JPS61117110A - 金属珪素の製造方法ならびにその製造装置 - Google Patents
金属珪素の製造方法ならびにその製造装置Info
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- JPS61117110A JPS61117110A JP23583584A JP23583584A JPS61117110A JP S61117110 A JPS61117110 A JP S61117110A JP 23583584 A JP23583584 A JP 23583584A JP 23583584 A JP23583584 A JP 23583584A JP S61117110 A JPS61117110 A JP S61117110A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈発明の目的〉
産業上の利用分野
本発明は金2珪素(以下単に金属Siという。)の製造
方法ならびにその製造装置に係り、詳しくは、例えば、
純度99,999%以上の如き高純度を要求される太陽
電池用の金属Siを効率よくかつ経済的に製造6でき、
粉状のSiO2等を用いても製造できる方法およびその
製造装置に係る。
方法ならびにその製造装置に係り、詳しくは、例えば、
純度99,999%以上の如き高純度を要求される太陽
電池用の金属Siを効率よくかつ経済的に製造6でき、
粉状のSiO2等を用いても製造できる方法およびその
製造装置に係る。
従来の技術
従来から、珪石(Sf(h )及び炭素から金属S1を
製造する際に、アーク炉を用いて金属Siあるいはフェ
ロシリコンを製造する方法が一般的な工業的製造法とし
て利用されている。この方法では、炉内装入物間での通
気の確保や、炉内高温部でSiの生成反応を効率よく起
こさせるために塊状の珪石(S!Oz )の利用が不可
欠である。
製造する際に、アーク炉を用いて金属Siあるいはフェ
ロシリコンを製造する方法が一般的な工業的製造法とし
て利用されている。この方法では、炉内装入物間での通
気の確保や、炉内高温部でSiの生成反応を効率よく起
こさせるために塊状の珪石(S!Oz )の利用が不可
欠である。
しかるに、最近、高純度の金属Siが太陽電池等に利用
され、その金属Siは99.999%以上という高純度
が要求されている。一般に、この高純度の金属Siを製
造するための原料としては天然の珪石(SiO2)を精
製したSiO2が使用されるため、SiO2は粉末状あ
るいは数mm以下という細かい粒状原料となり、従来方
法ではそのまま利用できず、更に、塊成化などの工程を
加えることが必要になり、経済的にも、不純物の混入の
点からも不利である。これを解決する手段として従来方
法を改善したものとして特開昭57−11223号に示
される方法が提案されている。この方法でも、炉に装入
するSiO2原料の一部は3〜12m1Rという塊状の
SiO2が必要であり、これらのところを十分に解決し
たものと云えない。
され、その金属Siは99.999%以上という高純度
が要求されている。一般に、この高純度の金属Siを製
造するための原料としては天然の珪石(SiO2)を精
製したSiO2が使用されるため、SiO2は粉末状あ
るいは数mm以下という細かい粒状原料となり、従来方
法ではそのまま利用できず、更に、塊成化などの工程を
加えることが必要になり、経済的にも、不純物の混入の
点からも不利である。これを解決する手段として従来方
法を改善したものとして特開昭57−11223号に示
される方法が提案されている。この方法でも、炉に装入
するSiO2原料の一部は3〜12m1Rという塊状の
SiO2が必要であり、これらのところを十分に解決し
たものと云えない。
発明が解決しようとする問題点
本発明は上記欠点の解決を目的とし、具体的には、従来
方法では、細粒あるいは粉状のSiO2を原料として利
用した場合には、通気の悪化や高温部での反応進行への
障害による金属Siの回収効率の悪さのため、精製され
た細粒状等のSiO2原料の塊成化等の特別の事前処理
が必要であり、このため、従来方法では高純度Siを製
造するには不向きであることの問題点を解決することを
目的とする。
方法では、細粒あるいは粉状のSiO2を原料として利
用した場合には、通気の悪化や高温部での反応進行への
障害による金属Siの回収効率の悪さのため、精製され
た細粒状等のSiO2原料の塊成化等の特別の事前処理
が必要であり、このため、従来方法では高純度Siを製
造するには不向きであることの問題点を解決することを
目的とする。
〈発明の構成〉
問題点を解決するための
手段ならびにその作用
すなわち、本発明の骨子とするところは、炭素若しくは
炭素含有物質またはこれらのうちの少なくとも一方のS
iC若しくはSiO□のうちの少なくとも一方との混合
物が充填されたアーク炉内でその1800℃以上の高温
領域、つまり5102の還元による金属Siの生成反応
が主に起る高温領域に、SiO2あるいはSiOの細粒
あるいは粉末を直接吹込み、このSiO2またはSiO
を炭素あるいはSiCと高温下で反応溶融させて金属S
iを製造するものである。
炭素含有物質またはこれらのうちの少なくとも一方のS
iC若しくはSiO□のうちの少なくとも一方との混合
物が充填されたアーク炉内でその1800℃以上の高温
領域、つまり5102の還元による金属Siの生成反応
が主に起る高温領域に、SiO2あるいはSiOの細粒
あるいは粉末を直接吹込み、このSiO2またはSiO
を炭素あるいはSiCと高温下で反応溶融させて金属S
iを製造するものである。
また、SiCを含む混合物がアーク炉に充填されている
ときには、固体炭素等の一部がSiCで置換されている
ため、炉内発生ガス量を減少させることができる。
ときには、固体炭素等の一部がSiCで置換されている
ため、炉内発生ガス量を減少させることができる。
そこで、この手段たる構成ならびにその作用につき詳し
く説明すると、次の通りである。
く説明すると、次の通りである。
従来から、電気炉内で金属Siを製造する際に、総括的
には次の(1)の反応によって金属Stが製造されてい
る。
には次の(1)の反応によって金属Stが製造されてい
る。
SiO2+ 2C→Si + 2GO・・・・・・(1
)しかし、実際には(1)式の反応は次のような各素反
応に分解され、これらの素反応が併行して起こっている
ものと考えられる。
)しかし、実際には(1)式の反応は次のような各素反
応に分解され、これらの素反応が併行して起こっている
ものと考えられる。
St、2+ C−) SiO+ Go ・・・・・・
・・・・・・・・・・・・(2)SiO+ 20→Si
C+ CO・・・・・・・・・・・・・・・・・・(3
)Sin2+ 3G −) SiC+ 2CO・・・・
・・・・・・・・・・・(4)SiO+ C−e Si
+ Go ・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・(5)SiC+ SiO□→Si + SiO+
Go ・・・・・・(6)Si + SiO2→2
SiO・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(
7)SiO+ SiC→2Si + GO・・・・・・
・・・・・・・・・(8)このような反応が起こってい
る電気炉において粉状のSiO2を使用すると、このS
iO2は塊状のSiO2 (珪石)に比較して反応性が
良いことがら、昇温過程で(2)式の反応が起こり、こ
れにより多量のSiOを発生し、とくに、SiOは蒸気
圧が高く外部に飛散し易いことから、歩留り低下を引き
おこす。更に、残りのSiO2は(4)式の反応によっ
てSiCとなっで炉底に沈積固化して操業トラブルの原
因となり、高純度に精製された粉状のSiO2から高純
度の金属Siを効率よく得ることは上記の如く困難であ
った。
・・・・・・・・・・・・(2)SiO+ 20→Si
C+ CO・・・・・・・・・・・・・・・・・・(3
)Sin2+ 3G −) SiC+ 2CO・・・・
・・・・・・・・・・・(4)SiO+ C−e Si
+ Go ・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・(5)SiC+ SiO□→Si + SiO+
Go ・・・・・・(6)Si + SiO2→2
SiO・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・(
7)SiO+ SiC→2Si + GO・・・・・・
・・・・・・・・・(8)このような反応が起こってい
る電気炉において粉状のSiO2を使用すると、このS
iO2は塊状のSiO2 (珪石)に比較して反応性が
良いことがら、昇温過程で(2)式の反応が起こり、こ
れにより多量のSiOを発生し、とくに、SiOは蒸気
圧が高く外部に飛散し易いことから、歩留り低下を引き
おこす。更に、残りのSiO2は(4)式の反応によっ
てSiCとなっで炉底に沈積固化して操業トラブルの原
因となり、高純度に精製された粉状のSiO2から高純
度の金属Siを効率よく得ることは上記の如く困難であ
った。
この点について、本発明者等は熱力学的検討および実験
室での実験を重ねたところ、アーク炉内にその炉頂から
炭素若しくはピッチあるいは有機化合物などの炭素含有
物(以下、単に炭素という。)あるいはこれらのうちの
少なくとも一方とSiC若しくはSiO□のうちの少な
くとも一方との混合物を装入し、しかも、炉内の最高温
度を示すアーク火点に直接SiO2粉末を吹込むと、S
iの歩留りが大巾に改善され、更に、火点に吹込むSi
O2量を調整することで、炉底へのSiCの沈積固化に
よるトラブルの防止が図れることがわかった。
室での実験を重ねたところ、アーク炉内にその炉頂から
炭素若しくはピッチあるいは有機化合物などの炭素含有
物(以下、単に炭素という。)あるいはこれらのうちの
少なくとも一方とSiC若しくはSiO□のうちの少な
くとも一方との混合物を装入し、しかも、炉内の最高温
度を示すアーク火点に直接SiO2粉末を吹込むと、S
iの歩留りが大巾に改善され、更に、火点に吹込むSi
O2量を調整することで、炉底へのSiCの沈積固化に
よるトラブルの防止が図れることがわかった。
また、実験結果から炉頂から混合物を装入する場合は、
炭素等とSiCの混合物のときはC/SiCのagol
比が172以上、炭素等とSiO2の混合物のときは、
C/SiO2のmol比が3.5以上が好ましく、こう
することによって、炉頂からのSiOとしてのSiのロ
スを低減できることがわかった。
炭素等とSiCの混合物のときはC/SiCのagol
比が172以上、炭素等とSiO2の混合物のときは、
C/SiO2のmol比が3.5以上が好ましく、こう
することによって、炉頂からのSiOとしてのSiのロ
スを低減できることがわかった。
また、炉頂から炭素等とSiCの混合物あるいは炭素等
とSiO2の混合物を装入した場合には炉内の熱量(ガ
スの顕然)の有効利用が図れ、かつ、アーク火点で必要
となる反応熱が減少するため、火点の昇温が容易となり
操業が非常に容易となり、かつ反応によって生成するガ
ス量が大巾に減じるため、炉内の通気確保が容易となり
安定した操業が確保できる。
とSiO2の混合物を装入した場合には炉内の熱量(ガ
スの顕然)の有効利用が図れ、かつ、アーク火点で必要
となる反応熱が減少するため、火点の昇温が容易となり
操業が非常に容易となり、かつ反応によって生成するガ
ス量が大巾に減じるため、炉内の通気確保が容易となり
安定した操業が確保できる。
また、実際にSiO2粉末を吹込む場合、アーク炉にお
いては後記の如く、中空電極を利用して電極の内孔を通
してキャリヤーガスとともにSiO2あるいはSiOの
粉、粒状物を炉内に吹込むことができ、このとき用いら
れるキャリヤーガスはH2、炭化水素、Ar、 N2な
どの非酸化性ガスを利用することができる。また、炉頂
から装入する炭素又は炭素と5iC5炭素とSiO2の
混合物は、利用する炭材、SiO2とも高純度に精製さ
れている場合には、一般に粉末となっているが、砂糖、
フェノール樹脂、澱粉等を結合剤として粒状化したもの
を利用するのが好ましく、このようにすると、十分に通
気性が確保できる。
いては後記の如く、中空電極を利用して電極の内孔を通
してキャリヤーガスとともにSiO2あるいはSiOの
粉、粒状物を炉内に吹込むことができ、このとき用いら
れるキャリヤーガスはH2、炭化水素、Ar、 N2な
どの非酸化性ガスを利用することができる。また、炉頂
から装入する炭素又は炭素と5iC5炭素とSiO2の
混合物は、利用する炭材、SiO2とも高純度に精製さ
れている場合には、一般に粉末となっているが、砂糖、
フェノール樹脂、澱粉等を結合剤として粒状化したもの
を利用するのが好ましく、このようにすると、十分に通
気性が確保できる。
更に、アーク炉の火点に代表される高温反応域を後記の
如く外部加熱により上部に拡大すると、Siの回収率の
上昇と操業の安定性が確保できる。この外部加熱は通常
高周波誘導加熱法の利用により、装置外壁あるいは装入
物を1800℃以上、望ましくは2000℃以上に加熱
することでその効果を得ることができる。
如く外部加熱により上部に拡大すると、Siの回収率の
上昇と操業の安定性が確保できる。この外部加熱は通常
高周波誘導加熱法の利用により、装置外壁あるいは装入
物を1800℃以上、望ましくは2000℃以上に加熱
することでその効果を得ることができる。
また、以上の通りに本発明方法により金属珪素を製造す
る際に、次の通りの製造装置を用いると、容易にSiO
2等を吹込むことができ、更に、アーク火点は上部に拡
大し、金1i1stの回収率を一層高めることができる
。
る際に、次の通りの製造装置を用いると、容易にSiO
2等を吹込むことができ、更に、アーク火点は上部に拡
大し、金1i1stの回収率を一層高めることができる
。
すなわち、第1図は本発明方法を実施する装置の一例の
一部の縦断面図であって、符@1で示す炉体は黒鉛質耐
火材よりなって、その炉体1内には下部電極2および下
部電極3が設けられている。上部電極3はその中心軸に
沿って供給通路8が形成され、炉体1の外部の少なくと
もア一り火点9に対応するところには、加熱装置として
高周波誘導加熱炉コイル4を設ける。この構造のアーク
炉においてその炉頂より中空状の上部電極3の周囲に上
記の炭素等や混合物6を装入し、下部電極2と上部電極
3の間のアーク火点9において、上部電極3の連通通路
8より非酸化性ガスのキャリアーとともに吹込まれたS
iO2やSiOから金属Siが溶融物として回収され、
溜り10が形成される。
一部の縦断面図であって、符@1で示す炉体は黒鉛質耐
火材よりなって、その炉体1内には下部電極2および下
部電極3が設けられている。上部電極3はその中心軸に
沿って供給通路8が形成され、炉体1の外部の少なくと
もア一り火点9に対応するところには、加熱装置として
高周波誘導加熱炉コイル4を設ける。この構造のアーク
炉においてその炉頂より中空状の上部電極3の周囲に上
記の炭素等や混合物6を装入し、下部電極2と上部電極
3の間のアーク火点9において、上部電極3の連通通路
8より非酸化性ガスのキャリアーとともに吹込まれたS
iO2やSiOから金属Siが溶融物として回収され、
溜り10が形成される。
また、炉体1の外部から高周波誘導加熱コイル4によっ
て内部の装入物等は1800℃以上望ましくは2000
℃以上に加熱されているため、アーク火点のほかに反応
域は上部に拡大されているため、金属Siの回収率は上
昇する。
て内部の装入物等は1800℃以上望ましくは2000
℃以上に加熱されているため、アーク火点のほかに反応
域は上部に拡大されているため、金属Siの回収率は上
昇する。
また、第1図に示す装置の電極1.2は、大型炉にあっ
ては第2図および第3図に示す如く水平あるいは傾斜し
て向い合うように設置することで同様の効果を挙げるこ
とができる。
ては第2図および第3図に示す如く水平あるいは傾斜し
て向い合うように設置することで同様の効果を挙げるこ
とができる。
実施例
次に、実施例について説明する。
まず、第1図に示す小型のアーク炉を使用し、′R2!
は直流を使用し、その炉頂部から、上部電極の供給通路
から、H2ガスをキャリアとしてSiO2粉末をアーク
火点に直接吹込み、炉頂部から直径8〜15mmのSi
Cと炭素のベレットを装入した。なお、このベレットは
SiCを内装し表面にGが存在する二層ベレットであっ
た。
は直流を使用し、その炉頂部から、上部電極の供給通路
から、H2ガスをキャリアとしてSiO2粉末をアーク
火点に直接吹込み、炉頂部から直径8〜15mmのSi
Cと炭素のベレットを装入した。なお、このベレットは
SiCを内装し表面にGが存在する二層ベレットであっ
た。
また、炉体の外部の高周波誘導加熱コイルによって加熱
高温反応ゾーンを拡大することも行なった。この際の一
般的な操業条件は次の通りであり、この外部加熱ありと
外部加熱なしの各場合の結果は第1表に示す通りであっ
た。
高温反応ゾーンを拡大することも行なった。この際の一
般的な操業条件は次の通りであり、この外部加熱ありと
外部加熱なしの各場合の結果は第1表に示す通りであっ
た。
装入ベレットのC/5iC−?/1 (モル比ンSiO
2の吹込速度 5k(1/時H2ガスの吹込速度
3NIIl11/時電力消費1 100KW
II なお、比較のために従来法によって第1図で示す装置に
おいてSiO2ベレツトとOのベレットをC/SiO□
=271のモル比で原料として金R81を製造し、その
結果も第1表に示した。
2の吹込速度 5k(1/時H2ガスの吹込速度
3NIIl11/時電力消費1 100KW
II なお、比較のために従来法によって第1図で示す装置に
おいてSiO2ベレツトとOのベレットをC/SiO□
=271のモル比で原料として金R81を製造し、その
結果も第1表に示した。
第 1 表
第1表の対比から明らかのように本発明方法による場合
は外部加熱ありなしの何れかのときにも従来法に較べる
と、金属Siの歩留りは大巾に向上し、しかも、SiO
2が飛散せずに固定されるため、電力原単位も大巾に向
上している。
は外部加熱ありなしの何れかのときにも従来法に較べる
と、金属Siの歩留りは大巾に向上し、しかも、SiO
2が飛散せずに固定されるため、電力原単位も大巾に向
上している。
また、本発明方法による場合でも高周波誘導加熱によっ
て外部加熱を行なった時には外部加熱を行なわない場合
に較べると、金fisi歩留りは95%に達し、電力原
単位も19にW/kq−sic達し、大巾に向上した。
て外部加熱を行なった時には外部加熱を行なわない場合
に較べると、金fisi歩留りは95%に達し、電力原
単位も19にW/kq−sic達し、大巾に向上した。
なお、SiCとCとから成るペレットを使用せずにSi
O2とCとから成るペレットを炉頂部から装入し、上記
の如き条件でSiO2粉末をキャリアガスとともに吹込
んで、金属Siを製造した。この場合も第1表に示す結
果(外部加熱のあり、なしの何れの場合も)とほとんど
同様な結果が得られた。
O2とCとから成るペレットを炉頂部から装入し、上記
の如き条件でSiO2粉末をキャリアガスとともに吹込
んで、金属Siを製造した。この場合も第1表に示す結
果(外部加熱のあり、なしの何れの場合も)とほとんど
同様な結果が得られた。
〈発明の効果〉
以上詳しく説明したように、本発明方法は、アーク炉内
にその炉頂部から炭素若しくは炭素と炭化珪素の混合物
を装入し、SiO2の還元による金属S1の生成反応が
主として起こる高温領域にSiO2等を粉末状態で供給
して金属Siを製造するものである。従って、高純度の
金属Siの製造に、国産の低品位SiO2を精製して純
度を向上させた粉状のSiO2を原料として利用できる
ため、従来例のガス化法に依存せずに、太陽電池用の高
純度Siが安価かつ大量、更には効率よく製造できる。
にその炉頂部から炭素若しくは炭素と炭化珪素の混合物
を装入し、SiO2の還元による金属S1の生成反応が
主として起こる高温領域にSiO2等を粉末状態で供給
して金属Siを製造するものである。従って、高純度の
金属Siの製造に、国産の低品位SiO2を精製して純
度を向上させた粉状のSiO2を原料として利用できる
ため、従来例のガス化法に依存せずに、太陽電池用の高
純度Siが安価かつ大量、更には効率よく製造できる。
また、本発明においては、アーク炉の炉体内に、中心軸
に沿って供給通路を有する中空状の電極が設けられると
共に、炉体の外面に加熱装置が取付けられている。この
ため、供給通路を通って粉末状態のSiO2は容易にア
ーク火点に供給でき、外部からの加熱により高温領域が
炉上部に拡大し、金属Siの収率は一部向上する。
に沿って供給通路を有する中空状の電極が設けられると
共に、炉体の外面に加熱装置が取付けられている。この
ため、供給通路を通って粉末状態のSiO2は容易にア
ーク火点に供給でき、外部からの加熱により高温領域が
炉上部に拡大し、金属Siの収率は一部向上する。
第1図は本発明方法を実施する装置の一例の一部を示す
縦断面図、第2図および第3図は夫々他の例の一部を示
す縦断面図である。 符号1・・・・・・炉体 2・・・・・・下部
電極3・・・・・・上部電極 4・・・・・・高周′tL誘導加熱コイル5・・・・・
・出湯口
縦断面図、第2図および第3図は夫々他の例の一部を示
す縦断面図である。 符号1・・・・・・炉体 2・・・・・・下部
電極3・・・・・・上部電極 4・・・・・・高周′tL誘導加熱コイル5・・・・・
・出湯口
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)アーク炉内に炭素および/若しくは炭素含有物質あ
るいはこれらのうちの少なくとも一方と炭化珪素若しく
はSiO_2のうちの少なくとも一方との混合物を充填
し、電極間に発生するアーク火点にSiO_2またはS
iOを含む物質を直接供給して、高温下で反応溶融して
金属珪素を製造することを特徴とする金属珪素の製造方
法。 2)耐火性炉材よりなるアーク炉々体に、SiO_2ま
たはSiO等の供給通路を有する中空電極を設け、この
アーク炉々体外部の少なくともアーク火点直上に相当す
るところに加熱装置を設けて成ることを特徴とする金属
珪素の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23583584A JPS61117110A (ja) | 1984-11-07 | 1984-11-07 | 金属珪素の製造方法ならびにその製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23583584A JPS61117110A (ja) | 1984-11-07 | 1984-11-07 | 金属珪素の製造方法ならびにその製造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61117110A true JPS61117110A (ja) | 1986-06-04 |
JPH0411485B2 JPH0411485B2 (ja) | 1992-02-28 |
Family
ID=16991965
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23583584A Granted JPS61117110A (ja) | 1984-11-07 | 1984-11-07 | 金属珪素の製造方法ならびにその製造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61117110A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008145218A (ja) * | 2006-12-08 | 2008-06-26 | Murazumi Kogyo Kk | 病理組織検査標本作成用の包埋トレイ |
JP2008145118A (ja) * | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Murazumi Kogyo Kk | 病理組織検査標本作成用の包埋トレイ |
DE112006002203T5 (de) | 2005-08-19 | 2008-07-17 | Sumitomo Chemical Co. Ltd. | Verfahren zur Herstellung von Silicium |
WO2011055650A1 (ja) | 2009-11-06 | 2011-05-12 | 三菱化学株式会社 | シリコンの製造方法及び製造装置 |
WO2011111766A1 (ja) | 2010-03-11 | 2011-09-15 | 三菱化学株式会社 | シリコンの製造方法および治具 |
JPWO2020171132A1 (ja) * | 2019-02-19 | 2020-08-27 |
-
1984
- 1984-11-07 JP JP23583584A patent/JPS61117110A/ja active Granted
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE112006002203T5 (de) | 2005-08-19 | 2008-07-17 | Sumitomo Chemical Co. Ltd. | Verfahren zur Herstellung von Silicium |
JP2008145118A (ja) * | 2006-12-06 | 2008-06-26 | Murazumi Kogyo Kk | 病理組織検査標本作成用の包埋トレイ |
JP2008145218A (ja) * | 2006-12-08 | 2008-06-26 | Murazumi Kogyo Kk | 病理組織検査標本作成用の包埋トレイ |
WO2011055650A1 (ja) | 2009-11-06 | 2011-05-12 | 三菱化学株式会社 | シリコンの製造方法及び製造装置 |
WO2011111766A1 (ja) | 2010-03-11 | 2011-09-15 | 三菱化学株式会社 | シリコンの製造方法および治具 |
JPWO2020171132A1 (ja) * | 2019-02-19 | 2020-08-27 | ||
WO2020171132A1 (ja) * | 2019-02-19 | 2020-08-27 | 有限会社南日本ウェルネス | 水溶性ナノコロイドシリカの製造方法、及び水溶性ナノコロイドシリカ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0411485B2 (ja) | 1992-02-28 |
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