JPS6112999B2 - - Google Patents
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- JPS6112999B2 JPS6112999B2 JP11180385A JP11180385A JPS6112999B2 JP S6112999 B2 JPS6112999 B2 JP S6112999B2 JP 11180385 A JP11180385 A JP 11180385A JP 11180385 A JP11180385 A JP 11180385A JP S6112999 B2 JPS6112999 B2 JP S6112999B2
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- plating film
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- titanium
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- metallic luster
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Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属光沢クロムメツキ被膜の形成方
法に関するものである。
法に関するものである。
チタニウムまたはその合金は、軽量で高強度を
有するなど種々の優れた性質をもつているが、耐
摩耗性および耐スクラツチ性に劣つている。この
ため、チタニウムまたはその合金を筐体として使
用する場合、その表面にメツキ被膜を施す必要が
ある。しかし、チタニウムまたはその合金は、ス
テンレスやアルミニウムなどと較べて表面活性な
性質をもつているため、電気メツキの際、空気中
あるいは水中で即座にその表面に酸化被膜が形成
されてしまい、このために密着性の良いメツキ被
膜を形成することが難しかつた。
有するなど種々の優れた性質をもつているが、耐
摩耗性および耐スクラツチ性に劣つている。この
ため、チタニウムまたはその合金を筐体として使
用する場合、その表面にメツキ被膜を施す必要が
ある。しかし、チタニウムまたはその合金は、ス
テンレスやアルミニウムなどと較べて表面活性な
性質をもつているため、電気メツキの際、空気中
あるいは水中で即座にその表面に酸化被膜が形成
されてしまい、このために密着性の良いメツキ被
膜を形成することが難しかつた。
これまで、例えば特公昭46−12882号公報に記
載されている様に酸化被膜を形成したチタニウム
またはその合金を貴金属塩溶液中に浸漬すること
によつて、チタニウムまたはその合金の表面に直
接貴金属を化学的に還元析出させる方法が見い出
されている。
載されている様に酸化被膜を形成したチタニウム
またはその合金を貴金属塩溶液中に浸漬すること
によつて、チタニウムまたはその合金の表面に直
接貴金属を化学的に還元析出させる方法が見い出
されている。
一方、金属光沢のメツキとして従来から金属光
沢クロムメツキ被膜がある。金属光沢クロムメツ
キ被膜は、一般に均一性及び密着性に優れたもの
であるが、チタニウムまたはその合金との密着性
が悪かつた。このため、チタニウムまたはその合
金によつて構成される筐体、例えばカメラのカバ
ー部材、ステレオの筐体あるいは化粧板などで
は、均一性並びに密着性に優れた金属光沢クロム
メツキ被膜を形成させることは極めて困難であつ
た。従つて、これまでのチタニウムまたはその合
金によつて構成される筐体は、塗装仕上げによる
ものに限られているが、塗装仕上げは表面にシヤ
ープな金属感を与えることが要求される商品には
全く適したものではなかつた。しかも、塗装によ
る従来のチタニウムまたはその合金製筐体は表面
特性(例えば、耐蝕性、耐候性、耐摩耗性、耐傷
性など)の点で劣つていた。
沢クロムメツキ被膜がある。金属光沢クロムメツ
キ被膜は、一般に均一性及び密着性に優れたもの
であるが、チタニウムまたはその合金との密着性
が悪かつた。このため、チタニウムまたはその合
金によつて構成される筐体、例えばカメラのカバ
ー部材、ステレオの筐体あるいは化粧板などで
は、均一性並びに密着性に優れた金属光沢クロム
メツキ被膜を形成させることは極めて困難であつ
た。従つて、これまでのチタニウムまたはその合
金によつて構成される筐体は、塗装仕上げによる
ものに限られているが、塗装仕上げは表面にシヤ
ープな金属感を与えることが要求される商品には
全く適したものではなかつた。しかも、塗装によ
る従来のチタニウムまたはその合金製筐体は表面
特性(例えば、耐蝕性、耐候性、耐摩耗性、耐傷
性など)の点で劣つていた。
本発明は、上記した従来技術の欠点に鑑みてな
されたもので、チタニウムまたはその合金製基体
の表面に密着性良く金属光沢クロムメツキ被膜を
施すことができる金属光沢クロムメツキ被膜の形
成方法を提供することを目的とする。
されたもので、チタニウムまたはその合金製基体
の表面に密着性良く金属光沢クロムメツキ被膜を
施すことができる金属光沢クロムメツキ被膜の形
成方法を提供することを目的とする。
本発明の金属光沢クロムメツキ被膜の形成方法
は、チタニウムまたはその合金製基体の表面にク
ロムメツキ被膜を形成し、更に前記クロムメツキ
被膜の表面に金属光沢クロムメツキ被膜を形成す
るものである。
は、チタニウムまたはその合金製基体の表面にク
ロムメツキ被膜を形成し、更に前記クロムメツキ
被膜の表面に金属光沢クロムメツキ被膜を形成す
るものである。
以下、図面を参照して本発明の好適な実施例に
ついて説明する。
ついて説明する。
第1図は、本発明の形成方法で金属光沢クロム
メツキ被膜を形成したチタニウムまたはその合金
製筐体の一例としてカメラのカバー部材を示した
正面図で、第2図は第1図に示すカバー部材のA
−A断面図である。
メツキ被膜を形成したチタニウムまたはその合金
製筐体の一例としてカメラのカバー部材を示した
正面図で、第2図は第1図に示すカバー部材のA
−A断面図である。
1はチタニウムまたはその合金でできた基体で
あり、第1図に示すカバー部材の形状に成形され
ている。チタニウムまたはその合金製基体1の表
面にはクロムメツキ被膜2が形成されている。こ
のクロムメツキ被膜2は、チタニウムまたはその
合金製基体1との密着性にすぐれている。
あり、第1図に示すカバー部材の形状に成形され
ている。チタニウムまたはその合金製基体1の表
面にはクロムメツキ被膜2が形成されている。こ
のクロムメツキ被膜2は、チタニウムまたはその
合金製基体1との密着性にすぐれている。
クロムメツキ被膜2は、電気メツキの際メツキ
液として水溶性フツ素化合物を添加してなる酸化
クロム()の水溶液を使用することによつて、
チタニウムまたはその合金基体1の上に酸化被膜
を形成させることなく設けられる。この際に用い
る水溶性フツ素化合物としては、フツ化ナトリウ
ム、フツ化アンモニウム、フツ化カリウム、フツ
化水素ナトリウム、フツ化水素アンモニウム、フ
ツ化水素カリウム、フツ化水素酸などを挙げるこ
とができ、4g/以上でメツキ液に添加される
ことが適している。酸化クロムは、250g/以
上で用いることができるが、好ましくは350g/
〜600g/で用いることが適している。特
に、クロムメツキ被膜2を形成するのに使用する
メツキ液は、通常のステンレスやアルミニウムな
どをクロムメツキする際に用いるメツキ液に較べ
て高濃度の酸化クロムとフツ素化合物を含有して
いるのが好ましく、クロムメツキ被膜2の耐剥離
性などの密着性が改善される。
液として水溶性フツ素化合物を添加してなる酸化
クロム()の水溶液を使用することによつて、
チタニウムまたはその合金基体1の上に酸化被膜
を形成させることなく設けられる。この際に用い
る水溶性フツ素化合物としては、フツ化ナトリウ
ム、フツ化アンモニウム、フツ化カリウム、フツ
化水素ナトリウム、フツ化水素アンモニウム、フ
ツ化水素カリウム、フツ化水素酸などを挙げるこ
とができ、4g/以上でメツキ液に添加される
ことが適している。酸化クロムは、250g/以
上で用いることができるが、好ましくは350g/
〜600g/で用いることが適している。特
に、クロムメツキ被膜2を形成するのに使用する
メツキ液は、通常のステンレスやアルミニウムな
どをクロムメツキする際に用いるメツキ液に較べ
て高濃度の酸化クロムとフツ素化合物を含有して
いるのが好ましく、クロムメツキ被膜2の耐剥離
性などの密着性が改善される。
また、前述の電気メツキに先立つて酸化被膜が
形成されているチタニウムまたはその合金製基体
1をフツ素化合物の水溶液に浸漬して、その酸化
被膜をエツチングし、次いで水洗することによ
り、均一な薄い酸化被膜を表面に形成させておく
ことが望ましい。この際に用いるフツ素化合物と
しては、フツ化ナトリウム、フツ化アンモニウ
ム、フツ化カリウム、フツ化水素ナトリウム、フ
ツ化水素アンモニウム、フツ化水素カリウムなど
を拳げることができ、約50g/以上の濃度で含
有されることが適している。このフツ素化合物の
水溶液からなる前浴は、チタニウムまたはその合
金製基体1の表面に形成された酸化被膜の厚み
が、電気メツキに支障を与えないだけ薄いもので
あれば、特に必要とするものではない。また、こ
のフツ素化合物の水溶液に硫酸、塩酸などで添加
して前記同様の前浴に用いることもできる。
形成されているチタニウムまたはその合金製基体
1をフツ素化合物の水溶液に浸漬して、その酸化
被膜をエツチングし、次いで水洗することによ
り、均一な薄い酸化被膜を表面に形成させておく
ことが望ましい。この際に用いるフツ素化合物と
しては、フツ化ナトリウム、フツ化アンモニウ
ム、フツ化カリウム、フツ化水素ナトリウム、フ
ツ化水素アンモニウム、フツ化水素カリウムなど
を拳げることができ、約50g/以上の濃度で含
有されることが適している。このフツ素化合物の
水溶液からなる前浴は、チタニウムまたはその合
金製基体1の表面に形成された酸化被膜の厚み
が、電気メツキに支障を与えないだけ薄いもので
あれば、特に必要とするものではない。また、こ
のフツ素化合物の水溶液に硫酸、塩酸などで添加
して前記同様の前浴に用いることもできる。
クロムメツキ被膜2を形成する電気メツキで
は、電流密度を10A/dm2〜30A/dm2とするの
が好ましく、メツキ液の温度は10℃〜60℃とする
のが好ましい。硬質のクロムメツキ被膜(800ビ
ツカースカタサ以上)2は、電流密度を高くする
ことによつて得られ、一般的には15A/dm2以上
とすることにより硬質のクロムメツキ被膜2が得
られる。
は、電流密度を10A/dm2〜30A/dm2とするの
が好ましく、メツキ液の温度は10℃〜60℃とする
のが好ましい。硬質のクロムメツキ被膜(800ビ
ツカースカタサ以上)2は、電流密度を高くする
ことによつて得られ、一般的には15A/dm2以上
とすることにより硬質のクロムメツキ被膜2が得
られる。
クロムメツキ被膜2の表面には、更に金属光沢
クロムメツキ被膜3が形成されている。クロムメ
ツキ被膜2は、金属光沢クロムメツキ被膜3との
密着性にもすぐれている。
クロムメツキ被膜3が形成されている。クロムメ
ツキ被膜2は、金属光沢クロムメツキ被膜3との
密着性にもすぐれている。
金属光沢クロムメツキ被膜3は、金属光沢クロ
ムメツキ液(例えば、ケイフツ化浴:酸化クロム
300g/、硫酸0.5g/、Cr3+3g/および
K2SiF68g/からなる水溶液)を用いて電気メ
ツキすることによつて、クロムメツキ被膜2の上
に設けられる。
ムメツキ液(例えば、ケイフツ化浴:酸化クロム
300g/、硫酸0.5g/、Cr3+3g/および
K2SiF68g/からなる水溶液)を用いて電気メ
ツキすることによつて、クロムメツキ被膜2の上
に設けられる。
このように、チタニウムまたはその合金製基体
1と金属光沢クロムメツキ被膜3との間に、チタ
ニウムまたはその合金製基体1と金属光沢クロム
メツキ被膜3との両方に密着性の良いクロムメツ
キ被膜2を設けることによつて、チタニウムまた
はその合金製基体1に金属光沢クロムメツキ被膜
3を施したチタニウムまたはその合金筐体を得る
ことができる。尚、第2図ではクロムメツキ被膜
及び金属光沢クロムメツキ被膜3の厚みを誇張し
て示してあり、実際の厚みを示すものではない。
クロムメツキ被膜2及び金属光沢クロムメツキ被
膜3の厚みは、通常のメツキ被膜の厚みと変わら
ない。
1と金属光沢クロムメツキ被膜3との間に、チタ
ニウムまたはその合金製基体1と金属光沢クロム
メツキ被膜3との両方に密着性の良いクロムメツ
キ被膜2を設けることによつて、チタニウムまた
はその合金製基体1に金属光沢クロムメツキ被膜
3を施したチタニウムまたはその合金筐体を得る
ことができる。尚、第2図ではクロムメツキ被膜
及び金属光沢クロムメツキ被膜3の厚みを誇張し
て示してあり、実際の厚みを示すものではない。
クロムメツキ被膜2及び金属光沢クロムメツキ被
膜3の厚みは、通常のメツキ被膜の厚みと変わら
ない。
以下に、本発明の形成方法を用いてチタニウム
またはその合金製基体に実際に金属光沢クロムメ
ツキ被膜を施した例を示す。
またはその合金製基体に実際に金属光沢クロムメ
ツキ被膜を施した例を示す。
まず、溶剤脱脂および#120のガラスビーズに
よるホーニング加工を予め施した第1図に示す形
状のチタニウム基体1を、フツ化アンモニウムの
100g/水溶液に2分間浸漬してエツチング
し、その後水洗した。次いで、酸化クロム500
g/およびフツ化アンモニウム20g/を含む
常温のメツキ液中で、水洗後のチタニウム板を陰
極となして20A/dm2の電流密度下で10分間電気
メツキした。この結果、無光沢で灰白色のクロム
メツキ被膜2がチタニウム基体1の上に形成され
た。
よるホーニング加工を予め施した第1図に示す形
状のチタニウム基体1を、フツ化アンモニウムの
100g/水溶液に2分間浸漬してエツチング
し、その後水洗した。次いで、酸化クロム500
g/およびフツ化アンモニウム20g/を含む
常温のメツキ液中で、水洗後のチタニウム板を陰
極となして20A/dm2の電流密度下で10分間電気
メツキした。この結果、無光沢で灰白色のクロム
メツキ被膜2がチタニウム基体1の上に形成され
た。
次いで、クロムメツキ被膜2を有するチタニウ
ム基体1を金属光沢クロム液(前述のケイフツ化
浴を用いる)に浸漬させて電気メツキした。この
電気メツキは、25A/dm2の電流密度下で5分間
実施した。この結果、クロムメツキ被膜2の上に
金属光沢クロムメツキ被膜3が形成された。
ム基体1を金属光沢クロム液(前述のケイフツ化
浴を用いる)に浸漬させて電気メツキした。この
電気メツキは、25A/dm2の電流密度下で5分間
実施した。この結果、クロムメツキ被膜2の上に
金属光沢クロムメツキ被膜3が形成された。
以上説明したように本発明の金属光沢クロムメ
ツキ被膜の形成方法によれば、チタニウムまたは
その合金製基体と金属光沢クロムメツキ被膜との
間に、チタニウムまたはその合金製基体と金属光
沢クロムメツキ被膜の両方に密着性の良いクロム
メツキ被膜を設けるので、チタニウムまたはその
合金製基体に金属光沢クロムメツキ被膜を施すこ
とが可能である。このため、本発明の形成方法で
金属光沢クロムメツキ被膜を形成したチタニウム
またはその合金製筐体は、これまでの塗装を施し
た筐体と比較して外観および表面特性(例えば、
耐蝕性、耐候性、耐摩耗性、耐傷性など)の点で
優れているものである。
ツキ被膜の形成方法によれば、チタニウムまたは
その合金製基体と金属光沢クロムメツキ被膜との
間に、チタニウムまたはその合金製基体と金属光
沢クロムメツキ被膜の両方に密着性の良いクロム
メツキ被膜を設けるので、チタニウムまたはその
合金製基体に金属光沢クロムメツキ被膜を施すこ
とが可能である。このため、本発明の形成方法で
金属光沢クロムメツキ被膜を形成したチタニウム
またはその合金製筐体は、これまでの塗装を施し
た筐体と比較して外観および表面特性(例えば、
耐蝕性、耐候性、耐摩耗性、耐傷性など)の点で
優れているものである。
第1図は本発明の形成方法で金属光沢クロムメ
ツキ被膜を形成したチタニウムまたはその合金製
筐体の一例としてカメラのカバー部材を示した正
面図、第2図は第1図に示すカバー部材のA−A
断面図である。 1……チタニウムまたはその合金基体、2……
クロムメツキ被膜、3……金属光沢クロムメツキ
被膜。
ツキ被膜を形成したチタニウムまたはその合金製
筐体の一例としてカメラのカバー部材を示した正
面図、第2図は第1図に示すカバー部材のA−A
断面図である。 1……チタニウムまたはその合金基体、2……
クロムメツキ被膜、3……金属光沢クロムメツキ
被膜。
Claims (1)
- 1 チタニウムまたはその合金製基体の表面にク
ロムメツキ被膜を形成し、更に前記クロムメツキ
被膜の表面に金属光沢クロムメツキ被膜を形成す
ることを特徴とする金属光沢クロムメツキ被膜の
形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11180385A JPS61596A (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | 金属光沢クロムメツキ被膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11180385A JPS61596A (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | 金属光沢クロムメツキ被膜の形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61596A JPS61596A (ja) | 1986-01-06 |
JPS6112999B2 true JPS6112999B2 (ja) | 1986-04-11 |
Family
ID=14570550
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11180385A Granted JPS61596A (ja) | 1985-05-23 | 1985-05-23 | 金属光沢クロムメツキ被膜の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61596A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2268982B (en) * | 1992-07-21 | 1996-03-13 | Dowty Aerospace Gloucester | Bearings |
JP6771755B2 (ja) * | 2016-04-04 | 2020-10-21 | 株式会社豊栄工業 | 装飾品及びその製造方法 |
-
1985
- 1985-05-23 JP JP11180385A patent/JPS61596A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61596A (ja) | 1986-01-06 |
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