JPS641406B2 - - Google Patents

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JPS641406B2
JPS641406B2 JP59003034A JP303484A JPS641406B2 JP S641406 B2 JPS641406 B2 JP S641406B2 JP 59003034 A JP59003034 A JP 59003034A JP 303484 A JP303484 A JP 303484A JP S641406 B2 JPS641406 B2 JP S641406B2
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JP
Japan
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reaction
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silane compound
trichlorosilane
column
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JP59003034A
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Mitsunori Yamada
Masaji Ishii
Akira Myai
Masahiko Nakajima
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Denka Co Ltd
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Denki Kagaku Kogyo KK
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/40Regeneration or reactivation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J31/00Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds
    • B01J31/02Catalysts comprising hydrides, coordination complexes or organic compounds containing organic compounds or metal hydrides
    • B01J31/0234Nitrogen-, phosphorus-, arsenic- or antimony-containing compounds
    • B01J31/0235Nitrogen containing compounds
    • B01J31/0237Amines
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/04Hydrides of silicon
    • C01B33/043Monosilane
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/08Compounds containing halogen
    • C01B33/107Halogenated silanes
    • C01B33/10773Halogenated silanes obtained by disproportionation and molecular rearrangement of halogenated silanes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Inorganic Chemistry (AREA)
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  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は水素化塩化珪素を反応塔に供給して、
特定の触媒の存在下で不均斉化反応させると共
に、蒸留効果による分離を同時に行わせて、ジク
ロルシラン、モノクロルシラン、モノシラン等の
シラン化合物を連続的に取得するシラン化合物の
連続的製法に関するものである。 ジクロルシラン、トリクロルシラン及びモノシ
ラン等は半導体や太陽電池等の素子に使用される
高純度シリコンの原料として益々需要の増加が見
込まれており、特にジクロルシランおよびモノシ
ランを大量に効率よく製造することが要望されて
いる。 従来からクロルシラン類の不均斉化反応は公知
であり、またその触媒についてはいろいろ提案さ
れている。例えば第3級アミン又は第4級アンモ
ニウムを含む網目状陰イオン交換樹脂、Nメチル
2ピロリドン、メチルイミダゾール、テトラメチ
ル尿素、ジメチルシアナミド、テトラメチルグア
ニジン、トリメチルシリルイミダゾール、ベンゾ
チアゾール、NNジメチルアセトアミド等があげ
られる。これらの触媒と例えばトリクロルシラン
と接触させると、次に(1)、(2)及び(3)式の不均斉化
反応式に従つてジクロルシラン、モノクロルシラ
ンおよびモノシランが生成する。 2SiHCl3SiCl4+SiH2Cl2 (1) 2SiH2Cl2SiHCl3+SiH3Cl (2) 2SiH3ClSiH2Cl2+SiH4 (3) このようにして塩素原子の多い原料水素化塩化
珪素から、塩素原子の少ないシラン化合物を取得
することができる。さらに詳しく説明すると、例
えば触媒として第3級アミンを含む陰イオン交換
樹脂を充填した固定床式の反応塔において、反応
温度30〜200℃、圧力1〜30atmの条件下反応塔
の一方の口よりトリクロルシラン又はジクロルシ
ラン等の原料水素化塩化珪素を液状で供給する
と、反応器の他方の口よりモノシラン、モノクロ
ルシラン、ジクロルシラン、トリクロルシラン及
び四塩化珪素からなる反応生成物が得られる。し
かし前記不均斉化反応式(1)、(2)および(3)式は平衡
反応であるので、たとえ反応時間を大きくとつた
にしても原料水素化塩化珪素を100%反応完結さ
せることは出来ない。例えば、トリクロルシラン
およびジクロルシランを原料として不均斉化反応
させた場合に反応が平衡状態に到達した時のそれ
ぞれモノシラン、モノクロルシラン、ジクロルシ
ラン、トリクロルシランおよび四塩化珪素の温度
80℃における不均斉化反応平衡組成を表に示すと
次のとおりである。
【表】 また、トリクロルシランを原料として不均斉化
反応を平衡状態にまで到達させたとしても、反応
生成物に含まれるモノシランおよびモノクロルシ
ランはそれぞれ0.04モル%および0.52モル%であ
り、1段反応ではモノクロルシランあるいはモノ
シランを製造するにはあまりにも反応率が低い。
そこで例えばトリクロルシランを原料としてモノ
シランを製造する場合には1段目の反応器の反応
生成物を蒸留装置にかけジクロルシランが主成分
であるモノシラン、モノクロルシラン及びジクロ
ルシランの混合物(A組成物)とトリクロルシラ
ン及び四塩化珪素混合物(B組成物)とに分離
し、次いでA組成物を2段目の反応器に供給する
と、その不均斉化反応の平衡組成は表から明かな
ようにモノシラン10.2モル%含有するものである
ので、この反応生成物を蒸留装置に供給するとモ
ノシランを分離回収することができる。しかし不
均斉化反応の反応率が低いために未反応物を大量
に循環使用せねばならず、反応器および蒸留塔の
運転に多大なエネルギーを必要とする欠点があつ
た。 例えばNメチル2ピロリドン、メチルイミダゾ
ール、テトラメチル尿素、ジメチルアナミド、テ
トラメチルグアニジン、トリメチルシリルイミダ
ゾール、ベンゾチアゾール、NNジメチルアセト
アミド等はシラン化合物の不均斉化反応に触媒作
用を示すが、そのもの自体が固体かあるいはトリ
クロルシラン、ジクロルシラン等のシラン化合物
と接触する粉末固体となり、不均斉化反応で生じ
たシラン化合物との分離が困難で工業的生産規模
として実施は困難である。 本発明はこれらの欠点を解決したもので、原料
水素化塩化珪素を反応塔に供給し、その塔内にお
いて不均斉化反応させながら蒸留効果により沸点
の低いモノシラン、モノクロルシランおよび又は
ジクロルシランを反応塔の塔頂から取得し、一
方、塔底から四塩化珪素およびトリクロルシラン
を含む触媒混合溶液を抜き取り、次いで前記混合
溶液からシラン化合物と触媒液とを分離し、さら
にその触媒液を反応塔に循還させるモノシラン、
モノクロルシラン又はジクロルシラン等のシラン
化合物を連続的に製造する方法を提供しようとす
るものである。すなわち本発明は、トリクロルシ
ラン等の水素化塩化珪素を不均斉化反応させてモ
ノシランあるいはシクロルシラン等のシラン化合
物を連続的に製造するのにあたり不均斉化反応触
媒として下記一般式で示される第3級脂肪族炭化
水素置換アミンを存在させた蒸留機能を有する反
応塔に原料水素化塩化珪素を供給して反応塔の上
部より原料水素化塩化珪素より水素原子の多いシ
ラン化合物を取得し、一方反応塔の底部より副生
する塩素原子の多いシラン化合物及び触媒からな
る混合溶液を抜き取り次いで、前記混合溶液中の
シラン、化合物と触媒とを分離し、さらに分離さ
れた触媒を反応塔に循還することを特徴とするシ
ラン化合物の連続的製造方法である。 一般式 (但し、式中R1、R2、R3は脂肪族炭化水素基、
そのR1、R2、及びR3の炭素数の和が10以上であ
り、しかもそのR1、R2、R3はそれぞれ同種又は
異種のものである。) 以下さらに本発明について詳しく説明する。本
発明において水素化塩化珪素とモノクロルシラン
(SiH3Cl)、ジクロルシラン(SiH2Cl2)又はトリ
クロルシラン(SiHCl3)等である。又本発明に
用いる触媒とは、一般式
【式】で示される第 3級脂肪族炭化水素置換アミンである。(但し、
式中R1、R2、R3は脂肪族炭化水素基、そのR1
R2、及びR3の炭素数の和が10以上であり、しか
もそのR1、R2およびR3は同種又は異種のもので
ある。)その具体例としてはトリ−n−オクチル
アミン、トリn−ブチルアミン等があげられる。
脂肪族炭化水素基の炭素数の和が10以上と限定し
た理由は10未満の第3級脂肪族炭化水素置換アミ
ンとトリクロルシラン、ジクロルシラン、四塩化
珪素等のシラン化合物と接触すると触媒作用を有
するが固型物なり易い。しかし本発明に用いる反
応塔は蒸留機能を有する段塔又は充填塔であるの
でこれらの固型物はこれらの段あるいは充填物を
閉塞させ、円滑な連続運転を行うことができな
い。脂肪族炭化水素基の炭素数の和が10以上であ
れば固型物の生成が少なく使用可能であるが、炭
素数の和が12〜40であるものが好ましい。又この
触媒量は原料水素化塩化珪素100モル部に対して
1〜100モル部である。 本発明で使用される反応塔は蒸留塔形式の反応
塔であり、例えばシーブトレイあるいはバブルキ
ヤツプトレイ等で仕切られた段塔あるいはラシヒ
リングあるいはポールリング等の充填物を充填し
た充填塔である。これら蒸留機能を有する反応塔
であればどんな構造のものでもよいが、本発明に
関するシラン化合物の不均斉化反応が液相反応で
あるので、液ホールドアツプの大きい反応塔が望
ましい。 本発明の反応塔内は反応と同時に蒸留による分
離操作を行わせるので、塔頂部の温度は低く、塔
底部の温度は高くなり反応塔内に温度分布が生ず
るので、反応温度も一定でないが、20〜300℃の
範囲で行われる。温度20℃未満では反応速度が低
く不均斉化反応が実質的に進行せず、又300℃を
こえると触媒として使用される第3級脂肪族炭化
水素置換アミンの熱分解が生じ易く好ましくな
い。又本反応は沸騰状態で操作されるので上記反
応温度に保つためには加圧にする必要があり、圧
力はゲージ圧力で0〜40atmで行われる。 前記した触媒を蒸留機能を有する反応塔に存在
させて水素化塩化珪素を不均斉化反応させると、
前述した不均斉化反応式(1)、(2)および(3)が同時に
進行し、モノシラン、モノクロルシラン、ジクロ
ルシラン、トリクロルシラン及び四塩化珪素が生
成する。その沸点はそれぞれ−118℃、−30℃、8
℃、32℃及び56℃であり、又反応器自体が蒸留機
能を有しているので、反応塔の上からモノシラ
ン、モノクロルシラン、ジクロルシラン、トリク
ロルシラン、四塩化珪素の順序に濃度分布が生ず
る。それ故同一反応塔内で反応と分離が同時に起
つているので表に示した如き平衡組成の制限を受
けず、従来法よりはるかに大きな反応率が得られ
るばかりか、数基の反応器と数基の蒸留塔を組合
わせる必要もなく、分離回収のエネルギーは大巾
に少なくて済む利点を有する。 以下図面に従つてさらに本発明を説明する。図
面は本発明の実施例に用いる装置の説明図であ
る。トリクロルシランあるいはジクロルシラン等
の水素化塩化珪素を原料供給導管4を通じて反応
塔1の中上段部に供給する。反応塔1は塔径83
mm、高さ2000mmで18の段数を有するステンレス鋼
製蒸留塔で、各トレイは孔径1.5mmの孔が37ある
シーブトレイである。反応塔1の上部にはステン
レス鋼製の凝縮部3を設けており、ジヤケツトに
冷却水を通して冷却出来るようになつている。又
反応塔1の下部には最大出力1KWのヒーターを
内蔵するリボイラー2が設けられている。 反応塔1では不均斉化反応と蒸留による分離が
同時に起り不均斉化反応で生じた低沸点成分に富
んだガスは上方に移動し凝縮部3で冷却され同伴
する高沸点成分を凝縮した後、液体窒素で冷却さ
れたステンレス鋼製凝縮部6で凝縮させ、液体で
補集貯槽7に回収される。 一方不均斉化反応で生じたトリクロルシラン、
四塩化珪素等の高沸点成分は塔底に移行し、触媒
と共にリボイラー2よりその液面を調節しつつ蒸
発槽9に抜取られる。蒸発槽9は内容積3の撹
拌機付ステンレス鋼製容器からなりこれにジヤケ
ツトを設けられている。それに加熱された熱媒油
を循環させ、触媒槽を加温されるようになつてい
る。この蒸発槽19は不均斉化反応で生じた四塩
化珪素の沸点より高く、触媒の第3級脂肪族炭化
水素置換アミンより低い温度で操作され、リボイ
ラー2より抜取られたトリクロルシランおよび四
塩化珪素は蒸発し、メタノールトライアイスで冷
却された凝縮部11で補集され、貯槽12に回収
される。蒸発槽9で蒸発し残つた第3級脂肪族炭
化水素置換アミン触媒はポンプ10により抜取ら
れ、再び反応塔1の塔頂に循還される。以下実施
例をあげてさらに本発明を説明する。なお実施例
中の%はモル%である。 実施例 1 図面に示す蒸発槽9を予め触媒としてトリn−
オクチルアミンを2充填し、蒸発槽9に設けら
れたジヤケツトの熱媒油を加熱し触媒液温度を
100℃に保つた。又反応塔上部凝縮部3は−8℃
の塩水を通水し冷却した。反応器下部リボイラー
2を電気ヒーターにより加熱し、反応塔1にトリ
クロルシランを2.0Kg/hrの速度で原料供給導管4
から、又触媒循環ポンプ10により蒸発槽9内の
トリn−オクチルアミンを530g/hrの速度で反応
塔1に供給した。反応塔1の内部圧力を調節弁5
により調節しつつゲージ圧力で9Kg/cm2に保つた。
又リボイラー2の液面を調節弁8により一定に保
つように調節した。 反応塔1の塔頂温度は55℃、塔底のリボイラー
2は148℃に保持し、20時間連続運転を行い塔頂
からモノシラン85%、モノクロルシラン8.5%、
ジクロルシラン6.5%の混合ガスが80g/hrの速度
で得られた。又蒸発槽9で蒸発したクロルシラン
を凝縮器11で冷却し1.92Kg/hrの速度で貯槽1
2に回収した。回収液の組成をガスクロマトグラ
フイーにより分析したところトリクロルシラン55
%、四塩化珪素45%の混合液が回収された。 実施例 2 反応塔上部凝縮器3を25℃の冷却水を通水し冷
却し、反応塔1の内部圧力をゲージ圧力で6Kg/
cm2に保つ以外は実施例1と同様な方法で行つた。
なお、反応塔1の塔頂温度は82℃、塔底のリボイ
ラー温度は141℃に保持した。塔頂からモノクロ
ルシラン12%、ジクロルシラン73%、トリクロル
シラン15%の混合液が530g/hrの速度で得られ
た。又蒸発槽9で蒸発したクロルシランを凝縮器
11で連続的に貯槽12に回収したところトリク
ロルシラン48%、四塩化珪素52%の混合液が1470
g/hrの速度で回収された。 実施例 3 第3級脂肪族炭化水素置換アミン触媒としてト
リn−ブチルアミンを278g/hrの速度で蒸発槽9
から循還ポンプ10により反応塔1に循還した以
外は実施例1と同様に行つた。塔頂からはモノシ
ラン81%、モノクロルシラン11.3%、ジクロルシ
ラン7.7%の混合液が77g/hrの速度で得られた。
又蒸発槽9より蒸発したクロルシランを凝縮器1
1で連続的に貯槽12に回収したところトリクロ
ルシラン61%四塩化珪素39%の混合液が1.92Kg/h
rの速度で回収された。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例に用いる装置の説明図で
ある。 付号 1…反応塔、2…リボイラー、3…凝縮
器、4…原料供給導管、5…調節弁、6…凝縮
器、7…貯槽、8…調節弁、9…蒸発槽、10…
ポンプ、11…凝縮器、12…貯槽。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 トリクロルシラン等の水素化塩化珪素を不均
    斉化反応させてモノシランあるいはジクロルシラ
    ン等のシラン化合物を連続的に製造するのにあた
    り、不均斉化反応触媒として下記一般式で示され
    る第3級脂肪族炭化水素置換アミンを存在させた
    蒸留機能を有する反応塔に原料水素化塩化珪素を
    供給して反応塔の上部より原料水素化塩化珪素よ
    り水素原子の多いシラン化合物を取得し、一方反
    応塔の底部より副生する塩素原子の多いシラン化
    合物及び触媒からなる混合溶液を抜き取り次い
    で、前記混合溶液中のシラン化合物と触媒とを分
    離し、さらに分離された触媒を反応塔に循環する
    ことを特徴とするシラン化合物の連続的製造方
    法。 (但し、式中R1、R2、R3は脂肪族炭化水素基、
    そのR1、R2、及びR3の炭素数の和が10以上であ
    り、しかもそのR1、R2、R3はそれぞれ同種又は
    異種のものである。)
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