属酸化物を用いているので耐湿性
も良好で、実用に適した光学記録膜が得られることを特
徴とするものである。
図は本発明の記録部材で形成した光ディスクに情報信号
を記録・再生する装置の概略図である。 8・・・・・・ディスク、9・・・・・・光のスポット
。
を記録・再生する装置の概略図である。 8・・・・・・ディスク、9・・・・・・光のスポット
。
Claims (4)
- (1)光学的に情報の記録、再生可能な記録部材の記録
前の組成が金属酸化物とTe −Sn系より構成される
カルコゲン化物の非晶質で形成され、記録部の組成の少
なくとも一部がTe Snの結晶で形成されていること
を特徴とする光学記録部材。 - (2)記録前の膜組成のTe とSnの原子数比(Te
/Sn )の値が0.5〜5.0の範囲内であることを
特徴とする特許請求の範囲第り項記載の光学記録部材。 - (3)記録前の膜組成のTeとSnの原子数百分率の和
が20〜70%の範囲内であることを特徴とする特許請
求の範12JJ第1項記載の光学記録部材。 - (4)金属酸化物がTe 、 Sn 、 Ge ’、
Si の酸化物群より選択される一種以上を含むことを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光学記録部材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59074036A JPS60217540A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 光学記録部材 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59074036A JPS60217540A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 光学記録部材 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60217540A true JPS60217540A (ja) | 1985-10-31 |
Family
ID=13535524
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59074036A Pending JPS60217540A (ja) | 1984-04-13 | 1984-04-13 | 光学記録部材 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60217540A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62152786A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-07 | Hitachi Ltd | 相変化記録媒体 |
CN102612763A (zh) * | 2009-09-11 | 2012-07-25 | 国立大学法人东北大学 | 相变化材料及相变化型存储元件 |
-
1984
- 1984-04-13 JP JP59074036A patent/JPS60217540A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62152786A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-07 | Hitachi Ltd | 相変化記録媒体 |
CN102612763A (zh) * | 2009-09-11 | 2012-07-25 | 国立大学法人东北大学 | 相变化材料及相变化型存储元件 |
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