JPS6098404A - ダイクロイツクミラ−の表面保護膜形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ダイクロイックミラーにおける公党特性を安
定化させるためなされたミラーの表面保護膜形成方法に
関するものである。

ダイクロイックミラーはガラス基板の一表面側に高屈折
率物質（酸化チタン、硫化亜鉛等）および低屈折率物質
（弗化マグネシウム、酸化シリコン等）から成る透明膜
ン交互に数層形成したものであり、テレビ撮像管の色分
離フィルターや熱線分離フィルター等に用いられて入射
う℃のうち特定の色のみケカットするように働く。

第１図はこのようなダイクロイックミラーの従来構造ケ
示すもので、■はガラス基板、２は七の重膜３ａおよび
低屈折率膜３ｂが交互に形成されている。これら高屈新
車Ｗ１．３ａおよび低屈折率膜３ｂ／ｖ膜厚や層数は膜
材料や目的とする公党特性によって決定されるが０通常
はｌＪｊｍ位の膜厚で１（ｌへ加層位に形成される。

ところでこのダイクロイックミラーにおいては。

ダイクロイック膜２が大気中の温度や湿度の変化に敏感
であり、また薄膜であるために傷が付き易いために、膜
の屈折車等が容易に変化してしまうので分光特性が不安
定Ｋ　７ｊるという問題がある。

このためダイクロイック膜２の表面に他のガラス板ン透
明接着剤等で張り付けて表面ン保護するようにした構造
が考えられているが、比較的温度の高い雰囲気内で使用
されると上記接着剤が劣化して気泡等を発生するように
なるために、同ａｌな問題が避けられない。

またダイクロイック膜は多／ｉ＃薄膜から成っているた
めに膜形成中その表面には微／Ｊ％粒子の飛散によって
突起物が形成され、膜が大面積になる程その領向は大と
なるが、これら突起物はそのまま残つた状態で使用され
ている。

本発明は以上の問題に対処してなされたもので。

ダイクロイック膜′ｌ￥緩うようにガラス基板の一表面
側に透明な保護膜を形成し、この透明な保護膜ン所望量
研磨処理した後焼成処理ン施し、必要に応じて上記形成
工程および研磨工程を繰り返すように構成して従来欠点
を除去するようにしたダイクロイックミラーの保護膜形
成方法ヲ提供することン目的とするものである。以下図
面ケ参照して本発明実施例を説明する。

第２図乃至第５図は本発明実施列によるミラーの保護膜
形成方法を示す断面図で、以下工程順に説明する。

工程（Ａｔ：第２図のように、−表面側に所望のダイク
ロイック膜２が形成されたガラス基板１を用意する。

工程ｆＢＩ　：第３図のように、ガラス基板１の一表面
側に上記ダイクロイック膜２ン覆うように透明な保護膜
４を形成する。この保護膜４は酸化シリ：Ｉ　ｙ　（Ｓ
＋０２　）　ｈ　酸化フルミ＝　ウＡ　（ＡＪｚ０３）
等の酸化物、あるいは弗化セリウム（ＣｅＦ３）　ｈ弗
化トリウＡ　（ＴｈＦ’４）　ｂ弗化ランタｙ　（Ｌａ
Ｆｓ　）　ｈ弗化ネオジウム（ＮｄＦ３　）　、弗化バ
リウム（ＢａＦ３）等の弗化物又はそれらの混合物より
成る膜を真空蒸着法によって２μｍ以上の厚さに形成す
る。

工程（Ｏ：第４図のように、保護膜４をパフ研磨等の研
磨法によって所望量例えば０．１μｍ以上除去する。こ
れにより上記ダイクロイック膜２表面に突起物が形成さ
れていても又ダイクロイック膜の厚さによる段差が生じ
ていてもこれは保護膜４と共に研磨される。

続いてガラス基板１を洗浄処理し、必要に応じて上記保
護膜４を同様にして形成する。この保護膜４は少な（と
も全体の厚さが少な（とも研磨後４μｍ以上にＩＩるよ
うに形成し、ダイクロイック膜２に欠陥が多い場合は特
に厚く形成し研磨量を多（するようにする。

ダイクロイック膜２ン大面槓に形成して突起物やゴミ等
の欠陥が発生しても、上記研磨工程によする程強度は増
加するが、ガラス基板１やダイ２０イツク膜２との膨張
保Ｖの差異によってクラックが発生し易くなる場合があ
る。

この場合は保護膜４の構成ン膨張係数が小の時は酸化シ
リ、コン膜成分ケ多（シ、膨張係数が大の時は酸化アル
ミニウム膜成分を多くすることによってクラック発生ン
防止することができる。

うつが、４μｍ以上形成することによりこの効果を減ら
すことかでざる。

所望の厚さの保Ｓ膜４？形成した後ガラス基板１′？！
−酸素含有雰囲気内で３００〜６００　ｃで熱処理ン施
し、上記保護ｐＡ４を焼成する。これによって保護膜４
内に含まれていた水分は除去されると共に膜自体の密度
が上ってくるので膜質が安定化される。この焼成処理は
特に酸化物を用いた場合に効果的であり透明度の劣化を
回伽させることができる。

得られた保護膜４を橿うようにスパッター法によってさ
らに池の保護膜５を形成する。

上記焼成処理後の保護膜４のままでも強度に浸れた安定
ｒｊものが得られるが、このようにスパッター法により
さら（保簑１］Ｉ５を追加することによってスパッター
膜は硬質な膜が形成できるのでより強度に優れた保ｍ＠
ｙａ：得ることができる。

以上述べて明らかなように本発明によれば、ダイクロイ
ック＃！Ａｙａ’ａｔうようにガラス基板の一辰面側に
透明な保護膜ン形成し、この透明な保霞膜ン所望量研磨
処理した後焼成処理ン施し、心安に応じて上記形成工程
および研磨工程ン繰り返すように構成したものであるか
ら、ダイクロイック膜表面ン強度に優れた安定な保７８
嘆によって覆うことができる。

このためダイクロイック嘆が外気に影響されたり、傷が
付けられるのは防止されるので分光特性は安定化される
。また接着剤ケ介して保護ガラス板を用いることもない
ので、高温雰囲気において接着剤による影響Ｚ受けるこ
Ａもな（なる。

さらにダイクロイック嗅Ｙ大面槓に形成した場合でも突
起物を完全に除去することができるので。

それによる特性上の影響も除去することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来列ン示す断面図、第２図乃至８１！５図は
本発明実施列ン示す断面図である。 ■・・・ガラス基板、２・・・ダイクロイック膜、４゜
５・・・保護膜。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、（ＡＪ　−表面側に所望のダイクロイック膜が形成
   されたガラス基板ン用意する工程、 （Ｂｉ　上記ガラス基板の一表面側にグイクロイック膜
   ン覆うように透＃４な保護膜ン形成する工程。 （Ｑ　上記透明な保護膜ン所望量研磨処理する工程。 鋤　上記透明な保ｍｙン焼成処理する工程。 乞含むことン％徴とするダイクロイックミラーの表面保
   護膜形成方法。 ２　上記（０）工程における透明な保霞ｍを真を蒸着法
   によって形成することを特徴とする特許請求の範囲第１
   項記載のダイクロイックミラーの表面保護膜形成方法。 ３、上記ｔＬ９工程およびｔｅｌ工程工程型所望回数繰
   すことを特徴とする特許請求の範囲第１項又は組成方法
   。 ４、　さらに（目上記透明な保護膜７棟うようにスパッ
   ター法によって曲の透明な保護膜を形成する工程、馨含
   むことを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第３項の
   いずれかに記載のダイクロイックミラーの表面保護膜形
   成方法。