JPS61117278A - 高真空下における基板ホルダの水平移動機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、高真空下で基板の表面に薄膜等を形成するた
めに使用する高真空下における基板ホルダの水平移動機
構に係シ、特に真空装置の小型化に好適な高真空下にお
ける基板ホルダの水平移動機構に関する。

〔発明の背景〕

この種基板ホルダの水平移動機構の従来技術としては、
第４図に示すものが提案されている。

この第４図に示すものは、装置本体１をエアロツクパル
プ２により真空室３と予備室４とに分割し、これら真空
室３と予備室４とにわたってガイドローラ列５を設け、
このガイドローラ列５上に試料台６を載置し、その上に
試料７を乗せている。

前記真空室６の外側部にはトランスファリニアツク８を
取り付け、予備室４の外側部には他のトランスファリニ
アツク９を取り付けている。前記トランスフ１リニアツ
ク８．９は、マグネット１０をストッパ１１１Ｃ向かつ
て進出させると、シャフト１２が伸長し、ガイドローラ
列５上罠載置された試料台６を押し込むようになってい
る。

そして、この従来の水平移動機構では、真空室３から予
備室４へ試料台６を移送する時は、予備室４側のトラン
スファリニアツク９のシャフト１２を縮小させたうえで
、真空室３側のトランスファリニアツク８のマグネット
１０をストッパ１１に当接する位置まで進出させ、シャ
フト１２を介して試料台６を予備室４まで押し込む。反
対に、予備室４から真空室３へ試料台６を移送させる時
は、真空室３側のトランスファリニアツク８のシャフト
・１２を縮小させたうえで、予備室４側のトランスファ
リニアツク９のマグネット１０をストッパ１１に当接す
るまで進出させ、クヤ７ト１２を介して試料台６を真空
室３に押し込むようになっている。

しかし、この従来技術では、装置全体が大型化し、大き
な設置スペースを取る欠点がある。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、前記従来技術の欠点をすくシ、真空装
置の小を化に寄与しかつ基板ホルダのストロークを大き
く取ることができ、しかも基板ホルダを正確に位置決め
し得る高真空下における基板ホルダの水平移動機構を提
供するにある。

〔発明の概要〕

本発明は、基板ホルダを移動させる方向に間隔をおいて
少なくとも２本一対の回転軸を、装置本体の外部と内部
に突出させて取）付けたこと、各回転軸の外側端部には
真空シールと被動輪とを取り付け、前記被動輪を可逆回
転駆動源に、同期的〈回転可能に連結したこと、各回転
軸の内側端部には回転体を取り付け、この回転体上に、
水平方向に移動可能に支持された基板ホルダを載置した
こと、基板ホルダの移動方向の一端部と他端部に、基板
ホルダの位置決め用のセンサを設けたことく特徴を有す
るもので、この構成にょシ前記目的を全て達成すること
ができる。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の実施例を図面により説明する。

第１図、第２図および第３図は、本発明の一実施例を示
すもので、装置本体２１はエアロツクパルプ（図示せず
）によυ真空室２２と予備室２３とに分割されている。

また、装置本体２１には第１図に示すように、基板ホト
ダの移動方向と直角をなす方向の一側部に、基板ホルダ
を前記真空室２２と予備室２３とに移動させ得る間隔を
おいて軸受部２４．２５が設けられ、この軸受部２４．
２５を介して２本一対の回転軸２６．２７が取り付けら
れている。

前記各回転軸２６．２７の外側端部には、第１図に示す
ごとく、真空シール２８．２９と被動輪としての被動ス
ブロケッｈ５６，３７とが取り付けられている。前記軸
受部２４．２５と真空シール２８　、２９の接合面釦は
シールリング３ｏが介装されている。

前記装置本体２１における被動スプロケット５６．５７
が取り付けられている側の外側部には、第１図に示すよ
うに、モータサポート３１を介して、可逆回転駆動源と
してのモータ３２が取り付けられている。前記モータ３
２には、第１図および第２図に示すように、駆動軸３３
を介して駆動スプロケット３４が取り付けられ、この駆
動スプロケット３４にはエンドレスチェーン３５を介し
て前記被動スプロケット５６．５７が連結されておシ、
これらの駆動連結部材を通じて被動スプロケット５６．
５７は同期的に回転可能に構成されている。

前記各回転軸２６．２７の内側端部には、第１図に示す
ごとく、回転体としてのピニオン３８．ｉが取り付けら
れている。

前記装置本体２１の内部には、第１図に示すように、搬
送台４０が配置されておシ、この搬送台４０の底部には
第３図に示すよう忙、前記ピニオン３８．３９にかみ合
うラック４１が形成されている。また、搬送台４０はそ
の移動方向のガイドロ−ラ列４２と、これと直角方向の
ガイドローラ列４３とによシ、水平面内を一方向に移動
可能に支持されている。そして、搬送台４０は前記ピニ
オン５８．５９とラック４１とのかみ合いを通じて真空
室２２と予備室２３間を往復移動し得るようになってい
る。

前記搬送台４０には、第３図に示すように、基板ホルダ
４４が搭載され、搬送台４０と一体に移動し得るようＫ
なっている。

前記装置本体２１には、第１図に示すように、基板ホル
ダ４４の移動方向に間隔をおきかつこの移動方向と直交
する方向に対向する位置に、窓４５ａ、４５ｂの組と窓
４６ｍ、４６ｂの組とが形成されている。前記窓４５ａ
、４５ｂ、４６ａ、４６ｂには、透孔４９を有するガラ
スサポート４８を介してガラス４７が取り付けられてい
る。なお、窓４５ａ。

４５ｂ、４６ｍ、４６ｂの外縁部とガラスサポート４８
ノ接合面には、シールリング５０が介装されている。

前記窓４５ａ、４５ｂのガラスサポート４８の透孔４９
に臨む位置には、第１図に示すように、発光素子５１＆
と受光素子５１ｂとで構成された１組のセンサ５１が設
けられ、他の窓４６ａ、４６ｂのガラスサポート４８の
透孔４９に臨む位置には、他の発光素子５２ａと受光素
子５２ｂとで構成された１組のセンサ５２が設けられて
いる。そして、センサ５１は基板ホルダ４４が予備室２
３内の設定位置まで移動した時、これを検出してモータ
３２の制御部（図示せず）Ｋ停止信号を送シ、他のセン
サ５２は基板ホルダ４４が真空室２２内の設定位置まで
移動した時、これを検出してモータ３２の制御部に停止
信号を送るように構成されている。

前記実施例の基板ホルダの水平移動機構は、次のように
操作され、作用する。

すなわち、搬送台４０上に搭載された基板ホルダ４４が
真空室２２内の設定位置に停止されている状態からモー
タ３２を順方向に駆動させ、駆動スプロケット３４を介
してエンドレスチェーン３５を第２図において矢印ａ方
向に走行させると、このエンドレスチェーン３５を通じ
て被動スプロケット５６，５７が反時計方向に同期回転
操作され、被動スプロケット５６．５７と一緒に回転軸
２６゜２７が回転する。

前記回転軸２６．２７が回転操作されるに伴い、この実
施例では最初は回転軸２７に取り付けられたピニオン３
９と搬送台４０に形成されたラック４１とのかみ合いを
通じて搬送台４０がガイドローラ列４２．４３に案内さ
れて真空室２２側から予備室２３側へ移動し、これに追
従して基板ホルダ４４が移動する。続いて、搬送台４０
は回転軸２６に取り付けられたピニオン３８に引き渡さ
れ、このピニオン３８とラック４１とのかみ合いを通じ
て移動操作され、基板ホルダ４４がこれに追従して移動
する。

前記基板ホルダ４４が予備室２３内の設定位置まで移動
すると、窓４５ａ、４５ｂの位置に設けられた発光素子
５１ａと受光素子５１ｂとを有するセンサ５１により検
出され、このセンサ５１からモータ３２の制御部に停止
信号が送られ、モータ３２が停止され、基板ホルダ４４
は前記予備室２３内の設定位置に停止する。

ついで、基板ホルダ４４が予備室２３内の設定位置く停
止されている状態からモータ３２を逆方向に駆動させ、
駆動スプロケット３４を介してエンドレスチェーン５５
を第２図において矢印す方向に走行させると、被動スプ
ロケット５６．５７が時計方向に同期的に回転操作され
、回転軸２６゜２７が一緒に回転する。

そして、回転軸２６．２７の回転に伴い、最初は回転軸
２６に取り付けられたピニオン５８とラック４１とのか
み合いを通じて搬送台４０が真空室２２方向に移動操作
され、ついで搬送台４０は回転軸２７に取り付けられた
ピニオン３９に引き渡され、このピニオン３９とラック
４１とのかみ合いを通じて真空室２２内の設定位置まで
移動操作され、基板ホルダ４４は搬送台４０に追従して
移動する。

前記基板ホルダ４４が真空室２２内の設定位置まで移動
すると、窓４６ａ、４６ｂの位置に設けられた発光素子
５２ａと受光素子５２ｂとを有するセンサ５２により検
出され、このセンサ５２からモータ３２の制御部へ停止
信号が送られ、モータ３２が停止され、これによシ基板
ホルダ４４は前記真空室２２内の設定位置に停止する。

したがって、基板ホルダ４４を真空室２２内の設定位置
と予備室２３内の設定位置との間に、確実に移動させ、
かつ位置決めすることができる。

その間、真空シール２８，２９の作用によυ、装置本体
２１と回転軸２６．２７との間からの真空漏れを防止し
得るので、高真空下で基板ホルダ４４を移動させること
ができる。

なお、回転軸２６．２７を回転させる機構は図面に示す
駆動スプロケット５４とエンドレスチェーン３５と被動
スプロケット５６．５７の組み合わせに限らず、要は被
動輪を通じて回転軸２６．２７を同期的に回転させ得る
ものであればよい。

さらに、本発明では回転軸は図面に示す２本に限らず、
３本以上取り付けてもよく、その場合にも各回転軸に真
空シールと被動輪と回転体とを取り付けるものとする。

また、基板ホルダ４４を移動させる手段も、図面に示す
ラック４１とピニオン５８．３９の組み合わせに限らず
、基板ホルダ４４側の部材にチェーンを取り付け、回転
軸２６．２７に前記チェーンにかみ合うスプロケットを
取り付けてもよく、あるいは回転軸２６．２７に回転体
として摩擦車を取り付けてもよい。

さらに、センサ５１．５２も、図面に示す発光素子と受
光素子とを組み合わせたものに限らず、圧力検出型のセ
ンサを用いることができる。

〔発明の効果〕

以上説明した本発明によれば、基板ホルダを移動させる
方向に間隔をおいて少なくとも２本一対の回転軸を、装
置本体の外部と内部に突出させて取り付け、各回転軸の
外側端部には被動輪を取）付けるとともに、前記被動輪
を可逆回転駆動源に、同期的に回転可能に連結し、各回
転軸の内側端部には回転体を取り付け、この回転体上に
、水平方向に移動可能に支持された基板ホルダを載蟹し
ておシ、装置本体の外部〈長さが長い突出物が取り付ｆ
ｆられていないので、基板ホルダのストロークを大きく
取っても真空装置全体を小型化でき、したがって設置ス
ペースを狭くなし得る効果がある。

また、本発明によれば、回転軸にシールを取り付け、装
置本体と回転軸との間からの真空漏れを防止しているの
で、高真空下で基板ホルダを移動させ得る効果があり、
しかも基板ホルダの移動方向の一端部と他端部とに位置
決め用のセンナを設けているので、基板ホルダを設定位
置に正確に位置決めし得る効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第３図は本発明の一実施例を示すもので、そ
の第１図は横断平面図、第２図は第１図中の中間部分の
正面図、第３図は第１図の■−■線縦線側断側面図る。 第４図は従来技術の正面図である。 ２１・・・・・・装置本体 ２６．２７・・・・・・回転軸 ２８．２９・・・・・・回転軸に取り付けられた真空シ
ール ３２・・・・・・可逆回転駆動源としてのモータ３４・
・・・・・駆動スプロケット ３５・・・・・・エンドレスチェーン ３６．５７・・・・・・回転軸に取り付けられた被動輪
として被動スプロケット ５８．５９・・・・・・回転軸に取り付けられた回転体
としてのピニオン ４０・・・・・・搬送台 ４１・・・・・・搬送台く形成されたラック４４・・・
・・・基板ホルダ ５１．５２・・・・・・基板ホルダの位置決め用のセン
サ。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. １．基板ホルダを移動させる方向に間隔をおいて少なく
   とも２本一対の回転軸を、装置本体の外部と内部に突出
   させて取り付け、各回転軸の外側端部には真空シールと
   被動輪とを取り付け、前記被動輪を可逆回転駆動源に、
   同期的に回転可能に連結し、各回転軸の内側端部には回
   転体を取り付け、この回転体上に、水平方向に移動可能
   に支持された基板ホルダを載置し、基板ホルダの移動方
   向の一端部側と他端部側に、基板ホルダの位置決め用の
   センサを設けたことを特徴とする高真空下における基板
   ホルダの水平移動機構。
2. ２．特許請求の範囲第１項記載の水平移動機構において
   、前記被動輪を被動スプロケットホイールとし、各被動
   スプロケットホイールを、エンドレスチェーンを介して
   駆動スプロケットに連結したことを特徴とする高真空下
   における基板ホルダの水平移動機構。
3. ３．特許請求の範囲第１項記載の水平移動機構において
   、前記回転体上に、搬送台を介して前記基板ホルダを載
   置したことを特徴とする高真空下における基板ホルダの
   水平移動機構。