JPS61148843A - ステム - Google Patents

ステム

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Publication number
JPS61148843A
JPS61148843A JP27150484A JP27150484A JPS61148843A JP S61148843 A JPS61148843 A JP S61148843A JP 27150484 A JP27150484 A JP 27150484A JP 27150484 A JP27150484 A JP 27150484A JP S61148843 A JPS61148843 A JP S61148843A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stem
copper
mixture
tungsten
holes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP27150484A
Other languages
English (en)
Inventor
Masatoshi Watanabe
渡辺 正利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd, Kansai Nippon Electric Co Ltd filed Critical Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Priority to JP27150484A priority Critical patent/JPS61148843A/ja
Publication of JPS61148843A publication Critical patent/JPS61148843A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4871Bases, plates or heatsinks

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Connections Arranged To Contact A Plurality Of Conductors (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 庄JLLQl団り1厨− この発明はステムに関し、特に例えば電力用半導体素子
取付用に好適するものである。
良未Δ皮r 従来の半導体装置用ステムは、第2図に示すように、ス
テム基板1全体が鉄で構成され、透孔2にソーダガラス
3を介して鉄・ニッケル合金製のリード線5を気密かつ
絶縁して封着したもの(特公昭55−5211;5号公
報)や、同図中に2点鎖線で示すように、ステム基板1
上に銅よりなるヒートシンク6をロウ付けしたものや、
第3図に示すように、鉄製のステム基板7の透孔8にソ
ーダガラス8を介して鉄拳ニッケル合金製のリード線l
Oを気密かつ絶縁して封着するとともに、素子取付位置
に穿設した透孔■に銅製のヒートシンク12を嵌合して
ロウ付けしたもの(特公昭58−20702合公報)や
、第4図に示すように、銅製のステム基板13の透孔1
4に鉄製のアイレット15中にソーダガラス1Gを介し
て鉄・ニッケル合金製のリード線17を気密かつ絶縁し
て封着した気密端子I8をロウ付けしたもの(特公昭5
4−28288号公報)等がある。
光Ml脛18.よう」3tA」υ1虞。
ところで、上記第2図のステムは、安価ではあるが、ス
テム基板1の熱伝導率が比較的小さいため大電力用の半
導体装置に用いることは困難で、一方、第2図の2点鎖
線や第3図以降に示すように銅製のヒートシンク6、■
2をロウ付けしたり、銅製のステム基板13を用いるも
のでは、大電力用の半導体装置に好適するものではある
が、部品点類が多(、銅部材と他部材とのロウ付けも必
要で、加工費大により原価高であり、信頼性の点でも不
利である。
。  ° 1の この発明は上記の問題点を解決するために、ステム基板
を銅Φタングステン混合物で構成して、その透孔に直接
ホウケイ酸ガラスを介してコバール製のリード線を気密
かつ絶縁して封着したものである。
1肚 上記の手段によれば、銅・タングステン混合物の熱膨張
係数がコバールやホウケイ酸ガラスと略同等であるため
、直接封着が可能で、部品点数が少なく、ロウ付けも不
要で、加工費を低減できるし、熱伝導率はコバールの1
0倍以上、鉄の6倍以上もあるため、熱放散性の良いス
テムが提供できる。
実JiL4九 以下、この発明の一実施例のステムについて、図面を参
照して説明する。
第1図Aは平面図で、第1図Bは第1図AのB−B線に
沿う断面図である。図において、20は銅・タングステ
ン、混合物からなるステム基板で、周辺にフランジ部2
1を存し、中央部には素子固着用の台状突起部22を宵
し、この台状突起部22の近傍には透孔23.23を有
する。各透孔23.23にはそれぞれホウケイ酸ガラス
24.24を介して、コバール製のリード線25.25
が気密かつ絶縁して封着されている。前記ステム基板2
0は銅とタングステンの微粉末の混合物をi末成型法で
加工したもので、例えば鋼10〜20重量%と、タング
ステン30〜80重量%との混合−よりな゛す、密度1
5〜18g/’c−、比熱0.05〜0.08 cal
/ g ・’C,熱伝導率0.5〜0.Eical/c
+w * sec * ”C(R,T、) 、熱膨張係
数[io 〜70XIG’/”C程度である。
なお、コバールの熱伝導率は0.05Cal/c+a 
@ sec・°C9熱膨張係数は47X10  /”C
,鉄の熱伝導率は0.I C11l/ a1拳sec 
・℃、−−膨張係数は132×10’/”Cでλる。
よりなるステム基板を用いたので、ホウケイ酸ガラスを
用いてコバール製のリード線を直接封止することができ
・−品点数が少なく・0ウツけも不1□□
【図面の簡単な説明】
第1図Aはこの発明の一実施例のステムの平面図で、第
1図Bはi1図会めB−B線に沿う断面第2図−ないし
第4図は一来の異なるステムの断面図である。 20・・・・・・ステム基板、 23・・・・・・透孔、 24・・・・・・ホウケイ酸ガラス、 25・・・・・・リード線。 図面の滲出(内容に変更なL) 某 4 ■ 手続補正書(方式) %式% 2、発明の名称 ス   テ   ム 3、補正をする者 事件の関係特許出願人 〒520滋賀県大津市晴嵐2丁目9番1号関西日本電気
株式会社 4、  M正命令の日付 昭和60年 4月30日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ステム基板が銅・タングステン混合物で形成され、その
    透孔にホウケイ酸ガラスを介してコバール製のリード線
    が気密かつ絶縁して封着されてなるステム。
JP27150484A 1984-12-21 1984-12-21 ステム Pending JPS61148843A (ja)

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JP27150484A JPS61148843A (ja) 1984-12-21 1984-12-21 ステム

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JP27150484A JPS61148843A (ja) 1984-12-21 1984-12-21 ステム

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JPS61148843A true JPS61148843A (ja) 1986-07-07

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JP27150484A Pending JPS61148843A (ja) 1984-12-21 1984-12-21 ステム

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57205984A (en) * 1981-06-12 1982-12-17 Nippon Electric Co Method of producing airtight terminal
JPS5921032A (ja) * 1982-07-26 1984-02-02 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体装置用基板

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57205984A (en) * 1981-06-12 1982-12-17 Nippon Electric Co Method of producing airtight terminal
JPS5921032A (ja) * 1982-07-26 1984-02-02 Sumitomo Electric Ind Ltd 半導体装置用基板

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