JPS61135148A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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Publication number
JPS61135148A
JPS61135148A JP59258674A JP25867484A JPS61135148A JP S61135148 A JPS61135148 A JP S61135148A JP 59258674 A JP59258674 A JP 59258674A JP 25867484 A JP25867484 A JP 25867484A JP S61135148 A JPS61135148 A JP S61135148A
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JP
Japan
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input protection
input
diffusion layers
type
terminal
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Pending
Application number
JP59258674A
Other languages
English (en)
Inventor
Michio Nakajima
中島 三智雄
Takenori Okitaka
毅則 沖高
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP59258674A priority Critical patent/JPS61135148A/ja
Publication of JPS61135148A publication Critical patent/JPS61135148A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • H01L27/0255Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using diodes as protective elements

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、入力保護回路を改良した半導体集積回路装
置(以下ICという)に関するものである。
〔従来の技術〕
第4図はn形基板にp形つェルを形成した従来の相補形
のICKおける入力保護回路図であり、1は入力端子、
2は、@1のIE諒端子、3は第2の1E源端子、4は
出力端子、5は第1のへ力保躾ダイオード、6は第2の
入力保護ダイオード、Tはpチャネルトランジスタ、8
はnチャネルトランジスタ、9は入力保護抵抗体、13
はゲート、14は寄生容量である。
第4図において、入力端子1に入力保護抵抗体9を介し
て2つの入力保護ダイオード5.6の一端と、pチャネ
ルトランジスタ7およびnチャネルトランジスタ8の各
ゲート部分が接続されている、l第1の入力保護ダイオ
ード5の他端は第1のiE@4子2に逆バイアスで接続
され、第2の入力検数ダイオード6の他端は第2の電源
端子3に逆バイアスで接続されている。
第5図は前記第4図の入力採機回路をn形の基板15に
設けたICの断面図であり、IQl、 102゜103
.104は寄生のバイポーラトランジスタ、10.11
は寄生抵抗体で、基a15に構造上形成されたものであ
る。
第6図は前記寄生のバイポーラトランジスタ101〜1
1]4および寄生抵抗体10.11を考慮した等価回路
図であり、バイポーラトランジスタ103゜104はサ
イリスタ構造をなし、このサイリスタ構造のトリガ入力
部分となるように寄生しているバイポーラトランジスタ
101,102の各エミッタは入力保護抵抗体9を介し
て入力端子1に接続されている。
上記のような従来の入力保護回路を有するICにおいて
は、入力保護抵抗体9の抵抗値と入力部の寄生容量14
の容量値の積による遅延時間くより、pチャネルトラン
ジスタ7、nチャネルトランジスタaのゲート13部分
にサージがかかる前に、サージは2つの入力保護ダイオ
ード5.6によりクランプされる。いま、これら2つの
入力保護ダイオード5.6の順方向降下電圧をV【とす
ると、入力端子1に正のサージが加わった場合のpチャ
ネルトランジスタ7、nチャネルトランジスタ8のゲー
ト電圧は、纂lの入力珠禮ダイオード5によりVcc+
V、の電圧となり、負のサージが加わった場合、第2の
入力保禮ダイオード6によりVss −Vf の電圧に
クランプされ、その範囲内に保たれる。なお、veaは
第1の11L源端子2の電圧を、vl、は第2の電fA
端子3の電圧を示している。
一方、サージ電流は入力保護抵抗体9を通り、正のサー
ジなら第1の入力保護ダイオード5を通り第1の電源端
子2へ、負のサージなら巣2の入力保護ダイオード6を
通り第2のIE源禰子3へ通過する@ また、入力保護抵抗体9は寄生のバイポーラトランジス
タ101のエミッタからベースへの電流IlBとバイポ
ーラトランジスタ102のベースからエミッタへのIE
流Inの制限抵抗として請き、寄生のサイリスタ構造で
あるバイポーラトランジスタ103,104のトリガ(
以下ラッチアップという)を緩和する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の入力保護回路を有するICでは、入力保護抵抗体
9が入力端子1に直接接続されているので、サージの大
部分がこの入力保護抵抗体9にかかり、サージ耐圧はこ
の入力保護抵抗体9の耐量に依存しなければならないと
いう問題点があった。
この発明は、かかる問題点を解決するためになされたも
ので、高サージ耐圧のICを得ることを目的とする。
〔問題点を解決するだめの手段〕
この発明に係るICは、giの導電形の基板に第2の導
電形の不純物を拡散して設けた複数の第1の拡散層と、
この第1の拡散層のうちの1つと第1の導′亀形の高不
純物濃度からなる複数の第2の拡散層のうちの1つとで
形成した第!の入力保護ダイオードと、この第1の入力
保護ダイオードの周辺を囲んだ第2の導電形のアイラン
ドと、このアイランド内に第1の導電形の不純物を拡散
して設けた第3の拡散層と前記第1の拡散層のうちの1
つとで形成した第2の入力保護ダイオードとからなり、
基板く形成した第1の導電形および第2の導電形のMO
Sトランジスタのゲート端子と入力端子との間に入力保
護抵抗体を設けるとともに%s1の″#L源瑞子に基板
を接続し、#!2の電源端子にアイランドを接続したも
のである。
〔作用〕
この発明においては、入力保護回路は入力保護抵抗体で
パワー消費がなされる前に、入力保護ダイオードにより
、サージをクランプし℃、入力サージ耐圧を入力保護抵
抗体に依存させることなく入力保膿ダイオードで受けて
いる。
〔実施例〕
第1図はこの発明の一実施−jのICEおける入力保護
回路を示す図であり、符号1〜9,13゜14は第4図
、第5図、第6図と同一のものを示す。第り図において
、入力端子1に第1の入力保護ダイオード5と第2の入
力保腫ダイオード6と入力保護抵抗体9の一端が接続さ
れる。次に、第1の入力保護ダイオード5の他端は第1
0t#端子2に逆バイアスで接続され、第2の人力保護
ダイオード6の他端は第2の電源端子3に逆バイアスで
接続される。さらに、入力保護抵抗体9の他端はnチャ
ネルトランジスタ7と1チヤネルトランジスタ8のゲー
ト13に接続される。
v42図は前記第1図の入力保護回路を設けたICの断
面図で、a形の基板15にp形の不純物を拡散して設け
た複数の第1の拡散層と、この第1の拡散層のうちの1
つとp形の高濃度不純物からなる複数の第2の拡散層の
うちの1つとで第lの入力保護ダイオード5を形成し、
この@lの入力保護ダイオード50周辺を囲んでp形の
アイランド12を複数個形成し、このアイランド12内
に1形の不純物を拡散して第3の拡散層を設け、このp
形の第3の拡散層と前記p形の第!の拡散層のうちの1
つとで第2の入力保護ダイオード6を形成し、また、前
記p形の@1の拡散層の115でpチャネルトランジス
タ1を形成し、さら(また、前記アイランド1201部
Kn形不純物を部数n形ロチャネルトランジスタaを形
成している。鵠2図において、101〜108は寄生の
バイポーラトランジスタ、IQ、11は寄生抵抗体であ
ることは纂5図と同じである。
第3図はバイポーラトランジスタ101〜108゜寄生
抵抗体10,1fを考直した等価回路図であり、第2図
で示したアイランド12によりできる寄生のバイポーラ
トランジスタ105,106のエミッタは入力端子1に
接続され、コレクタは第2の電源端子3に接続される。
上記のように構成された入力保護回路を有するICにお
いては、入力保護抵抗体9の抵抗櫃と入力部の寄生容量
14の容量値の積による遅延時間により、pチャネルト
ランジスタro  nチャネルトランジスタ8のゲート
13にサージがかかる前に、サージは2つの入力保護ダ
イオード5,6によりクランプされる。いま、2つの入
力保護ダイオード5.6の順方向の降下電圧をVfとす
ると。
、入力端子に正のサージが加わった場合、nチャネルト
ランジスタ7、nチャネルトランジスタ8のゲート電圧
は、第1の入力保護ダイオード5により電圧vce+v
f となり、負のサージが加わった場合、第2の入力保
護ダイオード6により電圧v0−vf  にクランプさ
れ、七の電圧範囲内に保たれる。
一方、サージ%fLは2つの入力保護ダイオード5、 
6を通り第1の電源端子21m2の電源端子3へ流れ、
入力保護抵抗体9ではパワーは消it6れない。また、
正のサージが加わった場合、寄生のサイリスタ構造であ
るバイポーラトランジスタIQ3.104のトリガの役
目を釆て寄生のバイポーラトランジスタ101よりエミ
ッタ接地順方向1L流増1鴫率の高いバイポーラトラン
ジスタ105゜106がサージIE流を第2の電源端子
3に通過させてしまい、バイポーラトランジスタ101
の電流を抑え、ランチアップを緩和する。
なお、上記実施例では、n形基衣上Kp形ウェルを形成
した場合について説明したが、p形基板上Kn形ウェル
を形成した場合についても同様な結果が得られるのはい
うまでもないことである。
また、この発明の一実施例としてCMO8集積回路忙つ
いて説明したが、チップ製造において、バイポーラトラ
ンジスタと0MO8を組合わせたBI−CMO8集積回
路装置についても同様の結果が得られる。
〔発明の効果〕
この発明は以上説明したとおり、第1の拡散層と第3の
拡散層とを入力端子および入力保護抵抗体の一端に接続
し、この人力保護抵抗体の他端を基板内に形成した第1
の導電形のMOSトランジスタおよび第2の導゛亀形の
MOSトランジスタのゲート端子に接続し、アイランド
を第2の電源端子に接続し、前記基板を第1の電源端子
に接続したので、サージは2つの入力保護ダイオードに
、人力保護抵抗体を介さないで直接かかるように構成さ
れており、入力部#!に抵抗体のパワーの消費がなく、
入力保護抵抗体に依存しない高耐圧のICを得られる効
果があり、また、第1の電源端子と入力端子間に逆バイ
アスで接合された入力保護ダイオードをアイランドで囲
むように構成したので、ラッチアップ耐量の低下を抑え
る効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例によるICの入力保a装置
を示す回路図、第2図は第1図の装置の断面およびIC
による寄生素子を記したICの構成を示す断面図、第3
図は第2図の寄生素子の等価回路図、第4図は従来のI
Cの入力像a装置を示す回路図、第5図は第4図の装置
の断面および寄生素子を記したICの構成を示す断面図
、第6図は第5図の寄生素子の等1111i回路図であ
る。 図において、1は入力端子、2は第1の電源端子、3は
第2の′電源端4.4はゲート端子、5゜6は入力保護
ダイオード、7はpチャネルトランジスタ、8はnチャ
ネルトランジスタ、9は入力保護抵抗体、10.11は
寄生抵抗体、12はアイランド、13はゲート、14は
寄生容量、15は基板である。 なお、各図中の同一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  第1の導電形の基板に第2の導電形の不純物を拡散し
    て設けた複数の第1の拡散層と、この第1の拡散層のう
    ちの1つと第1の導電形の高不純物濃度からなる複数の
    第2の拡散層のうちの1つとで形成した第1の入力保護
    ダイオードと、この第1の入力保護ダイオードの周辺を
    囲んだ第2の導電形のアイランドと、このアイランド内
    に第1の導電形の不純物を拡散して設けた第3の拡散層
    と前記第1の拡散層のうちの1つとで形成した第2の入
    力保護ダイオードとからなり、前記第1の拡散層と第3
    の拡散層とを入力端子および入力保護抵抗体の一端に接
    続し、前記入力保護抵抗体の他端を前記基板内に形成し
    た第1の導電形のMOSトランジスタおよび第2の導電
    形のMOSトランジスタのゲート端子にそれぞれ接続し
    、前記アイランドを第2の電源端子に接続し、前記基板
    を第1の電源端子に接続したことを特徴とする半導体集
    積回路装置。
JP59258674A 1984-12-05 1984-12-05 半導体集積回路装置 Pending JPS61135148A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61156854A (ja) * 1984-12-28 1986-07-16 Mitsubishi Electric Corp 相補型mos半導体装置の入力保護回路
CN104465646A (zh) * 2013-09-13 2015-03-25 株式会社东芝 半导体装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61156854A (ja) * 1984-12-28 1986-07-16 Mitsubishi Electric Corp 相補型mos半導体装置の入力保護回路
JPH0312786B2 (ja) * 1984-12-28 1991-02-21 Mitsubishi Electric Corp
CN104465646A (zh) * 2013-09-13 2015-03-25 株式会社东芝 半导体装置

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