JPS61112032A - １，２−ジクロロエタンの分離回収方法 - Google Patents
１，２−ジクロロエタンの分離回収方法Info
- Publication number
- JPS61112032A JPS61112032A JP23375084A JP23375084A JPS61112032A JP S61112032 A JPS61112032 A JP S61112032A JP 23375084 A JP23375084 A JP 23375084A JP 23375084 A JP23375084 A JP 23375084A JP S61112032 A JPS61112032 A JP S61112032A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dichloroethane
- hexamethyldisiloxane
- sulfuric acid
- mixed solution
- reaction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明ｋｉ １ 、 ２− ｉｙジクロロエタン分離回
収方法、特には医薬品の製造などにおいて溶媒として１
．２−＆クロロエタンを用いてシリル化反応を行なった
ときに副生する１、 ２−ジクロロエタンとヘキサメ
チルジシロキチンとの混合溶液から１．２−ジクロロエ
タンを分離回収する方法に関するものである。
収方法、特には医薬品の製造などにおいて溶媒として１
．２−＆クロロエタンを用いてシリル化反応を行なった
ときに副生する１、 ２−ジクロロエタンとヘキサメ
チルジシロキチンとの混合溶液から１．２−ジクロロエ
タンを分離回収する方法に関するものである。
（従来の技術］
現在、シリル化剤は医薬品製造工業の分野で広く活用さ
れている。このシリル化剤は医薬品合成の過程で分子中
の活性水素と反応して保護基を作り、目的の反応が行な
われた後には加水分解で除去されるというものであるが
、このシリル化反応は一般的にはクロロホルム、ジクロ
ロメタン、１．２−ジクロロエタンのような塩素系溶媒
中で行なわれている。
れている。このシリル化剤は医薬品合成の過程で分子中
の活性水素と反応して保護基を作り、目的の反応が行な
われた後には加水分解で除去されるというものであるが
、このシリル化反応は一般的にはクロロホルム、ジクロ
ロメタン、１．２−ジクロロエタンのような塩素系溶媒
中で行なわれている。
しかして、この溶媒中では１，２−ジクロロエタンが安
価であり、かつシリル化反応な高収率で進行させること
ができるという利点をもっているけれども、シリル化剤
としてトリメチルグロ口νランのようなトリメチルシリ
ル基を有するものを使用し、溶媒を１，２−ジクロロエ
タンとすると、目的反応終了後にトリメチルシリル基を
脱離したときに副生されるヘキサメチルジシロキサンが
１．２−ジクロロエタンとの混合物として回収され、こ
の混合物は従来各成分に分離する方法がないために焼却
処理せざるを得なかったのであるが、これには焼却装置
内にシリカが残留して詰まりが生じたり、焼却時に発生
する腐蝕性ガスで装置が傷められるという問題点があっ
た。
価であり、かつシリル化反応な高収率で進行させること
ができるという利点をもっているけれども、シリル化剤
としてトリメチルグロ口νランのようなトリメチルシリ
ル基を有するものを使用し、溶媒を１，２−ジクロロエ
タンとすると、目的反応終了後にトリメチルシリル基を
脱離したときに副生されるヘキサメチルジシロキサンが
１．２−ジクロロエタンとの混合物として回収され、こ
の混合物は従来各成分に分離する方法がないために焼却
処理せざるを得なかったのであるが、これには焼却装置
内にシリカが残留して詰まりが生じたり、焼却時に発生
する腐蝕性ガスで装置が傷められるという問題点があっ
た。
そのため、医薬品業界でｉｔシリル化反応の溶媒として
１，２−ジクロロエタンを使いたいという要望が強いに
も拘わらず、他の溶媒を使用することが多く、この解決
が強く望まれている。
１，２−ジクロロエタンを使いたいという要望が強いに
も拘わらず、他の溶媒を使用することが多く、この解決
が強く望まれている。
（発明の構成］
本発明は上記したような不利を解決する、ヘキサメチル
ジシロキサンと１，２−ジクロロエタンの混合液から１
．２−ジクロロエタンを分離回収する方法に関するもの
であり、これは１，２−ジクロロエタンとへキサメチル
ジシロキサンの混合溶液に濃硫酸を添加してヘキサメチ
ルジシロキサンを硫酸エステルに変換し、１．２−ジク
ロロエタンから分離することを特徴とするものである。
ジシロキサンと１，２−ジクロロエタンの混合液から１
．２−ジクロロエタンを分離回収する方法に関するもの
であり、これは１，２−ジクロロエタンとへキサメチル
ジシロキサンの混合溶液に濃硫酸を添加してヘキサメチ
ルジシロキサンを硫酸エステルに変換し、１．２−ジク
ロロエタンから分離することを特徴とするものである。
すなわち、本発明者らは１，２−ジクロロエタンとヘキ
サメチルジシロキサンとの混合溶液から１．２−９グロ
ロエタンを分離回収する方法について種々検討した結果
、１．２−ジクロロエタンとヘキサメチルジシロキサン
とは第１図に示したように１．２−ジグロロエタン８２
．４モル％、ヘキサメチルジシロキサン１７．６モル％
からなり、沸点が７７．２℃／７５０１１１Ｈｇである
共沸組成物を作るために通常の蒸留では各成分を純粋な
成分として分離することはできないけれども、この混合
物に第３成分を添加してヘキサメチルジシロキサンを他
の化合物に変換すれば分離可能な混合系とすることがで
きると考え、１．２−ジクロロエタンとは反応せず、ヘ
キサメチルジシロキサンとだけ反応する試剤について鋭
意探索し、この試剤として１硫酸を使用すれば所期の目
的を容易に達成できることを見出し、この反応条件など
についての研究を進めて本発明を完成させた。
サメチルジシロキサンとの混合溶液から１．２−９グロ
ロエタンを分離回収する方法について種々検討した結果
、１．２−ジクロロエタンとヘキサメチルジシロキサン
とは第１図に示したように１．２−ジグロロエタン８２
．４モル％、ヘキサメチルジシロキサン１７．６モル％
からなり、沸点が７７．２℃／７５０１１１Ｈｇである
共沸組成物を作るために通常の蒸留では各成分を純粋な
成分として分離することはできないけれども、この混合
物に第３成分を添加してヘキサメチルジシロキサンを他
の化合物に変換すれば分離可能な混合系とすることがで
きると考え、１．２−ジクロロエタンとは反応せず、ヘ
キサメチルジシロキサンとだけ反応する試剤について鋭
意探索し、この試剤として１硫酸を使用すれば所期の目
的を容易に達成できることを見出し、この反応条件など
についての研究を進めて本発明を完成させた。
本発明の方法は１，２−ジクロロエタンとヘキサメチル
ジシロキサンとの混合液に濃硫酸を添加してヘキサメチ
ルジシロキサンを硫酸エステルとして１．２−ジクロロ
エタンと分離するのであるが、１，２−ジクロロエタン
とへキサメチルジシロキサンの混合液に濃硫酸を常温で
添加するとヘキサメチルジシロキサンは濃硫酸と次式％
式％ にしたがって瞬時に反応して硫酸エステルとなるが１．
２−ｉ７クロロエタンは濃硫酸と全く反応しない。生
成したヘキサメチルジシロキサンの硫酸エステルは１．
２−ジクロロエタン層と硫酸１−に分配されるが、濃硫
酸の添加量を増加させていくとこの硫酸エステルの生成
量が増加していくと共に硫酸層に分配される電も多くな
る。この反応は平衡反応なので平衡を右辺にずらすため
には理論量よりも過剰の濃硫酸を添加することが必要と
され、回収される１、２−ジクロロエタンの純度が濃硫
酸の添加量に依存するので、この濃硫酸の添加量は混合
液におけるヘキサメチルジシロキサンの含有量と要求さ
れる回収１．２−ジクロロエタンの純度を考慮して定め
ればよいが、これを９９％以上の純度のものとするには
上述の反応式から計算される理論量の少なくとも５倍量
とすればよ１、％。
ジシロキサンとの混合液に濃硫酸を添加してヘキサメチ
ルジシロキサンを硫酸エステルとして１．２−ジクロロ
エタンと分離するのであるが、１，２−ジクロロエタン
とへキサメチルジシロキサンの混合液に濃硫酸を常温で
添加するとヘキサメチルジシロキサンは濃硫酸と次式％
式％ にしたがって瞬時に反応して硫酸エステルとなるが１．
２−ｉ７クロロエタンは濃硫酸と全く反応しない。生
成したヘキサメチルジシロキサンの硫酸エステルは１．
２−ジクロロエタン層と硫酸１−に分配されるが、濃硫
酸の添加量を増加させていくとこの硫酸エステルの生成
量が増加していくと共に硫酸層に分配される電も多くな
る。この反応は平衡反応なので平衡を右辺にずらすため
には理論量よりも過剰の濃硫酸を添加することが必要と
され、回収される１、２−ジクロロエタンの純度が濃硫
酸の添加量に依存するので、この濃硫酸の添加量は混合
液におけるヘキサメチルジシロキサンの含有量と要求さ
れる回収１．２−ジクロロエタンの純度を考慮して定め
ればよいが、これを９９％以上の純度のものとするには
上述の反応式から計算される理論量の少なくとも５倍量
とすればよ１、％。
上記したヘキサメチルジシロキサンと濃硫酸の反応は発
熱反応なので、この反応は冷却下で行なうことがよいが
、反応終了後にこれを静置すると反応液は１．２−ジク
ロロエタンＩ＃（上層）と硫酸ＩＩ（下層）に二層分離
されるので、この硫酸層を分離すれば１，２−ジクロロ
エタンを回収することができる。この分離された１、２
−ｉ７クロロエダン１＠はりいでこれをアルカリ水溶液
、例えばＮａＯＨ，Ｎａ、 ００．、 ＫＯＨ，Ｋ２Ｃ
Ｏ２，０ａｔＯＨ）、などの５〜１０％水溶液で洗滌し
てこ＼に微量含まれている硫酸を中和し、さらに十分に
水洗してから乾燥させることによってシリカ化反応の溶
媒として再度使用可能の１．２−ジクロロエタンとして
回収される３、なお、この１． ２−ジクロロエタン層
には若干量の硫酸エステルが含まれているが、これは必
要に応じ水を加えればヘキサメチルジシロキサンと硫酸
になるので、これを分離すればよい。
熱反応なので、この反応は冷却下で行なうことがよいが
、反応終了後にこれを静置すると反応液は１．２−ジク
ロロエタンＩ＃（上層）と硫酸ＩＩ（下層）に二層分離
されるので、この硫酸層を分離すれば１，２−ジクロロ
エタンを回収することができる。この分離された１、２
−ｉ７クロロエダン１＠はりいでこれをアルカリ水溶液
、例えばＮａＯＨ，Ｎａ、 ００．、 ＫＯＨ，Ｋ２Ｃ
Ｏ２，０ａｔＯＨ）、などの５〜１０％水溶液で洗滌し
てこ＼に微量含まれている硫酸を中和し、さらに十分に
水洗してから乾燥させることによってシリカ化反応の溶
媒として再度使用可能の１．２−ジクロロエタンとして
回収される３、なお、この１． ２−ジクロロエタン層
には若干量の硫酸エステルが含まれているが、これは必
要に応じ水を加えればヘキサメチルジシロキサンと硫酸
になるので、これを分離すればよい。
つぎに本発明の実施例をあげる。
実施例
攪袢装菫、滴下ロート、冷却器、温度計を備えつけた内
容Ｗ１１１の四ツロフラスコ：二、１．２−ジクロロエ
タン４６５．！９とヘキサメチルジシロキチン３５ｇか
らなる混合液を入れ、フラスコを水で冷却しながら、こ
＼に濃硫酸３２７ｇを滴下し、激しく攪拌した。
容Ｗ１１１の四ツロフラスコ：二、１．２−ジクロロエ
タン４６５．！９とヘキサメチルジシロキチン３５ｇか
らなる混合液を入れ、フラスコを水で冷却しながら、こ
＼に濃硫酸３２７ｇを滴下し、激しく攪拌した。
滴下終了後、系内の温度が室温になったところで攪拌を
停止し、反応混合物を分液ロートに移して静置したとこ
ろ、反応混合物は二屑に分離されたので、下ＩＩ（硫酸
層）を分離除去し、残ったＩＩ ２＝ジグロロ工タン層
を５％の水酸化ナトリウム水溶液で一度洗い、ついで十
分に水洗した後塩化カルシウムを加えて乾燥させたとこ
ろ、純度が９９．０に量％の１．２−ジクロロエタン４
５０ｇが回収され、この不純物はヘキサメチルジシロキ
サンであった。
停止し、反応混合物を分液ロートに移して静置したとこ
ろ、反応混合物は二屑に分離されたので、下ＩＩ（硫酸
層）を分離除去し、残ったＩＩ ２＝ジグロロ工タン層
を５％の水酸化ナトリウム水溶液で一度洗い、ついで十
分に水洗した後塩化カルシウムを加えて乾燥させたとこ
ろ、純度が９９．０に量％の１．２−ジクロロエタン４
５０ｇが回収され、この不純物はヘキサメチルジシロキ
サンであった。
′＄１図は１．２−ジクロロエタンとへキサメチルジン
ロキチンの気液平衡のＸ−Ｙ線図を示したものである。
ロキチンの気液平衡のＸ−Ｙ線図を示したものである。
Claims (1)
- １、１，２−ジクロロエタンとヘキサメチルジシロキサ
ンの混合溶液に濃硫酸を添加してヘキサメチルジシロキ
サンを硫酸エステルに変換し、１，２−ジクロロエタン
から分離することを特徴とする１，２−ジクロロエタン
の分離回収方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23375084A JPS61112032A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | １，２−ジクロロエタンの分離回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23375084A JPS61112032A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | １，２−ジクロロエタンの分離回収方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61112032A true JPS61112032A (ja) | 1986-05-30 |
| JPS6346047B2 JPS6346047B2 (ja) | 1988-09-13 |
Family
ID=16959987
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23375084A Granted JPS61112032A (ja) | 1984-11-06 | 1984-11-06 | １，２−ジクロロエタンの分離回収方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61112032A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9245785B2 (en) | 2009-07-14 | 2016-01-26 | Canon Anelva Corporation | Substrate processing apparatus |
-
1984
- 1984-11-06 JP JP23375084A patent/JPS61112032A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9245785B2 (en) | 2009-07-14 | 2016-01-26 | Canon Anelva Corporation | Substrate processing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6346047B2 (ja) | 1988-09-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN102304139B (zh) | 一种2β-三唑甲基青霉烷酸二苯甲酯二氧化物的制备方法 | |
| CA1079482A (en) | Method of separating sulfuric acid from neutral sodium sulphate | |
| JP2001500834A (ja) | ＬｉＰＦ▲下６▼製造方法 | |
| JPS61112032A (ja) | １，２−ジクロロエタンの分離回収方法 | |
| CN105753781B (zh) | 一种4‑溴甲基喹啉酮的绿色合成方法 | |
| JP2000219672A (ja) | ジメチルスルホキシドの製造方法 | |
| US3716628A (en) | Process for the production of chlorine | |
| US2169368A (en) | Oxidizing agent and method of making | |
| CN105130744B (zh) | 一种2,4‑二氟‑3,5‑二氯硝基苯合成1,3,5‑三氯‑2,4,6‑三氟苯 | |
| EP0487578A1 (en) | Method of producing tertiary amine-sulphur trioxide complexes | |
| US4196132A (en) | Continuous flow process for the preparation of o-chloranil from tetrachlorocatechol | |
| JPS5918377B2 (ja) | ソルビン酸の精製法 | |
| CN115873055B (zh) | 一种安全生产莫匹拉韦中间体的方法 | |
| CN107540587B (zh) | 帕立骨化醇的纯化方法 | |
| JPH0733375B2 (ja) | ２‐メルカプトベンゾオキサゾールの製法 | |
| JPS61167632A (ja) | アリルアルコ−ルの精製法 | |
| US2360492A (en) | Process of producing alkali metal and alkaline earth metal hypochlorites and alcohol | |
| JPH02215790A (ja) | ヘキサメチルジシロキサンの回収方法 | |
| JPH11315045A (ja) | シクロプロピルアルキルケトンの製法 | |
| JPS61158949A (ja) | ２−（４′−アミルベンゾイル）安息香酸混合物の製造方法 | |
| US3440011A (en) | Process for the manufacture of chlorine by oxidation of hydrogen chloride or nitrosyl chloride | |
| US2820068A (en) | Manufacture of halogen compounds | |
| JPH0735244B2 (ja) | 一塩化沃素の製造方法 | |
| JPS6114156B2 (ja) | ||
| JP2783370B2 (ja) | 第三アミン・三酸化硫黄錯体の製造方法 |