JPS61596A - 金属光沢クロムメツキ被膜の形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属光沢クロムメッキ被膜の形成方法に関す
るものである。

チタニウムまたはその合金は、軽量で高強度を有するな
ど種々の優れた性質をもっているが、耐摩耗性および耐
スクラッチ性に劣っている。このため、チタニウムまた
はその合金を筺体として使用する場合、その表面にメッ
キ被膜を施す必要がある。しかし、チタニウムまたはそ
の合金は、ステンレスやアルミニウムなどと較べて表面
活性な？１質をもっているため、電気メッキの際、空気
中あるいは水中で即座にその表面に酸化被膜が形成され
てしまい、このために密着性の良いメッキ被膜を形成す
ることが難しかった。

これまで、例えば特公昭４６−１２８８２号公報に記載
されている様に酸化被膜を形成したチタニウムまたはそ
の合金を貴金属塩溶液中に浸漬することによって、チタ
ニウムまたはその合金の表面に直接貴金属を化学的に還
元析出させる方法が見い出されている。

一方、金属光沢のメッキとして従来から金属光沢クロム
メッキ被膜がある。金属光沢クロムメッキ被膜は、一般
に均−性及び密着性に優れたものであるが、チタニウム
またはその合金との密着性が悪かった。このため、チタ
ニウムまたはその合金によって構成される筺体、例えば
カメラのカバ一部材、ステレオの筐体あるいは化粧板な
どでは、均−性並びに密着性に優れた金属光沢クロムメ
ッキ被膜を形成させることは極めて困難であった。従っ
て、これまでのチタニウムまたはその合金によって構成
される筐体は、塗装仕上げによるものに限られているが
、塗装仕上げは表面にシャープな金属感を与えることが
要求される商品には全く適したものではなかった。しか
も、塗装による従来のチタニウムまたはその合金製筐体
は表面特性（例えば、耐蝕性、耐候性、耐摩耗性。

耐傷性なと）の点で劣っていた。

本発明は、上記した従来技術の欠点に鑑みてなされたも
ので、チタニウムまたはその合金製基体の表面に密着性
良く金属光沢クロムメッキ被膜を施すことができる金属
光沢クロムメッキ被膜の形成方法を提供することを目的
どする。

本発明の金属光沢クロムメッキ被膜の形成方法は、チタ
ニウムまたはその合金製基体の表面にクロムメッキ被膜
を形成し、更に前記クロムメッキ被膜の表面に金属光沢
クロムメッキ被膜を形成するものである。

以下、図面を参照して本発明の好適な実施例に（ついて
説明する。

第１図は、本発明の形成方法で金属光沢クロムメッキ被
膜を形成したチタニウムまたはその合金製筐体の一例と
してカメラのカバ一部材を示した正面図で、第２図は第
１図に示すカバ一部材のＡ−Ａ断面図である。

１はチタニウムまたはその合金でできた基体であり、第
１図に示すカバ一部材の形状に成形されている。チタニ
ウムまたはその合金製基体１の表面にはクロムメッキ被
膜２が形成されている。このクロムメッキ被膜２は、チ
タニウムまたはその合金製基体１との密着性にすぐれて
いる。

クロムメッキ被膜２は、電気メッキの際メッキ液として
水溶性フッ素化合物を添加してなる酸化クロム（Ｗ）の
水溶液を使用することによって、チタニウムまたはその
合金基体１の上に酸化被膜を形成させることなく設けら
れる。この際に用いる水溶性フッ素化合物としては、フ
ッ化ナトリウム、フッ化アンモニウム、フッ化カリウム
、フッ化水素ナトリウム、フッ化水素アンモニウム、フ
ッ化水素カリウム、フッ化水素酸などを挙げ・ることが
でき、４ｇ／文以上でメッキ液に添加されることが適し
ている。酸化クロムは、２５０ｇ／１以上で用いること
ができるが、好ましくは３５０　ｇ／文〜６００ｇ／ｕ
で用いることが適している。特に、クロムメッキ被膜２
を形成するのに使用するメッキ液は、通常のステンレス
やアルミニウムなどをクロムメッキする際に用いるメッ
キ液に較べて高濃度の酸化クロムとフッ素化合物を含有
しているのが好ましく、クロムメッキ被膜の耐剥離性な
どの密着性が改善される。

また、前述の電気メッキに先立って酸化被膜が形成され
ているチタニウムまたはその合金製基体１をフッ素化合
物の水溶液に浸漬して、その酸化被膜をエツチングし、
次いで水洗することにより、均一な薄い醇化被膜を表面
に形成させておくことが望ましい。この際に用いるフッ
素化合物としては、フッ化ナトリウム、フッ化アンモニ
ウム、フッ化カリウム、フッ化水素ナトリウム、フッ化
水素アンモニウム、フッ化水素カリウムなどを挙げるこ
とができ、約５０　ｇ／文以」二の濃度で含有されるこ
とが適している。このフッ素化合物の水溶液からなる前
浴は、チタニウムまたはその合金製基体１の表面に形成
された酸化被膜の厚みが、電気メッキに支障を与えない
だけ薄いものであれば、特に必要とするものではない。

また、このフッ素化合物の水溶液に硫酸、塩酸などで添
加して前記同様の前浴に用いることもできる。

クロムメッキ被膜２を形成する電気メッキでは、電流密
度を１０Ａｌｄｍ’　〜３０Ａ／ｄｍ’とするのが好ま
しく、メッキ液の温度は１０℃〜６０°Ｃとするのが好
ましい。硬質のクロムメッキ被膜（８００ビツ力−スカ
タサ以上）２は、電流密度を高くすることによって得ら
れ、一般的には１５Ａ　／　ｄ　ｍ’以上とすることに
より硬質のクロムメッキ被膜２が得られる。

クロムメッキ被膜２の表面には、更に金属光沢クロムメ
ッキ被膜３が形成されている。クロムメッキ被膜２は、
金属光沢クロムメッキ被ＩＩＩ　３との密着性にもすぐ
れている。

金属光沢クロムメッキ被膜３は、金属光沢クロム液（例
えば、ケイフッ化浴二酸化クロム３００ｇ／ｌ、硫酸０
．５ｇ／ｕ、Ｃｒ３す３ｇ、／ｌおよびに２　Ｓ　ｉ　
Ｆ６８　ｇ／ｆｌからなる水溶液）を用いて電気メッキ
することによって、クロムメッキ被膜２の」二に設けら
れる。

このように、チタニウムまたはその合金製基体ｌと金属
光沢クロムメッキ被膜３との間に、チタニウムまたはそ
の合金製基体ｌと金属光沢クロムメッキ被膜３との両方
に密着性の良いクロムメッキ被膜２を設けることによっ
て、チタニウムまたはその合金製基体ｌに金属光沢クロ
ムメッキ被膜３を施したチタニウムまたはその合金製筐
体を得ることができる。尚、第２図ではクロムメッキ被
膜２及び金属光沢クロムメッキ被膜３の厚みを誇張して
示してあり、実際の厚みを示すものではない。クロムメ
ッキ被膜２及び金属光沢クロムメッキ被膜３の厚みは、
通常のメッキ被膜の厚みと変わらない。

以下に、本発明の形成方法を用いてチタニウムまたはそ
の合金製基体に実際に金属光沢クロムく　　　　　メッ
キ被膜を施した例を示す。

まず、溶剤脱脂および＃１２０のガラスピーズ形状のチ
タニウム基体１を、フッ化アンモニウムの１００ｇ／文
水溶液に２分間浸漬してエツチングし、その後水洗した
。次いで、酸化クロム５００　ｇ／ｕおよびフッ化アン
モニウム２ｏｇ／又を含む常温のメッキ液中で、水洗後
のチタニウム板を陰極となして２０Ａ／ｄｒｎ’の電流
密度下で１０分間電気メツキした。この結果、無光沢で
灰白色のクロムメッキ被膜２がチタニウム基体１の上に
形成された。

次いで、クロムメッキ被膜２を有するチタニウム基体１
を金属光沢クロム液（前述のケイフッ化浴を用いる）に
浸漬させて電気メッキした。この電気メッキは、２５Ａ
／ｄｒｒｆの電流密度で５分間実施した。この結果、ク
ロムメッキ被膜２の上に金属光沢クロムメッキ被膜３が
形成された。

黛尼−＊：、：、尺 以」二説明したように本発明のだ→噂りロムメッキ被膜
の形成方法によれば、チタニウムまたはその合金製基体
と金属光沢クロムメッキ被膜との間に、チタニウムまた
はその合金製基体と金属光沢クロムメッキ被膜の両方に
密着性の良いクロムメッキ被膜を設けるので、チタニウ
ムまたはその合金製基体に金属光沢クロムメッキ被膜を
施すことが可能である。このため、本発明の形成方法で
金属光沢クロムメッキ被Ｈりを形成したチタニウムまた
はその合金製筐体は、これまでの塗装を施した筺体と比
較して外観および表面特性（例えば、＃触性、耐候性、
耐摩耗性、耐傷性なと）の点で優れているものである。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の形成方法で金属光沢クロムメッキ被膜
を形成したチタニウムまたはその合金製筐体の一例とし
てカメラのカバ一部材を示した正面図、第２図は第１図
に示すカバ一部材のＡ−Ａ断面図である。 １−一一一チタニウムまたはその合金基体？−−−−ク
ロムメッキ被膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. チタニウムまたはその合金製基体の表面にクロムメッキ
   被膜を形成し、更に前記クロムメッキ被膜の表面に金属
   光沢クロムメッキ被膜を形成することを特徴とする金属
   光沢クロムメッキ被膜の形成方法。