JPS61151017A - シラン化合物の連続的製造法 - Google Patents

シラン化合物の連続的製造法

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JPS61151017A
JPS61151017A JP27194084A JP27194084A JPS61151017A JP S61151017 A JPS61151017 A JP S61151017A JP 27194084 A JP27194084 A JP 27194084A JP 27194084 A JP27194084 A JP 27194084A JP S61151017 A JPS61151017 A JP S61151017A
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Akira Miyai
明 宮井
Shinsei Sato
佐藤 新世
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 不発BAは、金属硅素粉末を流動床反応塔に工ってトリ
クロル7ランt−曾成し、得られたトリ/ Ok ’/
シランら不均斉化反応に工りノクロルシラン、モノクロ
ルシラン、モノ7ラン等のシラン化曾物を連続的に取得
する7ラン化せ吻の連続的製造法に関する。
例えば、本発明に係るモノ7ラン+a偕すA反応式は次
のように表わすことができる。
3&<α4 + S4 + 2H2→4&Hα。
4.1act、  →&ハ、+3館。
トリクロルシランの不均斉化反応で一生する四塩化硅素
は、前工程のトリクロルシラン甘成反応工程で9#壌さ
ルる。全工程で、リーク等にエリジクロル7ラン、トリ
クロルシランあるいは゛四塩化硅素等の塩素化硅素のロ
ス分に相当する塩素分は、塩化水素あるいは四塩化硅素
としてトリクロル7ラン曾成反応工程に補給される。
ジクロルシラン、モノクロルシラン及ヒモノシラン4は
半導体や太陽電池等の素子に便用される高純度ノリコン
の原料として益々需要の増加が見込まれており、特にジ
クロル7ラン及びモノシランを大量に効率工く製造する
ことが要望さnている。
(従来の技術) 従来から、クロルシラン類の不均斉化反応は公知であり
、その触媒については徳々提案さiしている。例えば、
第3級アミン又v′i44級アンモニウムをよむ網目状
陰イオン交換樹脂、Nメチル2ピロリドン、メチルイミ
ダゾール、テトラメチル尿素、ゾメチルンアナミド、テ
トラメチルグアニジン、トリメチルシリルイミダゾール
、ベンゾチアゾール、NNツメチルアセトアミド等がめ
げらルる。これらの触媒とトリクロルシランとを接触さ
せると、次の(1)式、(2)式及び(3)式の不均斉
化反応式に従ってジクロル7ラン、モノクロルシラン及
びモノシランが生成スる。
2stHCts −+ 、!H,(?/、+ 、Yα4
(1)25iHt Clt  →SLHs(j + 5
iHC1s   (2)2 stHscl  →Si、
H4+ SLHt 偽(3)この工うにして塩素原子の
多い原料水素化塩化硅素から塩素原子の少ないシラン化
会物を取得することができる。
さらに詳しく説明すると、例えば、触媒として433級
アミン含む陰イオン交換樹脂を充填し友固定床弐の反応
塔において、反応温If30〜200℃、圧力1〜30
気圧の条件ドで一方の供給ロエリ原料トリクロルシラン
金供給すると、他方の排出ロエクモノシラン、モノクロ
ルシラン、ジクロルシラン、トリクロルシラン及び四塩
化硅素からなる反応生成物が得らnる。
しかし前記不均斉化反応式(1)、伐)及び(3)式は
平衡反応であるので、例え反応時間を大きくとり九とし
ても原料トリクロルシランの反応率は約10%、モノ7
ラン生成率は約1%と極めて小さい。従って、工業的に
製造するには反応生成物を蒸留分離し、それを循環使用
する際に、反応塔および蒸留塔の運転に多大なエネルギ
ーを必要とする欠点が6つ7t、J (発明が解決し工つとする問題点) 本発明は、以上の欠点を解決し、トリクロル7ランの原
料生産からトリクロル7ランエリも水素原子の多い高純
度シラン化合物の取得までの工程を連続比しtプロセス
を開発したものである。
(問題点を解決するための手段) すなわち、本発明は、次の第1〜3工程からなる7ラン
化曾物の連続的製造法である。
第1工根: 金属硅素粉末を充填してなる流動床反応塔に四塩化硅素
と水素の混会ガスを供給してトリクロル7ラン全会成す
る工程。
第2工橿: 下記一般式で示さnる渠3級力旨肪族炭化水累置換アば
ンと塩化水素との混合物又は反応生成物からなる不均斉
化触媒を存在させてなり蒸留機能を有する第1反応塔に
、第1工程で得られ定トリクロルシランを供給し、不均
斉化反応と蒸留を行わせながら塔頂成分を取得する工程
第3工4= 下記一般式で示される$3級脂肪族炭化水素置換アミン
と塩化水系との混合物又は反応生成物からなる不均斉化
触媒を存在させてなり蒸留機能?有する第2反応塔に、
第1反応塔で取得されt塔頂成分を供給し、不均斉化反
応と蒸留を行わせながら塔頂成分を収得rる工程。
(43級脂肪族炭化水素11換アミンの一般式)。、/ (但し、式中RいR,、R,は脂肪族炭化水素基、その
RいR2及びR1の炭素数の刈が10以上であり、しか
もその’I 、”t 、R3は゛そルぞれ同種又は異種
のものである。) 一以下さらに本発明tl−詳しく説明する。
本発明の反応工程ハ、トリクロルシラン会成反応(第1
工橿ンと生成したトリクロルシランの不均斉化反応(第
2二1とジクロルシランの不均斉化反応(第3工程)か
ら成り立っているうこの反応式は、でれぞれ、(4)、
+5)、(6)式で表わせる。
3.5;シ(二e、  + 2H,+st  −>  
4.1HCJ、       (4ン6ScHα、→3
&H2偽+3&α4(5)3SjH2C/2 →&H4
+  2StHCt3    (6)ここで、トリクロ
ル7ランの不均斉化反応で副生ずる四塩化硅素は、41
工程のトリクロル7ラン甘成反応に循環し、ジクロルシ
ランの不均斉化反応でC副生rるトリクロル/う/ハ第
2工程のトリクロル/ランの不均斉化反応に循環するの
で、全工程全表わす反応式μ(7)で表わさrL6..
1 84 +2H2→Sj、H,(7) 以下、第1工程、第2工程、第3工程の順に、さらに詳
しく説明する。
41工楊のトリクミル/ラン甘酸反応は、原料の金属硅
素粉末を充填【−を流動床反応塔に四塩化硅素と水素の
混合がスを供給することに工って行われる。
さらに説明すると、流動床反応塔には、粒子径10〜1
,000μの雀、礪硅素粉末が充填されて素の混せfス
を吹込み反応させるつ触媒としては、鋼又は塩化鋼を使
用し、反応温度300〜800℃、圧力o −,1o 
o ky/cr/lG、反応器内に充填さtした金属硼
素粒と反応原料ガスとの接触時間は10〜100秒で行
われる。反応で得らnfc生成ガスを冷却すルば、トリ
クロルシフ2フ20〜30 ンと未反応四塩化硅素のa.ea液が得られる。
トリクロルクランと未反応四塩化硅素の混曾尋液は、蒸
留塔でトリクロルシランを分離して第2工程に供給され
る。なお分離され九四塩化硅素はトリクロルシラン曾成
反応に再使用される。
第2工程は、第1反応塔にトリクロルシランを供給し不
均斉化反応と蒸留を同時に行わせ、塔頂からはトリクロ
ルシランエリも水素原子の多いジクロルシランを主成分
とする水素化塩化硅素を取得する一方、塔底からは未反
応トリクロル7ラン、四塩化硅素及び触媒の混合物を抜
き取る工程であろう 幻 触媒としては、前記一般式で表かせる第3級脂肪族炭化
水素置換アミンと塩化水素との混曾物又は反応生成物全
使用する。この工うな触媒は、7ラン比曾物の不均斉化
反応速度を大とし、かつ、従来の触媒の工うに,  7
ラン化8物と反応して系内金詰らせることも少ない,前
記一般式で示される第3級脂肪族炭化水素置換アミンを
塩化水素の割付は、前者98〜20モル%に対し後者2
〜80モル%とするのが望ましい。
使用量はシラン1ヒ曾物に対して2〜50モル%程度で
ある。以上の触媒については、′#鵬昭59ー6748
8号明細蓄に詳述さ1ているう第1反応塔は、蒸留塔形
式であり、例えば、7−ブトレイやバブルキャップトレ
イ等で仕切られた段塔、めるいはラシヒリングやポール
リング等の充填物を充填し之充填塔である。これら蒸留
機能を有する反応塔であnばどんな構造のものでもよい
が、本発明に係わるシラ/化曾物の不均斉化反応が液相
反応であるので、液ホールドアツプの大きい反応塔が好
ましい。
反応@度は20〜300℃の範囲で行われる。
20℃未満では反応速度が低く不均斉化反応が実質的に
通行せず、ま7t300C1こえると第3級脂肪族炭化
水素置換アミンの熱分解が生じ易くなり好ましくない、
、なお、本反応は沸騰状態で操作さルるので上記反応温
度に保つためにはカロ圧する必要があり、r−ノ圧力で
O〜40ゆ/dG橿度となる。
第1反応塔の塔頂からは、ジクロルノラン金主成分とす
る水素化塩化硅素が侍らnる。一方、塔底からは、未反
応トリクロルシラン、四塩化硅素及び触媒を含む混合物
が抜き取らn1蒸発器で触媒が分離さnる。分離さt″
L7を触媒は、第1反応塔頂部に循環される。未反応ト
リクロル7ラン及び四塩化硅素等のシラン化曾物はトリ
クロルシラン蒸留塔でトリクロルシランと四塩化硅素に
分離さnl トリクロルシラ/は第1反応塔に循環され
、四塩化硅素はトリクロルシラン曾成反応に循環される
第3工程は、第1反応塔の塔頂工9取得され之ジクロル
シラン金主成分とする水素化塩化硅素を@2反応塔に供
給し、不均斉化反応と蒸留を行わせ、塔頂成分として、
モノ7ランを主成分とする7ラン化曾*t−取得する一
万、4底からは、未反応ジクロルシラン、1IIlj生
したトリクロルシラン等の水素化塩化硅素と触媒を含む
混合物を抜き取る工程でろ6つ 触媒と第2反ル64の形式については、前述したものが
使用さnる7反応源Ifは20〜300℃の範囲で行わ
nる。
第2反応塔の塔頂からはモノ7ランを主成分とする7ラ
ン化会物が連続的に取得される。一方、塔底からは、未
反応ジクロル7ラン及び副生じたトリクロルシラン、モ
ノクロルシラン金倉む水素化塩化硅素と触媒の混合物が
抜き取られるが、それらは蒸留塔で分離され、触媒ri
第2反応塔頂部に、また、ジクロル7ラン及びトリクロ
ルシラン等の水素化塩化硅素は第1反応塔にそ1ぞれ、
循環されるう なお、第1反応塔l9得らf′L九ノジノクロルブラン
成分とする水素化塩化硅素を直接第2反応塔に供給せず
、中間に未反応トリクロル7ランを分離する蒸留塔を設
置し、トリクロルシランを除去してから供1&fること
もできる。。
以ド、図面に従ってさらに説明するう 図面は、不発明の実施例の製造工程を説明する!ロック
図である。
硅素含量98.5重1%の金属硅素を粉砕して粒子径1
00〜1.000μの粉末としそn、を配管10ニジト
リクロル7ラン甘成塔1に供給する。
トリタロルアラン曾成塔1rt1内径3051111゜
高さ4.000+111、材質インコロイ800の流動
床反応塔で下部にガス分散板を付滞しており、ま九、外
部ヒーターにニジ加熱小米る工うになっている。四塩化
硅素と水素の原料ガスは、配管16エりトリクロルシラ
ン回収器1の下部より分散板を通して金属硅素中に吹き
込まれ、反応温度300〜800℃、圧力0〜100に
9/cdG程度にして運転すると金属硅素と接触反応し
てトリクロルシランガス等が生成する。
このトリクロルシラン及び未反応四塩化硅素と水素を含
む反応生成ガスは、反応塔上部の配管13J:り取り出
され、トリクロルシラン回収器2に送らルる。トリクロ
ルシラン回収器2ri、伝熱面積2dのステンレス製コ
ンf 7t −2fjから構成されて分り、1段目は2
0℃の冷水、2段目は一20℃のエチレングリコール信
媒で冷却出来る工うに々つている。反応生成ガスに含量
れるトリクロルシラン及び未反応四塩化硅素は凝縮し、
液状混合物として配管17zり回収される。一方、未凝
縮がスである水素は配管14ニジ四塩化硅素蒸発a3に
送らnる。
四塩化硅素蒸発器3は、伝熱面i1m”のステンレス製
蒸発器からなり、そのジャケットには温水が循環さ1て
お9、加温出来る工うになっている。そして、下部より
水素を吹き込むと、四塩化硅素は蒸発し、四塩化硅素と
水素の混曾ガスが得らする工うになっている。この四塩
化硅素と水素との振付比は四塩化硅素蒸発430ツヤケ
ント諷度を調節することにエリ変えることが出来る。こ
の振付ガスに、水素を配管12工り補給し、さらに塩化
水素ガス金配管11工り補給して配管16エリトリクロ
ル7ラン甘成塔1に循環される。
トリクロルレフラフ回収器2工り回収さルtトリクロル
ノランと四塩化硅素の1甘浴液は配管11、J:リトリ
クロルノラノ蒸留塔4に供給さ江るつ トリクロル7ラ
ン蒸留塔4は、段数40段のシープトレイ塔で、塔頂工
りトリクロルシランが回収さル、塔底工り四塩化硅素が
分離回収される。この回収四塩化硅素は配管19工リ四
塩化硅素蒸発器3に戻される。トリクロルシラン蒸留塔
4の塔頂から得られ之トリクロルシランは配管18より
第1反応塔5に供給される。
第1反応塔5は、径5インチ、段数12段の7−ブトレ
イ塔で、塔の中央部にトリクロルシランが供給さル、塔
頂ニジ触媒が配管22により循環さルるつ 第1反応塔5では、不均斉化反応と蒸留による分離が同
時に起こり、不均斉化反応で生じ九ノクロルノラン等の
低沸点成分は、塔頂工9取得され、配管20に工す第2
反応塔7に供給さルる。一方、不均斉化反応で副生じ九
四塩化硅素及び未反応トリクロル7ランは塔底に移行し
、塔底に付設さnたり?イラーエり触媒と共に配管21
工リ触媒分離器6に抜@取られる。
触媒分離器6ば、ジャケット金付滞した攪拌槽であり、
ノヤケノトはスチームで加温出来るようになっている。
トリクロル7ラン及び四項化硅素は蒸発し、配管23工
9トリクロル7ラン蒸留塔4に循環される。−万、分離
さJ’llt触媒は配管22工り再び第1反応塔5の塔
頂に循環される。
dX1反応塔5の塔頂からは、ノクロルシランを主成分
とする7ラン化曾物が取得され、配管20により第2反
応塔7に供給さnる。
Wc2反応塔7は、径4インチ、段数10段のシープト
レイ塔であり、配管26エり触媒が循環さルる。、@2
反応塔でも不均斉化反応と蒸留による分離が同時に起こ
り、不均斉化反応で生じ之モノ7ランを主成分とする7
ラン化曾物は塔頂工り取得され、副生じたトリクロル7
ラン及び未反応ジクロル7ランは塔底工り触媒と共に配
管25工り触媒分離器8に抜!!収られる。
触媒分離器8でジクロル7ラン及びトリクロルシランは
蒸発し配管29工リ@1反応塔5に循環される。
第2反応47の塔頂から得られ九モノシラン専の低沸点
成分は配f24工りモノ7ラン蒸留塔9に供給さルる。
モノシラン蒸留塔9は段数100段のシーブトレイ塔で
あり、そこで第1反応塔LD同伴されるシクロルシラン
、モノクロシラン及びジゲラン、ホスフィン等の不純物
質が蒸留除去される。これらは配管28に工り第2反応
塔1に循環さnる。
(実施例〉 金属鋼粒5重t%全含有してなる粒子径100〜800
μの金属硅素粉末t40(1/hrの速度で流動床トリ
クロル7ラン合成塔1に供給する一万、四塩化硅素蒸発
器3ニジ水素二四塩化硅素のモル比が2=1である混合
ガス?:235t/minの流量で吹込み、圧力0.2
 k&1crlG、温度550℃に保ち、トリクロルシ
ラン蒸留塔成した。トリクロルシラン回収器2からはト
リクロルシラ720.2モル%、未反晶塩化硅素79.
8モル%の混合液が36ky/hrの流量で傅らrL7
?1.。これをトリクロル7ラン蒸留塔4に供給したつ トリクロル7ラン蒸留塔4は圧力IKg/7G、塔頂コ
ツ2フ丈−の還流比t3で運転した。塔頂からは四塩化
硅素0.4モル%を含むトリクロル7ランが10ky/
hrの速度で4L傅され、それを第1反応塔5に供給し
九。一方、塔底からは、トリクロル7ラン0.5モル%
含む四塩化硅素t−35,5kp/ hrの速度で四塩
化硅素蒸発器3に抜き取つto i@1反応塔5は、圧力51に9/7Gとし、触媒とし
て、トリnオクチルアミン:塩化水素のモル比80:2
0のものe 2.5 L / nr 〕流量で供給し、
還流比5にして運転しtところ、モル開会で、七ノゾラ
15%、モノクロルブラン16%、ジクロル7ラン48
%、トリクロルシラン31%の7ラン化曾吻が収得さ几
、それを第2反応塔7に供給し九〇一方、塔底からは、
トリクロル7ラン、四塩化硅素及び触媒の混ぜ液が回収
さル、そfLを温度110℃に保定れ九触媒分離器6に
抜き取り、トリクロルシランと四塩比硅素を蒸発回収し
てトリクロルシラン蒸留塔4に、循壊しfCQ触媒分離
器6で分離さnた触媒は第1反応塔5の塔頂に011項
した。
第2反応塔7は、圧力5kg/dGとし、触媒は、第1
反応塔で使用したものと同一なものを26/hrの流歇
で循壊し、還流比5で運転し九ところ、モル割付で、モ
ノシラン76%、モノクロルシラン13%、シクロルシ
ラン11%のシラン化@−物が670 t/ hr″C
取得され、そnをモノシラン蒸留jf9に供給し九〇一
方、塔底からは、高沸点7ラン化合物と触媒の振付液が
回収され、触媒分離器8で触媒を分離して塔頂に戻すと
共に、モノクロルシラン、ジクロル7ラン、トリクロル
7ランの高沸点7ラン化曾*は、第1反応塔に循環し九
つ モノシラン蒸留塔9は、圧力30に9/dG。
還流比10で運転し九ところ、モノ7ラン100%の高
純度モノシランが370 ?/hr(トリクロル7ラン
に対するモノ7ラン生成率は約15%である)/)割付
で傅らrL7t0 なお、補給氷菓と補給塩化水素は、−f:′nぞル6.
5 t/ +n+nと11 L/ man ct)割付
で、配管12と11に工り供給し友。
(発明の効果) 本発明にエルば、金属硅素からシラン化廿物が収率工く
、しかもエネルイーの消費が少なく低コストで連続的に
製造することができる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例の製造工程1に説明するグロック
図である。 符号 1・・・トリクロル7ラン曾成塔 2・・・トリクロルシラン回収器 3・・・四塩化硅素蒸発器 4・・・トリクロル7ラン蒸留塔 5・・・第1反応塔 6・・・触媒分離器 1・・・第2反応塔 8・・・触媒分離器 9・・・モノシラン蒸留塔

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 次の第1〜3工程からなるシラン化合物の連続的製造法
    。 第1工程; 金属硅素粉末を充填してなる流動床反応塔に四塩化硅素
    と水素の混合ガスを供給してトリクロルシランを合成す
    る工程。 第2工程; 下記一般式で示される第3級脂肪族炭化水素置換アミン
    と塩化水素との混合物又は反応生成物からなる不均斉化
    触媒を存在させてなり蒸留機能を有する第1反応塔に、
    第1工程で得られたトリクロルシランを供給し、不均斉
    化反応と蒸留を行わせながら塔頂成分を取得する工程。 第3工程; 下記一般式で示される第3級脂肪族炭化水素置換アミン
    と塩化水素との混合物又は反応生成物からなる不均斉化
    触媒を存在させてなり蒸留機能を有する第2反応塔に、
    第1反応塔で取得された塔頂成分を供給し、不均斉化反
    応と蒸留を行わせながら塔頂成分を取得する工程。 (第3級脂肪族炭化水素置換アミンの一般式)▲数式、
    化学式、表等があります▼ (但し、式中R_1、R_2、R_3は脂肪族炭化水素
    基、そのR_1、R_2及びR_3の炭素数の和が10
    以上であり、しかもそのR_1、R_2、R_3はそれ
    ぞれ同種又は異種のものである。)
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