JPS61595A - ブラツククロムメツキ被膜の形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ブラッククロムメッキ被膜の形成方法に関す
るものである。

チタニウムまたはその合金は、軽量で高強度を有するな
ど種々の優れた性質をもっているが、耐摩耗性および耐
スクラッチ性に劣っている。このため、チタニウムまた
はその合金を筐体として使用する場合、その表面にメッ
キ被膜を施す必要がある。しかし、チタニウムまたはそ
の合金は、ステンレスやアルミニウムなどと較べて表面
活性な性質をもっているため、電気メッキの際、空気中
あるいは水中で即座にその表面に酸化被膜が形成されて
しまい、このために密着性の良いメッキ被膜を形成する
ことが難しかった。

これまで、例えば特公昭４６−１２８８２号公報に記載
されている様に酸化被膜を形成したチタニウムまたはそ
の合金を貴金属塩溶液中に浸漬することによって、チタ
ニウムまたはその合金の表面に直接貴金属を化学的に還
元析出させる方法が見い出されている・ 一方、黒色のメッキとして従来からブラッククロムメッ
キ被膜がある。ブラッククロムメッキ被膜は、一般に均
−性及び密着性に優れたものであるが、チタニウムまた
はその合金との密着性が悪かった。このため、チタニウ
ムまたはその合金によって構成される筐体、例えばカメ
ラのカバ一部材、ステレオの筐体あるいは化粧板などで
は、均−性並びに密着性に優れたブラッククロムメッキ
被膜を形成させることは極めて困難であった。

従って、これまでのチタニウムまたはその合金によって
構成される筺体は、塗装仕上げによるものに限られてい
るが、塗装仕上げは表面にシャープな金属感を与えるこ
とが要求される商品には全く適したものではなかった。

しかも、塗装による従来のチタニウムまたはその合金製
筺体は表面特性（例えば、耐蝕性、＃候性、耐摩耗性、
耐傷性など）の点で劣っていた。

本発明は、上記しｊこ従来技術の欠点に鑑みてなされた
もので、チタニウムまたはその合金製基体の表面に密着
性良くブラッククロムメッキ被膜を施すことができるブ
ラッククロムメッキ被膜の形成方法を提供することを目
的とする。

本発明のブラッククロムメッキ被膜の形成方法は、チタ
ニウムまたはその合金製基体の表面にクロムメッキ被膜
を形成し、更に前記クロムメッキ被膜の表面にブラック
クロムメッキ被膜を形成するものである。

以下、図面を参照して本乍明の好適な実施例に４　　　
　　ついて説明する。

第１図は、本発明の形成方法でブラッククロムメッキ被
膜を形成したチタニウムまたはその合金製筐体の一例と
してカメラのカバ一部材を示した正面図で、第２図は第
１図に示すカバ一部材のＡ−Ａ断面図である。

１はチタニウムまたはその合金でできた基体であり、第
１図に示すカバ一部材の形状に成形されている。チタニ
ウムまたはその合金製基体１の表面にはクロムメッキ被
膜２が形成されている。このクロムメッキ被膜２は、チ
タニウムまたはその合金製基体１との密着性にすぐれて
いる。

クロムメッキ被Ｈり２は、電気メッキの際メッキ液とし
て水溶性フッ素化合物を添加してなる酸化クロムｌ）の
水溶液を使用することによって、チタニウムまたはその
合金基体ｌの上に酸化被膜を形成させることなく設けら
れる。この際に用いる水溶性フッ素化合物としては、フ
ッ化ナトリウム、フッ化アンモニウム、フッ化カリウム
、フッ化水素ナトリウム、フッ化水素アンモニウム、フ
ッ化水素カリウム、フッ化水素酸などを挙げることがで
き、４ｇ／文以上、好ましくはｌ。

ｇ／文〜５０／すでメッキ液に添加されることが適して
いる。酸化クロムは、２５０ｇ／１以上で用いることが
できるが、好ましくは３５０ｇ／Ｊ１〜６０’Ｏｇ／ｕ
で用いることが適している。特に、クロムメッキ被膜２
を形成するのに使用するメッキ液は、通常のステンレス
やアルミニウムなどをクロムメッキする際に用いるメッ
キ液に較べて高濃度の酸化クロムとフッ素化合物を含有
しているのが好ましく、クロムメッキ被膜２の耐剥離性
などの密着性が改善される。

また、前述の電気メッキに先立って酸化被膜が形成され
ているチタニウムまたはその合金製基体ｌをフッ素化合
物の水溶液に浸漬して、その酸化被膜をエツチングし、
次いで水洗することにより、均一・な薄い酸化被膜を表
面に形成させておくことが望ましい。この際に用いるフ
ッ素化合物としては、フッ化ナトリウム、フッ化アンモ
ニウム、フッ化カリウム、フッ化水素ナトリウム、フッ
化水素アンモニウム、フッ化水素カリウムなどを挙げる
ことができ、約３．０ｇ／１以上好ましくは５０ｇ／９
．〜３００　ｇ／文の濃度で含有されることが適してい
る。このフッ素化合物の水溶液からなる前浴は、チタニ
ウムまたはその合金製基体工の表面に形成された酸化被
膜の厚みが、電気メッキに支障を与えないだけ薄いもの
であれば、特に必要とするものではない。また、このフ
ッ素化合物の水溶液に硫酸、塩酸などを添加して前記同
様の前浴に用いることもできる。

クロムメッキ被膜２を形成する電気メッキでは、電流密
度を１０　Ａ　／　ｄ　ｒｎ’　〜３０　Ａ　／　ｄ　
ｔｒｉ’とするのが好ましく、メッキ液の温度は１０℃
〜６゜°Ｃとするのが好ましい。硬質のクロムメッキ被
膜（８００ビツ力−スカタサ以上）２は、電流密度を高
くすることによって得られ、一般的には１５Ａ　／　ｄ
　ｍ’以上とすることにより硬質のクロムメッキ被膜２
が得られる。

クロムメッキ被膜２の表面には、更にブラッククロムメ
ッキ被ＩＩＩ　３が形成在れている。クロムメッキ被膜
２は、ブラッククロムメッキ被膜３との密着性にもすぐ
れている。

ブラッククロムメッキ被膜３は、ブラッククロム液（例
えば、荏原ニーシライト（株）製：ネロスタープロセス
）を用いて電気メッキすることによって、クロムメッキ
被膜２の上に設けられる。

このように、チタニウムまたはその合金製基体１とブラ
ッククロムメッキ被膜３との間に、チタニウムまたはそ
の合金製基体１とブラッククロムメッキ被膜３との両方
に密着性の良いクロムメッキ被膜２を設けることによっ
て、チタニウトまたはその合金製基体ｌにブラッククロ
ムメッキ被膜３を施したチタニウムまたほぞの合金製筐
体を得ることができる。尚、第２図ではクロムメッキ被
膜２及びブラッククロムメッキ被膜３の厚みを誇張して
示してあり、実際の厚みを示すものではない。クロムメ
ッキ被膜２及びブラッククロムメッキ被膜３の厚みは、
通常のメッキ被膜の厚みと変わらない。

４　　　　　以下に、本発明の形成方法を用いてチタニ
ウムまたはその合金製基体に実際にブラッククロムメッ
キ被膜を施した例を示す。

によるホーニング加工を予め施した第１図に示す形状の
チタニウム基体１を、フッ化アンモニウムの１００　ｇ
　／　ｌ水溶液に２分間浸漬してエツチングし、その後
水洗した。次いで、酸化クロム５００ｇ／ｉおよびフッ
化アンモニウム２０ｇ／又を含む常温のメッキ液中で、
水洗後のチタニウム板を陰極となして２０　Ａ　／　ｄ
　ｍ’の電流音度下で１０分間電気メツキした。この結
果、無光沢で灰白色のクロムメッキ被ＩＩＩ　２がチタ
ニウム基体１の上に形成された。

次いで、クロムメッキ被膜２を有するチタニウム基体ｌ
をブラッククロム液（荏原ニーシライト（株）製：ネロ
スタープロセス）に浸漬させて電気メッキした。この電
気メッキは、’２５Ａ／ｄｒｎ’の電流音度下で１０分
間実施した。この結果、クロムメッキ被膜２の」二にブ
ラッククロムメッキ被膜３が形成された。

以上説明したように本発明のブラッククロムメッキ被膜
の形成方法によれば、チタニウムまたほその合金製基体
とブラッククロムメッキ被膜との間に、チタニウムまた
はその合金製基体とブラッククロムメッキ被膜の両方に
密着性の良いクロムメッキ被膜を設けるので、チタニウ
ムまたはその合金製基体にブラッククーロムメッキ被膜
を施すことが可能である。このため、本発明の形成方法
でブラッククロムメッキ被膜を形成したチタニウムまた
はその合金製筐体は、これまでの塗装を施した筐体と比
較して外観および表面特性（例えば、＃軸性、耐候性、
耐摩耗性、耐傷性など）の点で優れているものである。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明の形成方法でブラッククロムメッキ被膜
を形成したチタニウムまたはその合金製筐体の一例とし
てカメラのカバ一部材を示した正面図、第２図は第１図
に示すカバ一部材のＡ−Ａ断面図である。 １−一一一チタニウムまたはその合金基体２−一一一ク
ロムメッキ被膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. チタニウムまたはその合金製基体の表面にクロムメッキ
   被膜を形成し、更に前記クロムメッキ被膜の表面にブラ
   ッククロムメッキ被膜を形成することを特徴とするブラ
   ッククロムメッキ被膜の形成方法。