JPS61153272A - 鉱物充填ナイロン表面処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電気めっきの準備工程として鉱物が充填され
たナイロンの部品を前処理する改良された方法に関する
。

自動車の多くの装飾部品に合成プラスチック材料が使用
されておシ、特別な外観上の効果を挙げるため（たとえ
ば、クロムを使用して）合成プラスチック材料を電気め
っきすることがしばしばである。装飾用のクロムめっき
は、当業者にはよく知られているように、銅とニッケル
とクロムを順々に電着させることにより実施されるのが
一般的である。電着層は、屋外での使用や環境テストの
さいにみられるような腐食的な環境や熱サイクリングの
環境のもとでも下層をなすプラスチックの基層に十分に
付着しなければならない。耐久性があシ付着性にすぐれ
た金属の電着層を得るため、基層の表面を調整するかあ
るいは事前処理し、電着層が基層に十分に結合するよう
にしなければならない。

強度上の理由とコスト上の理由から鉱物が充填されたナ
イロンは、自動車のいろいろ多くの利用分野に非常に適
したプラスチック材料である。この明細書で使用されて
いる′°鉱物が充填されたナイロン（以下、ＭＦナイロ
ンと称す）″の用語は、（０，２から２０ミクロンの範
囲に）粉砕された鉱物の充填材、たとえば、タルク、珪
酸カルシウム、シリカ、炭酸カルシウム、アルミナ、酸
化チタン、フェライト、珪酸塩混合物（たとえば、ベン
トナイトまたは軽石）等を包含しためつきブレイドのポ
リアミド樹脂を指している。このようなＭＦナイロンは
鉱物含有量が約４０重量パーセントまでのものを供給す
るいろいろな供給元から商業ベースで入手することがで
き、商品としてはカプロンＣＰＮ１０３０（アライド・
ケミカル社製）、ナイロン５４０−１１０−Ｉ（ＳＰ（
ファイヤストーン社製）、ミンロンＩ　ＩＣ−４０（デ
ュポン？、［）、バイゾーンＲ−２２０またはｋＰ２６
０（モンサンド社製）等を挙げることができる。電気め
っきに使用されるＭＦナイロンを調整あるいは事前処理
するため、いろいろな湿式プロセスが従来すでに提案さ
れている。このような湿式の事前処理プロセスは一連の
化学溶液の中に部品を浸漬するものであるが、このよう
な一連の化学溶液は、電気めっきに必要な電流を導いて
、電着層を部品に係着させる働らきをする薄い被着層金
属ブランケットを電気を使用しないで部品上に析出させ
て終わる。

この湿式プロセスは一般的に言って、クロム酸・硫酸、
トリクロロ酢酸、ギ酸、硫酸・塩酸またはヨウ素−カリ
ウムのヨウ化物溶液等の溶液の中でＭＦナイロンをエッ
チングする工程と、電気を使用しない析出を促進するた
め表面を触媒処理する工程と、表面に銅またはニッケル
を電気を使用しないで析出させる工程を含んでいる。都
合の悪いことに、ＭＦナイロンは吸湿性であるので、こ
のようなプロセスが進行している間、大量の水を吸収す
るが、めっきされた部品が長期間にわたり使用に耐える
ようにするためには（たとえば、高温度におけるペイキ
ングまたはパ焼ならしする″ことにより）吸収された水
を取シ除かなければ々らない。このことは、一連の溶液
を通して部品を処理することと関連して環境、安全性、
制御容易性と非常に長い処理時間に対する考慮等と結び
ついているので、混式プロセスは非常に費用のかかるも
のになっている。特許により保護されている事前処理プ
ロセスは、例えばマクダミラド社、シップレイ社等の会
社より商業的に利用することができる。

本発明の目的は、被着層電着を形成するためにＭＦナイ
ロン成形品を事前処理する比較的迅速に実施可能な乾式
の方法を提供することである。本発明のその他の目的と
特長は、以下の説明より容易に理解していただけよう。

本発明に係るＭＦナイロン成形部品上に被着層の電着を
形成する乾式の事前処理プロセスは、表面をエッチング
して表面に結合される酸素の含有量を増加させるに十分
なガス・プラズマのグロー放電に部品を露出するステッ
プと；結合層として約１０ナノメーター（ｎｍ　）　　
から約１０１００ｎ好適には約５０ｎｍ　）　　の厚さ
をもつクロムまたはチタンをエチングされた部品に眞空
蒸着するステップとニクロムまたはチタンの顕著な酸化
が生じる前に、約１０　ｎｍから約１００’ｎｍ（好適
には約５０　ｎｍ　）　　の厚さをもつニッケルの結合
層を眞空蒸着するステップと；ニッケルの顕著な酸化が
生じる前に、（好適には約８０ｎｍから約１００　ｎｍ
の厚さをもつ）銅をニッケル層に眞空蒸着するステップ
の諸工程から構成されている。プロセスを構成するこれ
らの工程は、眞空状態を破壊したシあるいは工程間で反
応器の中に酸素を流入させることなく同じ脱気された反
応器の中で順々に実施されることが好ましい。上記の事
前処理作業が終了すると、部品は処理チャンバーから堆
りはすされ、たとえば、銅−ニッケルークロムの装飾メ
ッキのごとき後続の電気めっき作業を実施することがで
きるようになる。

一部の点については、本発明に係るプロセスは、（リン
ドセイ等の）米国特許第４，３９５゜３１３号に記載さ
れているプロセスに類似している。両プロセスともプラ
スチック材料を事前処理する乾式プロセスに関するもの
であって、プラズマ眞空蒸着の工程を備えている。

米国特許第４，３９５，３１３号は、アクリロニトリル
・ブタジェン・スチレン（ＡＢＳ）とポリフェニレン・
オキサイド（ｐｐｏ）を以下のように事前処理する。プ
ロセスである。即ち、１０分間までの期間′１．前記材
料を無線周波数（ＲＦ）の酸素プラズマ・グロー放電に
露出させるステップと；プラズマ処理された表面に（好
適には）ニッケル、クロム、チタン、モリブデン、ケイ
素、ジルコニウム、アルミニウムあるいはこれらの金属
材料の合金を眞空蒸着させる段階と；眞空状態を破壊す
ることなく、最初の金属被膜層の上に後続の電気めっき
作業で１次電導層として使用される（たとえば、銅のご
とき）電気めっきが容易な金属の層を蒸着させるステッ
プとの諸工程より成るプロセスを開示している。しかし
、米国特許第４，３９５，３１３号に開示されている上
述のプロセスは、とくに複雑な形状をもったＭＦナイロ
ン成形品上に被着層の電着を行なううえからは非効率的
である。

本発明に使用されるプラズマ・ガスは、（たとえば、ア
ルゴン、ヘリウムのごとく）不活性であることが好まし
く、このガスを低圧で２つの隔置電極間の直流（ＤＣ）
電圧（すなわち、ＤＣプラズマ）あるいは無線周波数の
電界（すなわち、ＲＦプラズマ）にさらして励起される
かあるいは活性化されることが好ましい。不活性なプラ
ズマ・ガスが好ましいが、成形品の表面の品質とプラズ
マ処理パラメーターについて厳しいプロセス制御を行な
うことが可能な場合、酸素や空気を使用してもよい。こ
の点については、不活性ガス・プラズマは酸素を含んで
いるプラズマ・ガスよりもはるかに腐食性が少なく、シ
かも活性な酸素を含むガスよりも低品質に成形された表
面やその他のプロセスに及ぼす影響は少ない。しだがっ
て、不活性ガスは、酸素を含んでいるガスよりもプロセ
スの実施誤差に対して寛容であシ、その結果、広い範囲
のプロセス・パラメーター許容値にわたって付着性にす
ぐれた部品を安定して製造することができる。不活性ガ
スを使用するにせよあるいは酸素を含んだガスを使用す
るにせよ、ＭＦナイロンをプラズマで処理する条件は、
ＡＢＳやｐｐｏを事前処理するために従来推奨されてい
て、米国特許第４，３９５，３１３号に記載されている
ＲＦ酸素プラズマ処理の条件より厳しくない。なお、こ
の米国特許第４，３９５，３１３号に・開示されている
処理によればオーバーエッチングが生じ、ＭＦナイロン
の表面を損ない、その結果、めっき層の剥離強度が低い
ことが指摘されている。ナイロン中には側鎖酸素原子が
豊富に存在しているので、表面の品質を損なうことなく
表面をエッチングするとともに、表面にある酸素を増大
させるために（たとえば、不活性ガスのごとき）温和な
プラズマ処理が効果的である。

ＭＦナイロンを処理するさいに関係のあるエネルギー・
レベルと露出を説明するにあたシ、アルゴン・ガスのＤ
Ｃプラズマが約Ｅ／Ｐ＝　２　ｖｏｌｔ／ｃｍＰａより
も大きいエネルギー・レベルを備′えていなければなら
ないことが明らかにされている。ここで、Ｅはシステム
の陽極と陰極間の距離に対する印加電圧の比（すなわち
、ｖｏｌｔ／ｃＷＬ）であシ、Ｐはパスカルで表わした
チャンバー圧力である。ガス圧は連続したグローを持続
するに十分なレベルに設定されなければならず、また部
品の溶融を防ぐため電極は十分なへだたシをもって隔置
されていなければならない。最適のＥ　／　Ｐ比は反応
器ごとに若干変化することはもちろんの仁とであるが、
２　ｖｏ　ｌ　ｔ　／ｃＢＰＱの値は調節を始めるにあ
たシ都合のよい出発点であると考えられる。この点につ
いては、ワット数が１ｏ。

をトル（ｔｏｒｒ　）　　で表わしたチャンバー圧力の
３倍で割算した値に等しい場合、ブランソン／ＩＰＣ自
動低温度アッシャ−型４００３−２４８ＲＦプラズマ・
ユニット（Ｂｒａｎｓｏｎ／　Ｉ　Ｐ　Ｃａｕｔｏｍａ
ｔｉｃ　ｌｏｗ　ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ　ａｓｈｅｒ
Ｍｏｄｅｌ　４００３−２４８　ＲＦ　ｐｌａｓｍａ　
ｕｎｉｔ　）がアルゴンを使用して非常にぐあいよく動
作することが明らかにされている。したがって、もしガ
ス圧が１．０トルの場合、約３３．３ワツトが４００３
−２４８型ユニツトにとってもつとも好都合であろう。

パプラズマ処理時間は入力エネルギーとプ・ラズマ・ガ
スの活性度と逆比例して変化する。したがって、プラズ
マ処理時間は、試験装置で測定したところ、ＤＣアルゴ
ン・プラズマとＲＦアルゴン・プラズマ（すなわち、比
較的温度なプラズマ）を使用した処理では、それぞれ約
６分間と５分間を必要としたのに比べＲＦ酸素プラズマ
（すなわち、活性度の高いプラズマ）中では非常に短い
（たとえば、約１分間から２分間まで）。

ＤＣ酸素プラズマ処理とＲＦまたはＤＣ空気プラズマ処
理の場合、上記の両極値の間にはいることになる。アル
ゴン処理の場合、剥離強度はゆつくシと上昇し、それぞ
れ５分間と６分間の処理時間後に平均化する。アルゴン
を使用した場合、約１０分までの処理時間については剥
離強度の顕著な増加または減少は観察されなかった。一
方、ＲＦ酸素プラズマ処理の場合、最大剥離強度は前記
１分間から２分間の枠内でピークとなり、その後、酸素
プラズマの強烈な侵食作用をうけて部品の表面品質が低
下するにしたがって低下した。

本発明の主たる着目点は、（好適には）クロムとチタン
が他のほとんどの金属よりもナイロンの表面上にある酸
素と化学的に結合する親和力がはるかに大きいことと、
この性質がＭＦナナイロン上被着層の電着を達成するた
めの結合層に必要であるという事実にある。

逆に、米国特許第４，３９５，３１３号に開示されてい
るように、プラズマ処理されたＭＦナイロン表面に結合
層としてニッケルを使用することがところみられている
が、結果は非被着性層の電着が得られたにすぎない。都
合の悪いことに、クロムとチタンの結合層自身、容易に
酸化されるので、前記結合層へ電着される後続の金属層
が剥離してしまう。したがって、本発明の別の主要な特
徴によれば、ならびに眞空下で銅を蒸着させたあとの処
理の間も結合層の皮膜を酸化の影響から遮断し、さもな
ければ酸化の影響から保護するため、クロムまたはチタ
ンの結合層の上にニッケルの皮膜を蒸着させ、これによ
り後続の蒸着層の蒸着を確実なものにすることができる
。

本発明のプラズマ処理がＭＦナイロンに対して効果があ
るが、米国特許第４，３９５，３１３号で推奨されてい
る処理が効果がない理由は、（若干の不確かさはあるが
）次のようにうまく説明することができる。ＭＦナイロ
ンから部品を射出成形すると、ナイロン・リッチな薄い
表皮が部品の表面上に形成される。複雑な形状を呈して
いる部品の場合、表皮の厚さは変動し、部品上のいろい
ろな位置に現われる応力のレベルはその成形の履歴にお
けるいろいろなファクターにより左右される。ナイロン
・リッチな表皮とは、表皮の下にある鉱物充填材の含有
率が部品の残シの部分より大幅に少ないナイロンの薄い
表面を意味している。このナイロン・リッチな薄膜は、
被着層の確実な電着を得るためプラズマ処理工程の間、
保持されていなければならない。米国特許第４，３９５
，３１３号により推奨されているようなＲＦ酸素プラズ
マ・エッチング処理は、プロセスの有効制御期間の間に
ＭＦナイロンの表面を非常に強烈にエッチングする（す
なわち、とくに薄い領域ではナイロン・リッチな皮層を
非常に破壊してしまう）。したがって、ＲＦ酸素プラズ
マ・エッチング処理は成形体の表面の品質に非常に鋭敏
である。上述の事実を説明する他の見解は、米国特許第
４，３９５゜３１３号に推奨されている手法によると表
面が非常に強く腐食される結果、表面ナイロンの比較的
厚い層が酸化されて揮発性低級炭化水素になシ、このた
め非揮発性の無機充填材を表面に残しだ状態にするとい
うものである。

腐食性の強いプラズマは非常に容易に表面をオーバーエ
ッチングするので、表面の鉱物充填材の含有量が増加す
る。表面上にある充填材の量が増加することは、クロム
／チタンの結合薄膜に結合するナイロンの能力を妨たげ
る傾向があシ、その結果、成形品は不均一で、部分的で
、弱い被着層を持つ部品となってしまう。したがって、
本発明に従がって処理さく１６） れる部品は、米国特許第４，３９５，３１３号に開示し
ているものよりずっと温和なプラズマ処理をうけてエッ
チングされ、結合される酸素を増して、表面の鉱物含有
量が蒸着に悪影響を及ぼすレベルまで増えるのを避ける
ことができる。

上述のように、ニッケルのような結合層金属は、ＡＢＳ
＋ＰＰＯに結合する場合はど容易にＭＦナイロンに化学
的に結合しない。むしろクロムとチタンだけがＭＦナイ
ロンへの結合層として効果的である。ナイロンの結合酸
素に対するクロムとチタンの親和力が強いため、これら
の金属がニッケルのような他の多くの金属が結合できな
いような表面に化学的に結合することができる。しかし
、クロムとチタンはナイロンの結合酸素に対する親和力
が非常に強いが、これらの金属は、又蒸着金属の付着状
態を弱める大気中の酸素に露出されたとき、酸化する傾
向が大きい。この点については、保護されていない結合
層が酸化すると、非被着性層の電着が形成されることが
試験データーにより示されておシ、この酸化は眞空下で
の銅の蒸着処理中、又は銅の蒸着後にも起こり得る。そ
こでクロムまたはチタンの結合層を遮蔽するか、さもな
ければ結合層の酸化（即ち、眞空下での銅の蒸着の前後
に）を防止することが必要であることが明らかにされて
いる。したがって、クロムの酸化が生じるまえに結合層
の頂部に前記のニッケル薄膜が蒸着される。このニッケ
ルの蒸着工程は、工程間で眞空を破壊することなく、結
合層を蒸着させるために使用されるものと同じ蒸着チャ
ンバーを使用することにより、結合層を蒸着させる工程
の直後に実施されるのかもつとも都合がよくかつ好まし
い。

しかし、ニッケルの薄膜でも酸化にはかなシ敏感である
ので、被着層の電着を確保するには、処理の間、前記ニ
ッケルの薄膜は酸化から保護されなければならない。し
たがって、ニッケルを酸化から保護するとともに、後続
の電気めっき工程にあわせて高導電性の表面を用意する
ため、酸化が生じる前にニッケルの頂面上に銅の上部薄
膜が蒸着される。ここで、銅の蒸着量はニッケルを被っ
て、部品の表面上にほぼ均一に電気めっき電流を通電さ
せるに十分である限り限度はない。したがって、小さい
部品については１０ｎｍ程度の薄さの銅の薄膜を採用す
ることができるが、もつと大きくて複雑な部品について
は上記よりもはるかに大きい厚さが必要である。一般的
には、銅の厚さは約８０　ｎｍから約１１００ｎまでの
範囲にあることが好ましい。もし、必要な場合、１１０
０ｎ　　より大きい厚さを使用してもよいが、よりすぐ
れた付着性をもたらすものではなく、所定のプロセスを
実施するに要する費用と時間がかさむだけにすぎない。

ニッケルを蒸着させる工程の場合と同様、（クロム／チ
タンを）結合層及びとともに、にニッケルの）遮蔽層薄
膜の蒸着に使用されるのと同じ蒸着チャンバーの中でニ
ッケルを蒸着さく１９） せたあと眞空状態を破壊することなく、銅を沈着させる
工程を実施することが好ましい。

上述の説明より明らかなように、結合層もニッケルの薄
膜も引き続き被覆されるにニッケルと銅の）コーティン
グにより被覆される前に、かなシの酸素圧、とくに大気
圧に露出させてはならない。他方、結合層を蒸着させる
前に、プラズマ処理された表面を酸素（たとえば、大気
）に露出させることはおそらく重大なことではないであ
ろう。それにもかかわらず、眞空状態を破壊することな
く、グロー放電処理のあとただちに結合層を沈着させる
ととはもつとも望ましくかつ都合のよいことである。な
ぜなら、こうすることによりプラズマ処理された表面の
汚染を最小程度に抑えるとともに、全処理時間を短縮す
ることができるからである。

（試験例） 上述した市販のめつきブレイドのＭＦナイロン何個かに
ついて多くの試験が行なわれた。

これらの試験に使用された反応器は単一の眞空チャンバ
ーを備えておシ、この眞空チャンバーでは眞空状態を破
壊することなく又は前処理中に部品を酸素にさらすこと
なくすべての眞空前処理の工程を実施することが可能で
ある。さらに詳しく言えば、（プラズマ処理に使用され
る）パリアン直流、（ＤＣ）グロー放電用電源９８０−
１２００型と、（何回かの眞空蒸着作業に使用される）
５個のるつぼ形電子ビームガンと、薄膜厚さモニターと
を備えたバリアン眞空ベル・ジャー・システムＮＲＣ−
３１１７型の中に取シ付けられた試験パネル上で前処理
が行なわれた。ベル・ジャーの直径は４６ｃｆｎ、高さ
は７６ｃｍであった。眞空チャンバーはパネル・ホルダ
ー並びにサポートと陰極用リング電極と適尚な遮蔽体を
含んでいる。リング電極は６．３５ｍ径のステンレスス
チール製チューブから作られておシ、２４ｃＢの直径と
２７０ｃｄの表面積を有しておシ、パネル・ホルダーの
下１５ｃｒｎの位置に配置された。チューブの開放端を
はさみつぶすことにより閉じ、局部的に大きいプラズマ
電流が集中するのを減らした。サポートは接地されて、
他方の電極として使用された。

ガスがチャンバーの頂部からチャンバーの底にある眞空
ボンプロに向かって流下するようチャンバーへのガス導
入ラインが設けられている。試験の実施ごとにパネル・
ホルダーの上に何枚かのパネルが取シ付けられた。この
特殊な反応器の有効な使用条件は次の通りである。ガス
の流量、５０から１００ｃｃ／＝；チャンバーの圧力、
４０Ｐａから６７　Ｐａ（０，３から０５トル）；処理
時間、使用されるガスとプラズマ（すなわち、発生する
ＤＣまたはＲＦプラズマ）によって１分間から１０分間
。ＤＣアルゴン・プラズマ処理の場合の最適条件は、ア
ルゴンの流量が１００ＣＣ／＃ＩＩＩ＋１チヤンバー圧
力が約６７Ｐａ、直流電圧が約１０００ボルト、露出時
間が約６分であった。プラズマ処理の最初の１分間では
、リング電極は、グロー放電の電流−電圧特性を変えな
がら昇温した。したがって、パワー出力をモニターして
、所要電圧を一定に維持することが必要であった。

使用された特定の手法の１つによれば、パネル・ホルダ
ーは被処理表面が電子ビームるつぼ（金属源）に下向き
になって面するよう眞空チャンバーの中に設けられてい
る。チャンバーは０．９ｍＰａ以下の圧力に脱気された
。

プラズマ前処理を行なうため、チャンバー圧力を６７Ｐ
ａに維持しながら、１００ｃｃ／ｆｒｒｒｎの流量でア
ルゴンがチャンバーを貫流するよう調節された。電源を
入れて放電を始めた。

プラズマは、６分間、１０００Ｖに維持された。プラズ
マ処理が終了したあと、アルゴンの流れが中断された。

眞空蒸着の工程を実施するため、眞空状態を破壊するこ
となく２．０ｍＰａの圧力までチャンバーが脱気された
。

この圧力を保ちながらるつぼの中に収容されている金属
を溶かすため電子ビームが使用さく２３） れた。まず、厚さ１００　ｎｍのクロムが蒸着された。

クロムの蒸着層の厚さはクォーツ・クリスタルディジタ
ル厚さモニターを使用して測定された。所要の厚さくす
なわち、約１０１００ｎに達したことをモニターが示し
たとき、電子ビームの通電が止まシ、クロムの蒸着を停
止した。次に蒸着させるべき金属を電子ビームの焦点に
あわせるようるつぼの位置を切シ換えたあと、同じ手順
が繰シ返えされた。このようにして、ニッケルと銅それ
ぞれについて１００　ｎｍの厚さのものが連続的に蒸着
された。

いったんニッケルの薄膜の上に銅の薄膜が付着すると、
眞空を解消することができる。

眞空蒸着された表面が大気に露出され、チャンバーより
部品が取シ出される。部品上の銅の薄膜と相容性がある
限シ、いかなるめっきシステムによっても部品を電気め
っきすることができる。（付着強度の尺度である）ジャ
ケット剥離試験のため、５０μｍの均一な厚さが得られ
るまで添加物のない酸と銅の溶液（すなわち、Ｈ２Ｓ０
４４５から６０　？／ｌ。

Ｃｕ　ＳＯ４・５　Ｈ２Ｏ１８０から２４０９／Ｌ）の
中でパネルが電気めっきされた。このようにして試験さ
れた部品は、約１．７５　Ｎ７ｃｍ　（３つのサンプル
だけ）の低レベルのものから約１７、５　Ｎ７ｃｍ　（
１つのサンプル）の高レベルのものまでにまだがり、平
均（６５個以上のサンプル）が８　Ｎ　／　ｃｍ以上と
なる剥離強度を示した。はとんどの場合、金属とナイロ
ン間の付着強度はナイロンの結合強度を越えておシ、剥
離現象は実際には金属の結合層よりもむしろその下にあ
るＭＦナイロンの破壊を示すものであった。

どの基質についても電気めっきの品質は本発明のプロセ
スに従って前処理された部品の（いろいろな条件のもと
ての）実際の使用寿命を決定するものである。めっきシ
ステムの選択は本発明の一部分をなすものでないことは
もちろんのことであるが、使用される部品の性能に影響
を及ぼす。そこで、いろいろな方法でめっきされた部品
について若干の補足的な試験が行なわれた。これらの試
験のため、前処理された表面が光沢銅と、半光沢ニッケ
ルと、光沢ニッケルと、光沢クロム・プレートより成る
Ｃｕ　−Ｎｉ　−Ｃｒ　　の装飾めっきシステムで仕上
げめっきされた。他のサンプルとして上記のデュアル・
ニッケル層の代わりに半光沢ニッケルと光沢ニッケルと
高耐久性ニッケル（Ｄｕｒ　−Ｎｉ　　ニッケル）より
成る（銅とクロムとの間の）トリ・ニッケル中間層を使
用して電気めっきした。デュアル・ニッケル・システム
を使用して装飾めっきされたパネルは不具合なく５年以
上の期間に担当する熱サイクル試験をパスしたが、腐食
試験ではキャス試験（ＣＡＳＳ　）　　と電気化学的腐
食試験では１年に満たないほどの悪い結果であった。

トリ・ニッケル・システムでは試験でパスすることがで
きる表面の外観を保持し腐食による付着のはがれ々゛シ
にパネルは５年間に相当する電気化学的腐食試験をパス
し改良された腐食抵抗が得られた。

この明細書に示されている実例はクロム／チタンとニッ
ケルと銅の薄膜を電子ビームを用いた蒸発により眞空蒸
着することを開示しているが、たとえば、電気抵抗フィ
ラメント加熱蒸発、誘導加熱蒸発、スパッタリング、イ
オンめっきのごときその他の通常に採用されている眞空
蒸発プロセスのどれをも使用することができる。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. （１）鉱物が充填された成形ナイロンの表面をまずプラ
   ズマ・グロー放電によりエッチン グし、しかるのち前記表面上に金属の層を 順次蒸着させるようにした電気めつき用鉱 物充填ナイロン表面処理方法であつて、該 方法が、鉱物の含有量を増大させることな く前記表面をエッチングし該表面の結合酸 素の含有量を増大させるよう前記表面をプ ラズマ・グロー放電に露出させるステップ と；前記エッチングされて酸素リッチとな つた表面上にクロムとチタンより成るグル ープから選択された結合金属の薄膜を眞空 蒸着するステップと；前記結合金属の顕著 な酸化が生じる前に前記結合金属上にニッ ケルの薄膜を眞空蒸着して、前記ニッケル 膜が後続の眞空蒸着ステップの前後で前記 結合金属が酸化することを大幅に防止する ように作用させるステップと；前記ニッケ ルの顕著な酸化が生じる前に、前記ニッケ ル上に銅の薄膜を眞空蒸着して前記ニッケ ルの酸化を実質的に防止し、後続の電気め つき作業のために被覆表面の電導性を高め るステップとより成ることを特徴とする鉱 物充填ナイロン表面処理方法。
2. （２）被着体の電着を受けるための特許請求の範囲第１
   項に記載の鉱物充填ナイロン表面 処理方法であつて、前記プラズマ・グロー 放電が、前記表面をエッチングし、該表面 の結合酸素を増加させるに十分なレベルの 不活性ガスプラズマ・グロー放電であるこ とと、前記結合金属の薄膜が前記エッチン グされて酸素リッチになつた表面上に眞空 蒸着されたクロムの薄膜であることを特徴 とする鉱物充填ナイロン表面処理方法。
3. （３）特許請求の範囲第１項または第２項記載の鉱物充
   填成形ナイロン表面処理方法であ つて、ニッケルの薄膜は結合金属を蒸着さ せるステップから眞空状態を破壊すること なく前記結合金属上に眞空蒸着され、銅の 薄膜はニッケルを蒸着させるステップから 眞空状態を破壊することなく前記ニッケル の薄膜上に眞空蒸着されることを特徴とす る鉱物充填ナイロン表面処理方法。
4. （４）特許請求の範囲第１項に記載の鉱物充填成形ナイ
   ロン表面処理方法であつて、少な くとも２ｖｏｌｔ／ｃｍＰａのＥ／Ｐエネルギー・レベ
   ル（ここで、Ｅがグロー放電の陽極と 陰極間の距離に対する印加電圧の比であり、Ｐがパスカ
   ル（Ｐａ）で表わした圧力であ る）で少なくとも６分間に相当するアルゴ ン・ガスプラズマ・グロー放電にナイロン 表面を露出させるステップと；前記プラズ マ処理された表面上に５０ｎｍから１００ ｎｍまでの厚さのクロムを眞空蒸着するス テップと；該クロム上に５０から１００ｎｍのニッケル
   を眞空蒸着するステップと；該 ニッケル上に少なくとも８０ｎｍの銅を眞 空蒸着するステップとの諸工程が、表面上 にたえず眞空状態が維持されている状態で 実施されることを特徴とする鉱物充填ナイ ロン表面処理方法。