JPS6111673B2 - - Google Patents

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JPS6111673B2
JPS6111673B2 JP56203459A JP20345981A JPS6111673B2 JP S6111673 B2 JPS6111673 B2 JP S6111673B2 JP 56203459 A JP56203459 A JP 56203459A JP 20345981 A JP20345981 A JP 20345981A JP S6111673 B2 JPS6111673 B2 JP S6111673B2
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JP
Japan
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film
light
coating
coating liquid
area
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JP56203459A
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English (en)
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JPS58104674A (ja
Inventor
Koichi Nagase
Shigetora Kashio
Junichi Fujikawa
Yoichi Shimokawa
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は多品種少量生産の可能な表面に凹凸の
ある光透過性フイルムの製造方法に関するもので
ある。
従来から表面に凹凸のあるフイルムの製造方法
としては次のような方法が知られている。
(1) フイルム中に二酸化硅素、二酸化チタン、炭
酸カルシウム等の無機粒子、および相溶性のな
い有機ポリマなどを添加する方法。
(2) 溶剤処理、コロナ放電、プラズマ放電、電子
線照射、X線照射等の表面処理を用いる方法。
(3) 機械的エンボス加工、サンドブラスト加工な
どの方法。
(4) 結晶化促進処理および結晶化促進剤などを添
加する方法。
(5) 平滑なフイルム上に無機粒子等を含む塗布液
をコーテイングする方法。
しかしながら、上記の方法のうち、(1)〜(4)は生
産設備が大きくなるなど少量の生産には適してい
ない。
また(5)は無機粒子等の粘度分布、分散性に問題
があり、所望の凹凸を再現性よく生産することが
難しいなどの問題点がある。
本発明者らは、上記問題点を解決すべく鋭意検
討した結果、以下に述べる本発明に到達した。
すなわち、本発明は塗工樹脂と溶媒とから主と
してなる塗布液を活性光線に対する光線透過率が
少なくとも50%以上の光透過性フイルムの表面に
塗布し、硬化させて表面に凹凸を有する光透過性
フイルムを製造するに際し、該塗布液として粘度
が0.5〜3.0ポイズであつて、かつ上記フイルム表
面に塗膜を形成した後の活性光線に対する光線透
過率が少なくとも50%以上である塗布液を使用
し、該塗布液をセル部分を面積がグラビアロール
の表面積に対して、10〜80%であるようなグラビ
アロールによつて、上記フイルム表面に塗布し、
硬化させることを特徴とする表面に凹凸を有する
光透過性フイルムの製造方法に関するものであ
る。
本発明の製造方法は次のような特徴を有する。
(1) 表面に凹凸をつけるフイルムの種類は問わな
い。
(2) 凹凸のパターンはグラビアロールの彫刻によ
り任意のものを選定することが可能である。
(3) 凹凸の山の高さは、塗液の濃度、粘度の変更
およびグラビアロールを変えることで選択が容
易である。
(4) 少量生産する場合でも、無駄になるのはパン
に残る塗液だけであるので非常に経済的であ
る。
(5) 無機物の添加によらないため、透明性の優れ
た、表面に凹凸のあるフイルムをつくることが
できる等である。
本発明の方法により製造される表面に凹凸を有
するフイルムは光透過性のものである。ここでい
う光透過性とは、たとえば、活性光線(波長300
ナノメータから500ナノメーター)に対して光線
透過率が50%以上のものをいう。
本発明において塗布液を塗布するために用いら
れる基体フイルムとしては、前に定義された光透
過性を有するものであるなら制限はなく、用途に
より適宜選択が可能であつて基体フイルムの一例
として、たとえば、ポリプロピレンフイルム、ポ
リ塩化ビニリデンフイルム、ポリスチレンフイル
ム、ポリアミドフイルム、ポリ塩化ビニルフイル
ム、ポリエステルフイルム、ポリブタジエンフイ
ルム、ポリエチレンフイルム、ポリビニルアルコ
ール系フイルム等のプラスチツクフイルム、およ
び上記フイルムの複合フイルム等がある。
また、上記基体フイルムにコロナ放電処理等の
表面処理および光透過性をそこなわない範囲で金
属の蒸着処理等を行なうことも可能である。
本発明に使用されるグラビアロールは、グラビ
アロールのセル部分の面積が、ロール表面積の10
〜80%、好ましくは10〜60%のものであれば、セ
ル形状はとわず、たとえば格子、斜線、ピラミツ
ド等の幾何学模様あるいは特定な規則性がない模
様でも良い。
セル部分の面積がロール表面積に対して80%以
上になつた場合、フイルム上に生じる凹凸は山と
山が重なつた形態になり、目的とする凹凸フイル
ムが得られない。
またセル部分の面積がロール表面積に対して、
10%以下の場合は、山の高さを高くすることが困
難であり、上記と同じく目的とする凹凸フイルム
が得られない。グラビアロールのセルは、ロール
表面に対して実質的に均一に配置されている必要
がある。
ここでいうセルとは、たとえば第1図および第
2図に示すようなもので図面中のイは平面図を、
またロはその断面図を表わす概略図である。そし
てセル部分の面積とは、セル開口部分の面積すな
わち、a×aをいう。
またグラビアロールの表面積に対するセル部分
の面積の割合とは、第1図および第2図のような
セルが均一にロール表面に存在した場合を例にと
ると、(a×a)÷{(a+b)×(a+b)}とな
る。
本発明に使用される塗布液は、塗布される状態
下での粘度が0.5〜30ポイズ、好ましくは1〜15
ポイズのものであれば良く、溶媒としてはその種
類を問わない。
粘度が0.5ポイズ以下では、コーテイング直後
にできた凹凸は直ちにレベリングし、乾燥後凹凸
は認められない。
また粘度が30ポイズ以上であれば、コーテイン
グ自体が難しく、安定した特性を有するフイルム
が得られない。
本発明に用いられる塗布液は、乾燥後もしくは
キユア後、形態保持性を有するものであるなら、
その種類は問わない。このような目的のため用い
られるものとしては、たとえば塩素化ポリプロピ
レン、飽和ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂;
塩化ビニリデン樹脂、塩化ビニル樹脂、アルキド
樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコー
ル系樹脂、天然樹脂などがあげられる。これらは
併用して用いることも可能である。
また、溶媒としては、たとえばトルエンなどの
芳香族炭化水素、メチルエチルケトンなどのケト
ン類、エタノールなどのアルコール類、THFな
どのエーテル類、水などの無機極性溶媒等をあげ
ることができる。上記の溶媒は2種以上併用して
もよい。
更に塗布液に対してチクソトロピイ性を付与す
るため、および表面凹凸層の滑り性を良くするた
めに、二酸化硅素、二酸化チタン、炭酸カルシウ
ム等の無機物、あるいは塗工樹脂と相溶性のない
有機物等を少量添加しても良い。
また無機物等の分散安定性の改良、および制電
性を付与するために界面活性剤を添加してもよ
い。
このようにして調整された塗布液をフイルム表
面に前記グラビアロールを用いて塗布し、硬化す
ることにより表面に凹凸を有する光透過性フイル
ムが得られる。
塗布液の硬化は乾燥、架橋などの公知の方法に
より込なわれる。
本発明の製造方法により得られる凹凸のある光
透過性フイルムは、実用上次のような特徴を持
つ。
(1) 表面に凹凸のあるフイルムを、他の平滑な面
を有する物体と接触させた場合、表面に凹凸の
あるフイルムの表面凹部を通して気体、液体等
が容易に動き易いため、表面に凹凸のあるフイ
ルムと平滑面が容易に密着する。
(2) 表面に凹凸のあるフイルムを他の面と接触さ
せた場合、接触面積が少なくなるので、表面滑
り性が良くなる。
このフイルムの用途としては、印写材料用のフ
イルム、たとえばカバーフイルムなどあるいはコ
ーンデンサー用のフイルム等が挙げられる。
さらに、印写材料の中でもたとえば水なし平版
印刷版のカバーフイルムとして用いた場合には、
上記の特徴はより顕著なものになる。すなわち、
水なし平版印刷版を製版する過程においては、水
なし平版印刷版原板のカバーフイルムの表面に原
図フイルム(ポジないしネガ)を真空密着させて
たとえば、活性光線などを用いて露光する必要が
ある。この際、たとえば表面に凹凸がない平滑な
カバーフイルムを用いた場合、原図フイルムとカ
バーフイルムとがお互いに平滑なため、その間に
ある空気が逃げにくいので原図フイルムをカバー
フイルム表面に密着するには相当な時間を要す
る。また密着が完全でない部分、たとえば原図フ
イルムとカバーフイルムとの密着が不均一な場所
では焼ぼけを生ずるおそれがある。ところが本発
明により得られるフイルムをカバーフイルムとし
て用いた場合には、表面に凹凸を有しているので
前述のような効果が最も顕著であり、水なし平版
印刷版のカバーフイルムとしては特に有用であ
る。
このように本発明は、フイルムの表面凹凸の形
状を容易に変更でき、従つて要求に応じた多品種
のものの製造が可能であり、また透明性を低下す
ることなく表面凹凸を有したフイルムを製造でき
る点から、シリコーンゴム層によりインキ反撥部
を形成する水なし平版印刷版(特公昭54−
26923、特公昭56−23150、特開昭55−110249、特
公昭56−14976等)に適した表面に凹凸を有する
カバーフイルム(特開昭55−55343)の製造方法
として好都合に適用することができる。
以下、実施例により本発明を更に詳しく説明す
る。
実施例 1 ポリプロピレンフイルム(厚さ8μ)に第1図
に示すような微細パターンのグラビアロール(ピ
ラミツド型、a/b=2、55線/インチ、セル部
分の面積がロール全表面に対して44%)を使用し
て下記の組成の塗布液を塗布し、硬化させた。
なお、塗布液の粘度は2.5ポイズあり、塗布液
の硬化は、70℃、40秒の熱風乾燥によつて行なつ
た。
(a) 塩素化ポリプロピレン(山陽国策パルプ社製
スーパークロン803H) 20.0wt% (b) 二酸化硅素 0.6wt% (c) トルエン 55.4wt% (d) メチルエチルケトン 24.0wt% このようにして得られたフイルムは山の高さが
8〜10μである凹凸を有し、しかも光透過性のも
のであつた。このフイルムをベツクの平滑度計で
測定したところ、一定量の空気が抜けるのに600
秒かかつた。
比較例 1 第2図に示すような断面をもち、セル部分の面
積がロール全表面に対して87%であるような85
線/インチの格子グラビアロールを用いるほかは
全て実施例1と同様にして凹凸フイルムを製造し
た。このフイルムをベツクの平滑度計で測定した
ところ104秒以上であつた。
比較例 2 ポリエステルフイルム(厚さ9μ)に図1に準
じた微細パターンを持つたグラビアロール(ピラ
ミツド型、a/b=1、55線/インチ、セル部分
の面積25%)を使用して次に示す組成の塗液をコ
ーテイングし、表面に凹凸を有する光透過性フイ
ルムを作成した。なお、塗布液の粘度は0.3ポイ
ズで、硬化は80℃で30秒の熱風乾燥で行つた。
(a) 飽和ポリエステル樹脂(東洋紡社製“バイロ
ン200”) 20.0wt% (b) 帯電防止剤(テトラアルキルアンモニウム
塩) 0.2wt% (c) 二酸化硅素 0.2wt% (d) トルエン 63.6wt% (e) メチルエチルケトン 16.0wt% その結果、表面粗度計で測定して凹凸が殆ど認
められないフイルムが得られ、ベツクの平滑度計
で20000秒以上と空気抜け速度も悪かつた。
実施例 2 比較例2と同じ条件で次に示す組成の塗液をコ
ーテイングし表面に凹凸を有するフイルムを作成
した。なお、塗布液の粘度は4ポイズであつた。
(a) 飽和ポリエステル樹脂(東洋紡社製“バイロ
ン200”) 35.0 wt% (b) 帯電防止剤(テトラアルキルアンモニウム
塩) 0.35wt% (c) 二酸化硅素 0.35wt% (d) トルエン 51.3 wt% (e) メチルエチルケトン 13.0 wt% その結果、山の高さが3〜4μなる凹凸を表面
に持つた透明性の優れた(ヘイズ3〜4%)フイ
ルムが得られた。
またベツクの平滑度計で500秒と、比較例に対
して空気抜け速度が良好であることがわかつた。
実施例3、比較例3 アルミニウム基板上に、次の組成を有する感光
液(10%エチルセロソルブ溶液)を塗布し、80℃
熱風中で乾燥して厚さ4ミクロンの光重合層を設
けた。
(a) ポリウレタン樹脂「Impranil ELN」(Bayer
社製) 56 重量部 (b) メタクリル酸グリシジル4モルトキシリレン
ジアミン1モルの付加反応物 40 重量部 (c) ミヒラー氏ケトン 4 重量部 (d) クリスタルバイオレツト 0.4重量部 この光重合層の上に次の組成を有するシリコー
ンの10%n−ヘキサン希釈液を塗布し、50℃熱風
中で乾燥して厚さ3ミクロンのシリコーンゴム層
を設けた。
(a) ポリジメチルシロキサン(分子量約40000)
100 重量部 (b) メチルトリアセトキシシラン 5 重量部 (c) 酢酸ジブチルスズ 0.2重量部 このようにして設けたシリコーンゴム層の表面
に、実施例2で得られたフイルムの平滑面(凹凸
を有さない表面)がシリコーンゴム層と接するよ
うにしてラミネートし、水なし平版印刷版原板と
した。真空焼枠を用いて、この印刷版原版にポジ
フイルムを密着するのに1分間を要した。
また、比較として表面に凹凸を有さない平滑な
フイルムを用いて得られた水なし平版印刷版原板
で、同様の操作をしたところ、、真空密着時間に
3分間を要した。
なお、本発明の凹凸を有するフイルムが設けら
れた印刷版の場合には、平滑なフイルムを用いた
場合にしばしば発生するポジフイルムとカバーフ
イルムとの密着性不良に基づく焼ボケが皆無であ
つた。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図は、本発明に用いられるグ
ラビアロールのセルの一例を表わす概念図でイは
その平面図、ロはその断面図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 塗工樹脂と溶媒とから主としてなる塗布液を
    活性光線に対する光線透過率が少なくとも50%以
    上の光透過性フイルムの表面に塗布し、硬化させ
    て表面に凹凸を有する光透過性フイルムを製造す
    るに際し、該塗布液として粘度が0.5〜3.0ポイズ
    であつて、かつ上記フイルム表面に塗膜を形成し
    た後の活性光線に対する光線透過率が少なくとも
    50%以上である塗布液を使用し、該塗布液をセル
    部分の面積がグラビアロールのロール表面積に対
    して、10〜80%であるようなグラビアロールによ
    つて、上記フイルム表面に塗布し、硬化させるこ
    とを特徴とする表面に凹凸を有する光透過性フイ
    ルムの製造方法。
JP20345981A 1981-12-18 1981-12-18 表面に凹凸を有する光透過性フイルムの製造方法 Granted JPS58104674A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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JP6236991B2 (ja) * 2013-08-27 2017-11-29 東レ株式会社 コーティング方法およびコーティング装置
JP6199711B2 (ja) * 2013-11-26 2017-09-20 京セラ株式会社 誘電体フィルムおよびフィルムコンデンサ
JP2015217599A (ja) * 2014-05-16 2015-12-07 共同印刷株式会社 化粧シート及びその製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5611944A (en) * 1979-07-10 1981-02-05 Matsushita Electric Works Ltd Molding material of unsaturated polyester

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5611944A (en) * 1979-07-10 1981-02-05 Matsushita Electric Works Ltd Molding material of unsaturated polyester

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