JPS61136764A - 磁気デイスクのバ−ニツシユ方法およびその装置 - Google Patents
磁気デイスクのバ−ニツシユ方法およびその装置Info
- Publication number
- JPS61136764A JPS61136764A JP59256290A JP25629084A JPS61136764A JP S61136764 A JPS61136764 A JP S61136764A JP 59256290 A JP59256290 A JP 59256290A JP 25629084 A JP25629084 A JP 25629084A JP S61136764 A JPS61136764 A JP S61136764A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- magnetic
- polishing
- air
- tape
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B7/00—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
- B24B7/10—Single-purpose machines or devices
- B24B7/16—Single-purpose machines or devices for grinding end-faces, e.g. of gauges, rollers, nuts, piston rings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B21/00—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
- B24B21/04—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor for grinding plane surfaces
- B24B21/06—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor for grinding plane surfaces involving members with limited contact area pressing the belt against the work, e.g. shoes sweeping across the whole area to be ground
- B24B21/08—Pressure shoes; Pressure members, e.g. backing belts
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、磁気ディスクいわゆるフレキシブルディスク
の磁性面を、研摩テープにより表面研摩仕上げするバー
ニッシュ方法およびその装置に関するものである。
の磁性面を、研摩テープにより表面研摩仕上げするバー
ニッシュ方法およびその装置に関するものである。
(従来技術)
一般に、磁気ディスク表面を研摩テープによって研摩す
るバーニッシュ方法としては、磁気ディスクを回転体基
板で保持し、研摩テープの砥粒面をこの磁気ディスクの
磁性面に押圧して研摩し、磁性体の余剰の突起を研摩除
去することによって表面を平滑化するようにしている。
るバーニッシュ方法としては、磁気ディスクを回転体基
板で保持し、研摩テープの砥粒面をこの磁気ディスクの
磁性面に押圧して研摩し、磁性体の余剰の突起を研摩除
去することによって表面を平滑化するようにしている。
そして、従来、上記磁気ディスクはその全体を回転体基
板で支持し、一方、上記研摩テープは金属あるいはゴム
等よりなるパツキングロールまたはフェルト等からなる
押し棒を使用してバックアップし、この研摩テープを磁
気ディスク表面に押圧するようにしている。
板で支持し、一方、上記研摩テープは金属あるいはゴム
等よりなるパツキングロールまたはフェルト等からなる
押し棒を使用してバックアップし、この研摩テープを磁
気ディスク表面に押圧するようにしている。
しかるに、上記方法では、研摩テープの研摩によって削
られた研摩粉あるいは空気中の塵埃、研摩テープ製造中
に研摩テープ裏面に付着した異物等が、上記研摩テープ
とパツキングロールまたは押し棒の間に入って、バーニ
ッシュされた磁気ディスク表面に研摩すじを生起する問
題を有している。また、磁気ディスクの研摩面と反対側
における磁気ディスクと回転体基板との間に介在する異
物もしくは凹凸が影響して、研摩面に研摩すじ等の不均
一部分を生じる恐れがあった。
られた研摩粉あるいは空気中の塵埃、研摩テープ製造中
に研摩テープ裏面に付着した異物等が、上記研摩テープ
とパツキングロールまたは押し棒の間に入って、バーニ
ッシュされた磁気ディスク表面に研摩すじを生起する問
題を有している。また、磁気ディスクの研摩面と反対側
における磁気ディスクと回転体基板との間に介在する異
物もしくは凹凸が影響して、研摩面に研摩すじ等の不均
一部分を生じる恐れがあった。
(発明の目的)
本発明は上記事情に鑑み、磁気ディスクの磁性面の表面
仕上げを行うについて、上記研摩すじ等を生起すること
なく均一でかつ良好な研摩を行うバーニッシュ方法、お
よびこのバーニッシュ方法を実施するためのバーニッシ
ュ装置を提供することを目的とするものである。
仕上げを行うについて、上記研摩すじ等を生起すること
なく均一でかつ良好な研摩を行うバーニッシュ方法、お
よびこのバーニッシュ方法を実施するためのバーニッシ
ュ装置を提供することを目的とするものである。
(発明の構成)
本発明のバーニッシュ方法は、磁気ディスクを回転駆動
するとともに、この磁気ディスクの両面に相対向して加
圧エアを噴出し、該加圧エアによりて研摩テープと磁気
ディスクの磁性面とを圧接して研摩仕上げを行うことを
特徴とするものである。
するとともに、この磁気ディスクの両面に相対向して加
圧エアを噴出し、該加圧エアによりて研摩テープと磁気
ディスクの磁性面とを圧接して研摩仕上げを行うことを
特徴とするものである。
また、本発明のバーニッシュ装置は、!!気ディ゛スク
を支持して回転駆動する駆動機構と、磁気ディスクの両
側に相対向して配設し、加圧エアを磁気ディスクに対し
て噴出するエアーノズルと、一方のエアノズルと磁気デ
ィスクの磁性面との間に介装した研摩テープとを備えた
ことを特徴とするものである。
を支持して回転駆動する駆動機構と、磁気ディスクの両
側に相対向して配設し、加圧エアを磁気ディスクに対し
て噴出するエアーノズルと、一方のエアノズルと磁気デ
ィスクの磁性面との間に介装した研摩テープとを備えた
ことを特徴とするものである。
(発明の効果)
本発明方法によれば、磁気ディスクおよび研摩テープを
対向する位置で加圧エアの噴出によって押圧し、磁気デ
ィスクを回転駆動してその磁性面を研摩するようにした
ことにより、研摩時に削られた研摩粉等が加圧エアによ
って吹き飛ばされるだけでなく、磁気ディスクおよび研
摩テープに他の部材が非接触状態で両者を押圧すること
から、研摩テープ製造中の研摩テープ裏面に付着した異
物、もしくは磁性体塗布むら等の影響を受けることな(
、研摩すじ等を生起していない均一な研摩面を得ること
ができる。また、磁気ディスクと研摩テープとの接触面
積、押圧力の調整も容易であって、処理能率の向上を図
ることができる。
対向する位置で加圧エアの噴出によって押圧し、磁気デ
ィスクを回転駆動してその磁性面を研摩するようにした
ことにより、研摩時に削られた研摩粉等が加圧エアによ
って吹き飛ばされるだけでなく、磁気ディスクおよび研
摩テープに他の部材が非接触状態で両者を押圧すること
から、研摩テープ製造中の研摩テープ裏面に付着した異
物、もしくは磁性体塗布むら等の影響を受けることな(
、研摩すじ等を生起していない均一な研摩面を得ること
ができる。また、磁気ディスクと研摩テープとの接触面
積、押圧力の調整も容易であって、処理能率の向上を図
ることができる。
一方、本発明装置によれば、上記バーニッシュ方法の実
施が簡易に得られ、高能率で磁気ディスクの研摩処理が
行えるものである。
施が簡易に得られ、高能率で磁気ディスクの研摩処理が
行えるものである。
(実施例)
以下、図面により本発明の詳細な説明する。
第1図はバーニッシュ装置の全体正面図、第2図は駆動
機構を省略して示す斜視図、第3図はノズル部分の断面
図である。
機構を省略して示す斜視図、第3図はノズル部分の断面
図である。
磁気ディスク1くフレキシブルディスク)は記録再生部
1aすなわち研aE!!性面より内方の最内周部1bが
回転軸2の先端のバキュームチャック2aによって保持
され、図示しない駆動機構で上記回転軸2が回転駆動さ
れ、磁気ディスク1が例えば1000〜3000rpI
Ilで高速回転される。
1aすなわち研aE!!性面より内方の最内周部1bが
回転軸2の先端のバキュームチャック2aによって保持
され、図示しない駆動機構で上記回転軸2が回転駆動さ
れ、磁気ディスク1が例えば1000〜3000rpI
Ilで高速回転される。
上記磁気ディスク1の磁性面1aに対して研摩テープ3
の砥粒面3aを圧接して研摩を行う。この器間テープ3
と磁気ディスク1との圧接は、相対向するエアーノズル
4,5から吹き付けられた加圧エアの風圧によって得る
ものである。
の砥粒面3aを圧接して研摩を行う。この器間テープ3
と磁気ディスク1との圧接は、相対向するエアーノズル
4,5から吹き付けられた加圧エアの風圧によって得る
ものである。
すなわち、磁気ディスク1の下面側には研摩テープ3を
バックアップするための第1のエアーノズル4が配設さ
れ、この第1のエアーノズル4のエア噴出口4aが磁気
ディスク1の研摩する磁性面1aに近接して開口し、エ
ア噴出口4aと磁気ディスク1との間に研摩テープ3が
介装されている。また、上記磁気ディスク1の上面側に
は上記第1のエアーノズル4に対向して磁気ディスク1
の研摩テープ3による研摩圧力を担持するための第2の
エアーノズル5が配設され、この第2のエアーノズル5
のエア噴出口5aが研摩テープ3の接触部の反対面側の
磁気ディスク1に近接して開口している。上記第1のエ
アーノズル4の先端面4Cは研摩テープ3の走行に対応
して曲面に形成されている。
バックアップするための第1のエアーノズル4が配設さ
れ、この第1のエアーノズル4のエア噴出口4aが磁気
ディスク1の研摩する磁性面1aに近接して開口し、エ
ア噴出口4aと磁気ディスク1との間に研摩テープ3が
介装されている。また、上記磁気ディスク1の上面側に
は上記第1のエアーノズル4に対向して磁気ディスク1
の研摩テープ3による研摩圧力を担持するための第2の
エアーノズル5が配設され、この第2のエアーノズル5
のエア噴出口5aが研摩テープ3の接触部の反対面側の
磁気ディスク1に近接して開口している。上記第1のエ
アーノズル4の先端面4Cは研摩テープ3の走行に対応
して曲面に形成されている。
上記第1J5よび第2のエアーノズル4,5は基板6に
所定間隔をもって固着され、この基板6を介して所定圧
力の加圧エアが中心部の導入通路4b、5t)に導入さ
れ、この導入通路4b、5bからスリット状のエア噴出
口4a、5aに連通され噴出される。上記第1および第
2のエアーノズル4.5に供給される加圧エアの圧力は
、例えば6kg/ Q12以下の範囲で可変であり、こ
の加圧エアの圧力調節によって、研摩テープ3と磁気デ
ィスク1との接触圧の変更による研摩深さの調整ができ
、第1のエアーノズル4に対する圧力が1.0〜2.5
kg/ cm2程度に設定された際に、第2のエアーノ
ズル5に対する圧力は1.5〜4.0kg/ cmz程
度に設定するのが好ましい。
所定間隔をもって固着され、この基板6を介して所定圧
力の加圧エアが中心部の導入通路4b、5t)に導入さ
れ、この導入通路4b、5bからスリット状のエア噴出
口4a、5aに連通され噴出される。上記第1および第
2のエアーノズル4.5に供給される加圧エアの圧力は
、例えば6kg/ Q12以下の範囲で可変であり、こ
の加圧エアの圧力調節によって、研摩テープ3と磁気デ
ィスク1との接触圧の変更による研摩深さの調整ができ
、第1のエアーノズル4に対する圧力が1.0〜2.5
kg/ cm2程度に設定された際に、第2のエアーノ
ズル5に対する圧力は1.5〜4.0kg/ cmz程
度に設定するのが好ましい。
一方、上記研摩テープ3は第1のエアーノズル4の両側
に配設されたがイドローラ7.8に掛けられ、一方のが
イドローラ7から第1のエアーノズル4に先端面4Cを
経て他方のガイドローラ8で屈曲して研摩テープ3が走
行するように設けられている。上記研摩テープ3は図示
しない送り機構によって、磁気ディスク1の回転方向と
反対方向に走行するように間歇送りが行われ、走行速度
は例えば7Illffl/SeC程度である。また、こ
の研摩テープ3どしては、砥粒面3aに設けられている
砥粒が例えば酸化クロム、炭化ケイ素系、酸化鉄、酸化
アルミナ、ダイヤモンド等の材質のものが使用される。
に配設されたがイドローラ7.8に掛けられ、一方のが
イドローラ7から第1のエアーノズル4に先端面4Cを
経て他方のガイドローラ8で屈曲して研摩テープ3が走
行するように設けられている。上記研摩テープ3は図示
しない送り機構によって、磁気ディスク1の回転方向と
反対方向に走行するように間歇送りが行われ、走行速度
は例えば7Illffl/SeC程度である。また、こ
の研摩テープ3どしては、砥粒面3aに設けられている
砥粒が例えば酸化クロム、炭化ケイ素系、酸化鉄、酸化
アルミナ、ダイヤモンド等の材質のものが使用される。
上記構成により、駆動機構で磁気ディスク1を高速回転
している状態で、第1F3よび第2のエアーノズル4,
5から所定圧の加圧エアをそれぞれ研摩テープ3および
磁気ディスク1に対して吹き付け、これにより研摩テー
プ3と磁気ディスク1の磁性面1aとを所定の接触圧で
圧接して、研摩仕上げを、例えば0.5〜1.0sec
程度の時間行うものである。
している状態で、第1F3よび第2のエアーノズル4,
5から所定圧の加圧エアをそれぞれ研摩テープ3および
磁気ディスク1に対して吹き付け、これにより研摩テー
プ3と磁気ディスク1の磁性面1aとを所定の接触圧で
圧接して、研摩仕上げを、例えば0.5〜1.0sec
程度の時間行うものである。
なお、上記研摩テープ3は上記実施例のように磁気ディ
スク1の回転方向と逆方向に走行させた状態で研摩を行
うほか、同方向に走行させてもよく、また、停止させた
状態で研摩し、研摩毎に送るようにしてもよい。
スク1の回転方向と逆方向に走行させた状態で研摩を行
うほか、同方向に走行させてもよく、また、停止させた
状態で研摩し、研摩毎に送るようにしてもよい。
また、磁気ディスク1の研摩は下方から行うほか、上方
から行うようにしてもよく、ざらに、上下から磁気ディ
スク1の両面を同時に研摩するようにしてもよく、その
際には上記第1および第2のエアーノズルおよび研摩テ
ープ3の送り機構をもう一組配設して行うものである。
から行うようにしてもよく、ざらに、上下から磁気ディ
スク1の両面を同時に研摩するようにしてもよく、その
際には上記第1および第2のエアーノズルおよび研摩テ
ープ3の送り機構をもう一組配設して行うものである。
よって、上記のように磁気ディスクの研摩を行うと、研
摩テープによって研摩された磁性体の粉末は第1もしく
は第2のエアーノズルから噴出されたエアによって吹き
飛ばされ、これが研摩部の接触面に介在して研摩すじ発
生の原因となることがなく、また、磁気ディスクの研摩
面と反対側を風圧によって平均した圧力で支持するので
、この反対面の磁性体の微細な凹凸が研摩状態に影響を
与えずに均一な研摩が実施できる。
摩テープによって研摩された磁性体の粉末は第1もしく
は第2のエアーノズルから噴出されたエアによって吹き
飛ばされ、これが研摩部の接触面に介在して研摩すじ発
生の原因となることがなく、また、磁気ディスクの研摩
面と反対側を風圧によって平均した圧力で支持するので
、この反対面の磁性体の微細な凹凸が研摩状態に影響を
与えずに均一な研摩が実施できる。
第1図は本発明の一実施例におけるバーニッシュ装置の
全体正面図、 第2図は駆動機構を省略して示す斜視図、第3図はノズ
ル部分の断面図である。
全体正面図、 第2図は駆動機構を省略して示す斜視図、第3図はノズ
ル部分の断面図である。
Claims (3)
- (1)磁気ディスクの表面を研摩テープにより研摩する
バーニッシュ方法において、前記磁気ディスクを回転駆
動するとともに、この磁気ディスクの両面に相対向して
加圧エアを噴出し、該加圧エアによって研摩テープと磁
気ディスクの磁性面とを圧接して研摩仕上げを行うこと
を特徴とする磁気ディスクのバーニッシュ方法。 - (2)前記研摩テープを磁気ディスクの回転方向と逆方
向に走行させることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の磁気ディスクのバーニッシュ方法。 - (3)磁気ディスクを支持して回転駆動する駆動機構と
、磁気ディスクの両面に相対向して配設され、加圧エア
を磁気ディスクに対して噴出するエアーノズルと、一方
のエアノズルと磁気ディスクの磁性面との間に介装され
た研摩テープとを備えたことを特徴とする磁気ディスク
のバーニッシュ装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59256290A JPS61136764A (ja) | 1984-12-04 | 1984-12-04 | 磁気デイスクのバ−ニツシユ方法およびその装置 |
US06/801,762 US4656790A (en) | 1984-12-04 | 1985-11-26 | Burnishing method and apparatus for magnetic disk |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59256290A JPS61136764A (ja) | 1984-12-04 | 1984-12-04 | 磁気デイスクのバ−ニツシユ方法およびその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61136764A true JPS61136764A (ja) | 1986-06-24 |
JPH057146B2 JPH057146B2 (ja) | 1993-01-28 |
Family
ID=17290598
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59256290A Granted JPS61136764A (ja) | 1984-12-04 | 1984-12-04 | 磁気デイスクのバ−ニツシユ方法およびその装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4656790A (ja) |
JP (1) | JPS61136764A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5065548A (en) * | 1988-06-06 | 1991-11-19 | Speedfam Company, Ltd. | Surface treating tape cartridge and surface treating machine |
US5065547A (en) * | 1988-06-06 | 1991-11-19 | Speedfam Company, Ltd. | Surface processing machine for hard disks and the like |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4930259A (en) * | 1988-02-19 | 1990-06-05 | Magnetic Perpherals Inc. | Magnetic disk substrate polishing assembly |
US5018311A (en) * | 1989-06-28 | 1991-05-28 | International Business Machines Corporation | Magnetic disk burnishing method and apparatus |
US5088240A (en) * | 1989-09-22 | 1992-02-18 | Exclusive Design Company, Inc. | Automated rigid-disk finishing system providing in-line process control |
US5099615A (en) * | 1989-09-22 | 1992-03-31 | Exclusive Design Company, Inc. | Automated rigid-disk finishing system providing in-line process control |
US4964242A (en) * | 1989-09-22 | 1990-10-23 | Exclusive Design Company | Apparatus for texturing rigid-disks used in digital magnetic recording systems |
US5012618A (en) * | 1989-12-21 | 1991-05-07 | Hmt Technology Corporation | Magnetic disc surface treatment and apparatus |
US5119258A (en) * | 1990-02-06 | 1992-06-02 | Hmt Technology Corporation | Magnetic disc with low-friction glass substrate |
JP3232705B2 (ja) * | 1991-12-05 | 2001-11-26 | ソニー株式会社 | 光学記録ディスクからの樹脂材料の再生方法 |
FR2696235B1 (fr) * | 1992-09-30 | 1994-10-28 | Patrice Rat | Dispositif d'éclairement pour système d'analyse à fluorescence, par exemple fluorimètre pour microtitration notamment en biologie cellulaire. |
JPH06155271A (ja) * | 1992-11-16 | 1994-06-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気ディスクのバーニッシュ方法および装置 |
US5295329A (en) * | 1992-11-23 | 1994-03-22 | General Electric Company | Ceramic, air-cooled smoothing bar |
US5573444A (en) * | 1993-06-22 | 1996-11-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Polishing method |
WO1995000291A1 (en) * | 1993-06-24 | 1995-01-05 | Carman Charles M Jr | Ultra-precision lapping apparatus |
US5508077A (en) * | 1993-07-30 | 1996-04-16 | Hmt Technology Corporation | Textured disc substrate and method |
JPH0752019A (ja) * | 1993-08-10 | 1995-02-28 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テープを用いた清浄方法 |
US5628676A (en) * | 1995-03-02 | 1997-05-13 | Exclusive Design Company | Counter-balance for disk texturizing apparatus |
US5798164A (en) * | 1995-06-23 | 1998-08-25 | Stormedia, Inc. | Zone textured magnetic recording media |
US5895312A (en) * | 1996-10-30 | 1999-04-20 | International Business Machines Corporation | Apparatus for removing surface irregularities from a flat workpiece |
US5868857A (en) * | 1996-12-30 | 1999-02-09 | Intel Corporation | Rotating belt wafer edge cleaning apparatus |
US6062958A (en) | 1997-04-04 | 2000-05-16 | Micron Technology, Inc. | Variable abrasive polishing pad for mechanical and chemical-mechanical planarization |
US5885143A (en) * | 1997-07-17 | 1999-03-23 | Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd. | Disk texturing apparatus |
US6283838B1 (en) | 1999-10-19 | 2001-09-04 | Komag Incorporated | Burnishing tape handling apparatus and method |
JP4135301B2 (ja) * | 2000-07-17 | 2008-08-20 | ソニー株式会社 | 記録媒体の製造方法と製造装置 |
US6609958B2 (en) | 2000-12-21 | 2003-08-26 | Bausch & Lomb Incorporated | Apparatus and method for edging a contact lens |
US7121919B2 (en) * | 2001-08-30 | 2006-10-17 | Micron Technology, Inc. | Chemical mechanical polishing system and process |
US8192249B2 (en) * | 2009-03-12 | 2012-06-05 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. | Systems and methods for polishing a magnetic disk |
US8808459B1 (en) | 2010-09-01 | 2014-08-19 | WD Media, LLC | Method for cleaning post-sputter disks using tape and diamond slurry |
JP6113960B2 (ja) | 2012-02-21 | 2017-04-12 | 株式会社荏原製作所 | 基板処理装置および基板処理方法 |
JP2014205233A (ja) * | 2013-03-19 | 2014-10-30 | パナソニック株式会社 | 部品の加工方法及び加工装置 |
US9296082B1 (en) | 2013-06-11 | 2016-03-29 | WD Media, LLC | Disk buffing apparatus with abrasive tape loading pad having a vibration absorbing layer |
CA2999989C (en) * | 2015-09-28 | 2020-06-30 | Saint-Gobain Abrasives, Inc. | Method and system for removing material from a workpiece |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59110546A (ja) * | 1982-12-15 | 1984-06-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 研磨ヘツド |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3283447A (en) * | 1964-03-19 | 1966-11-08 | Hiram W Cretsinger | Platen for contour sanding, grinding and polishing |
US4535567A (en) * | 1983-08-26 | 1985-08-20 | Seaborn Development, Inc. | Computer magnetic media burnisher |
-
1984
- 1984-12-04 JP JP59256290A patent/JPS61136764A/ja active Granted
-
1985
- 1985-11-26 US US06/801,762 patent/US4656790A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59110546A (ja) * | 1982-12-15 | 1984-06-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 研磨ヘツド |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5065548A (en) * | 1988-06-06 | 1991-11-19 | Speedfam Company, Ltd. | Surface treating tape cartridge and surface treating machine |
US5065547A (en) * | 1988-06-06 | 1991-11-19 | Speedfam Company, Ltd. | Surface processing machine for hard disks and the like |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4656790A (en) | 1987-04-14 |
JPH057146B2 (ja) | 1993-01-28 |
US4656790B1 (ja) | 1989-01-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS61136764A (ja) | 磁気デイスクのバ−ニツシユ方法およびその装置 | |
US4514937A (en) | Method for the surface treatment of magnetic recording media | |
US6302767B1 (en) | Chemical mechanical polishing with a polishing sheet and a support sheet | |
JP2674730B2 (ja) | 半導体ウエハを平面化する装置及び方法、及び研磨パッド | |
US6241585B1 (en) | Apparatus and method for chemical mechanical polishing | |
JPH06155271A (ja) | 磁気ディスクのバーニッシュ方法および装置 | |
US20070021043A1 (en) | Chemical mechanical polishing apparatus with rotating belt | |
US6241583B1 (en) | Chemical mechanical polishing with a plurality of polishing sheets | |
JPH09103955A (ja) | 正常位置での研摩パッドの平坦さ調整方法及び装置 | |
EP1025955B1 (en) | Chemical mechanical polishing with a moving polishing sheet | |
JPS61199536A (ja) | テ−プ走行シヤフト表面の梨地模様成形方法 | |
JPH10244455A (ja) | ガラス基板平滑化装置 | |
JPH0624681B2 (ja) | バ−ニツシユ装置 | |
JP2654767B2 (ja) | 繰出し式研磨ベルトおよびそのベルトを用いた研磨ヘッド装置 | |
JP2758791B2 (ja) | ピン研磨装置 | |
JPH029562A (ja) | バーニッシュ装置 | |
JPH09314456A (ja) | 研磨布ドレッシング方法及び研磨装置 | |
JPS61203259A (ja) | 微小突起研磨方法 | |
JP2001088009A (ja) | ポリッシングパッドのドレッシング装置 | |
JPH0326468A (ja) | 研磨テープおよび基板の加工方法 | |
JPS59110546A (ja) | 研磨ヘツド | |
JP2002217146A (ja) | ウェーハ研磨装置 | |
JP3646430B2 (ja) | 化学的機械研磨方法及び化学的機械研磨装置 | |
JPH0950605A (ja) | 薄膜磁気ヘッド用基板の表面を平滑化する方法 | |
JPH029578A (ja) | 研磨テープのドレッシングまたはツルーイング方法およびドレッシングまたはツルーイング装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |