JPS609512B2 - 1,3ービス(2‐テトラハイドロピラニル)―5―フルオロウラシルの製造法 - Google Patents
1,3ービス(2‐テトラハイドロピラニル)―5―フルオロウラシルの製造法Info
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- JPS609512B2 JPS609512B2 JP15416275A JP15416275A JPS609512B2 JP S609512 B2 JPS609512 B2 JP S609512B2 JP 15416275 A JP15416275 A JP 15416275A JP 15416275 A JP15416275 A JP 15416275A JP S609512 B2 JPS609512 B2 JP S609512B2
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- fluorouracil
- bis
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- tetrahydropyranyl
- trimethylsilyl
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な1・3ービス(2−テトラハイド。
ピラニル)−5−フルオロウラシルの製造法に関する。
本発明により得られる化合物は式 で表わされ、新規化合物である。
本発明により得られる化合物は式 で表わされ、新規化合物である。
本発明の化合物は医薬品として、特に低毒性の抗ビール
ス剤及び抗腫傷剤として有用である。
ス剤及び抗腫傷剤として有用である。
本発明の化合物は2・4−ビス(トリメチルシリル)−
5ーフルオロウラシルに一般式(式中Rは低級アルキル
基又はフヱニル基を示す)で表わされる2ーアシロキシ
テトラハィドロピラソを作用させることにより製造され
る。
5ーフルオロウラシルに一般式(式中Rは低級アルキル
基又はフヱニル基を示す)で表わされる2ーアシロキシ
テトラハィドロピラソを作用させることにより製造され
る。
本発明の原料である2・4ービス(トリメチルシリル)
一5−フルオロウラシル及び2ーアシロキシテトラハィ
デロピランはともに公知の化合物である。前者の2・4
−ビス(トリメチルシリル)−5ーフルオロウラシルは
例えば5ーフルオロウラシルにへキサメチルジシラザン
を加えて加熱、反応させることにより得られる。反応生
成物中よりへキサメテルジシラザンを窒素気流中で留去
して残留する油状物質を分留して2・4ービス(トリメ
チルシリル)−5ーフルオロウラシルを単離しても良い
が、本発明化合物の原料としては上記油状物質をものま
ま用いることもできる。後者の2−アシロキシテトラハ
ィドロピランの具体例としては2−アセトキシテトラハ
ィドロピラン、2−プロピオニルオキシテトラヒドロピ
ラン、2ープチリルオキシテトラハイドロピラン、2−
ペンゾィルオキシテトラハィドロピラン等が挙げられる
。本発明化合物を得る反応は、上記両成分を反応させる
こにより行なわれる。
一5−フルオロウラシル及び2ーアシロキシテトラハィ
デロピランはともに公知の化合物である。前者の2・4
−ビス(トリメチルシリル)−5ーフルオロウラシルは
例えば5ーフルオロウラシルにへキサメチルジシラザン
を加えて加熱、反応させることにより得られる。反応生
成物中よりへキサメテルジシラザンを窒素気流中で留去
して残留する油状物質を分留して2・4ービス(トリメ
チルシリル)−5ーフルオロウラシルを単離しても良い
が、本発明化合物の原料としては上記油状物質をものま
ま用いることもできる。後者の2−アシロキシテトラハ
ィドロピランの具体例としては2−アセトキシテトラハ
ィドロピラン、2−プロピオニルオキシテトラヒドロピ
ラン、2ープチリルオキシテトラハイドロピラン、2−
ペンゾィルオキシテトラハィドロピラン等が挙げられる
。本発明化合物を得る反応は、上記両成分を反応させる
こにより行なわれる。
両成分の反応割合は2・4−ビス(トリメチルシリル)
一5ーフルオロウラシルに対して、2−アシロキシテト
ラハイドロピランを通常2倍モル以上、好ましくは約2
.2−4倍モルとするのが望ましい。反応は円滑に進め
るためには触媒としてルイス酸又はアルカリ金属の沃化
物を使用するのが好ましい。ルイス酸の例としては塩化
第二錫、四塩化チタン、四塩化珪素、五塩化アンチモン
、三弗棚素、エチルエーテル等を、アルカリ金属の沃化
物の例としては沃化ナトリウム、沃化カリウム、沃化リ
チウム等が挙げられる。このうちルイス酸としては塩化
第二錫が、沃化物としては沃化ナトリウムが特に好まし
い。上記触媒の使用量は広い範囲に亘ること3ができる
が、有利には2.4ービス(トリメチルシリル)−5ー
フルオロウラシル1モルに対して、0.001〜0.5
モルのルイス酸を、0.01〜2モルの沃化アルカリを
用いるのが好ましい。反応は好ましくはアセトニトリル
、ニト。メタン、ジクロメタ3ンジクロルェタン等の非
プロトン性の溶媒中で行なわれるが、触媒としてルイス
酸を用いるときは溶媒としてジクロメタン、ジクロルェ
タンを用いるが好ましく、触媒として沃化アルカリを用
いるときは溶媒としてアセトニトリル、ニトロメタンZ
を用いるのが好ましい。反応温度は広い範囲で適宜に決
定できるが、触媒としてルイス酸を用いるときは−50
00〜室温で行なうのが望ましく、触媒として沃化アル
カリを用いるときは0〜10000で行なうのが望まし
い。本発明化合物は反応終了後、通常公知の方法により
容易に分離、精製され得る。
一5ーフルオロウラシルに対して、2−アシロキシテト
ラハイドロピランを通常2倍モル以上、好ましくは約2
.2−4倍モルとするのが望ましい。反応は円滑に進め
るためには触媒としてルイス酸又はアルカリ金属の沃化
物を使用するのが好ましい。ルイス酸の例としては塩化
第二錫、四塩化チタン、四塩化珪素、五塩化アンチモン
、三弗棚素、エチルエーテル等を、アルカリ金属の沃化
物の例としては沃化ナトリウム、沃化カリウム、沃化リ
チウム等が挙げられる。このうちルイス酸としては塩化
第二錫が、沃化物としては沃化ナトリウムが特に好まし
い。上記触媒の使用量は広い範囲に亘ること3ができる
が、有利には2.4ービス(トリメチルシリル)−5ー
フルオロウラシル1モルに対して、0.001〜0.5
モルのルイス酸を、0.01〜2モルの沃化アルカリを
用いるのが好ましい。反応は好ましくはアセトニトリル
、ニト。メタン、ジクロメタ3ンジクロルェタン等の非
プロトン性の溶媒中で行なわれるが、触媒としてルイス
酸を用いるときは溶媒としてジクロメタン、ジクロルェ
タンを用いるが好ましく、触媒として沃化アルカリを用
いるときは溶媒としてアセトニトリル、ニトロメタンZ
を用いるのが好ましい。反応温度は広い範囲で適宜に決
定できるが、触媒としてルイス酸を用いるときは−50
00〜室温で行なうのが望ましく、触媒として沃化アル
カリを用いるときは0〜10000で行なうのが望まし
い。本発明化合物は反応終了後、通常公知の方法により
容易に分離、精製され得る。
例えば反応終了後、溶媒を留去し、残澄にアルカリ金属
の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩水溶液を加えて、液・性
を弱アルカリ性にし、クロロホルム、エーテル等で抽出
を行なう。次いで有機層を分取し、水洗後濃縮する。残
澄を再沈澱するか又はカラムクロマトグラフィーにかけ
ることにより高収率で目的化合物を得ることができる。
以下本発明の実施例を挙げる。
の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩水溶液を加えて、液・性
を弱アルカリ性にし、クロロホルム、エーテル等で抽出
を行なう。次いで有機層を分取し、水洗後濃縮する。残
澄を再沈澱するか又はカラムクロマトグラフィーにかけ
ることにより高収率で目的化合物を得ることができる。
以下本発明の実施例を挙げる。
尚%とあるは特に断らない限り重量%を表わすものとす
る。実施例 15ーフルオロウラシル26.0夕とへキ
サメチルジシラン38.72を150〜160ooで4
時間燈梓する。
る。実施例 15ーフルオロウラシル26.0夕とへキ
サメチルジシラン38.72を150〜160ooで4
時間燈梓する。
反応後窒素気流中で過剰のへキサメチルジシランを2比
吻Hgの減圧下100qC以下で轡去する。残澄は乾燥
ジクロルメタン250の‘に溶解し、無水塩化第二錫1
.0夕を加える。次に2ーアセトキシテトラハィドロピ
ラン72夕を室温で滴下し、2時間蝿拝する。反応後1
0%カセィソーダ水溶液を加えて液性をpH8〜10に
する。有機層を分取し水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥す
る。減圧濃縮し、残澄をクロロホルムーェタノール(1
00:1)展開溶媒を使用する、シリカゲルカラムクロ
マトグラフイーを行ない、白色結晶である1・3−ビス
(2ーテトラハイドロピラニル)一5−フルオロウラシ
ル54.3夕を得る。収率91%元素分析値(C,4日
,9N204F・1/2日20として)H C N計算
値 6.56% 54.72% 9.12%測定値 6
.42% 54.65% 9.12%IH−NMR(ピ
リジン−d5中):6肌1.3〜2.0(m、1が、C
3′−日、C4′‐日、C5′ーH)3.55〜4.6
5(m、4日、C6′一日、C6″一日)5.4〜5.
6(m、IH、C2′−H)6.2〜6.4(m、IH
、C2″一日)7.63(d、IH、C6−H) 実施例 2 実施例1と同機に5ーフルオロウラシル26.0夕より
合成した2・4−ビス(トリメチルシリル)−5−フル
オロウラシルをジクロルメタン250の‘に溶解し、三
弗化ホウ酸・エチルエーテル0.572を加える。
吻Hgの減圧下100qC以下で轡去する。残澄は乾燥
ジクロルメタン250の‘に溶解し、無水塩化第二錫1
.0夕を加える。次に2ーアセトキシテトラハィドロピ
ラン72夕を室温で滴下し、2時間蝿拝する。反応後1
0%カセィソーダ水溶液を加えて液性をpH8〜10に
する。有機層を分取し水洗後、硫酸ナトリウムで乾燥す
る。減圧濃縮し、残澄をクロロホルムーェタノール(1
00:1)展開溶媒を使用する、シリカゲルカラムクロ
マトグラフイーを行ない、白色結晶である1・3−ビス
(2ーテトラハイドロピラニル)一5−フルオロウラシ
ル54.3夕を得る。収率91%元素分析値(C,4日
,9N204F・1/2日20として)H C N計算
値 6.56% 54.72% 9.12%測定値 6
.42% 54.65% 9.12%IH−NMR(ピ
リジン−d5中):6肌1.3〜2.0(m、1が、C
3′−日、C4′‐日、C5′ーH)3.55〜4.6
5(m、4日、C6′一日、C6″一日)5.4〜5.
6(m、IH、C2′−H)6.2〜6.4(m、IH
、C2″一日)7.63(d、IH、C6−H) 実施例 2 実施例1と同機に5ーフルオロウラシル26.0夕より
合成した2・4−ビス(トリメチルシリル)−5−フル
オロウラシルをジクロルメタン250の‘に溶解し、三
弗化ホウ酸・エチルエーテル0.572を加える。
次に2ーアセトキシテトラハイドロピラン86.4夕を
室温で滴下し2.5時間損拝する。反応終了後、減圧濃
縮し残笹に10%炭酸ナトリウム水溶液を加えて液・性
をpH8〜10にする。クロロホルム250の‘で3回
抽出し、クロロホルム層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾
燥する。クロロホルムを留去し、銭澄を100仇上のエ
タノールに溶解した後、水250の‘を加えると油状物
質が生成するので上燈液を除去する。油状物質を乾燥し
、1・3ービス(2ーテトラハイドロピラニル)一5−
フルオロウラシル47.7夕を得る。収率80%元素分
析値(C,4日,ぶ204F・1/が20として)H
C N計算値 6.56% 54.72% 9.12%
測定値 6.5% 54.59% 9.23%IH一
NMR:実施例1に同じ。
室温で滴下し2.5時間損拝する。反応終了後、減圧濃
縮し残笹に10%炭酸ナトリウム水溶液を加えて液・性
をpH8〜10にする。クロロホルム250の‘で3回
抽出し、クロロホルム層を水洗後、硫酸ナトリウムで乾
燥する。クロロホルムを留去し、銭澄を100仇上のエ
タノールに溶解した後、水250の‘を加えると油状物
質が生成するので上燈液を除去する。油状物質を乾燥し
、1・3ービス(2ーテトラハイドロピラニル)一5−
フルオロウラシル47.7夕を得る。収率80%元素分
析値(C,4日,ぶ204F・1/が20として)H
C N計算値 6.56% 54.72% 9.12%
測定値 6.5% 54.59% 9.23%IH一
NMR:実施例1に同じ。
実施例 3
実施例1と同様に5ーフルオロウラシル26.0夕より
合成した2・4ービス(トリメチルシリル)−5−フル
オロウラシルをアセトニトリル300M溶解し、沃化ナ
トリウム30.0夕を加える。
合成した2・4ービス(トリメチルシリル)−5−フル
オロウラシルをアセトニトリル300M溶解し、沃化ナ
トリウム30.0夕を加える。
次に2ーアセトキシテトラハイドロピラン72.0夕を
加え、60qoで0.5時間簿梓する。反応終了後減圧
濃縮し、残澄に飽和重曹水を加えて液・性をPH8〜9
にし、クロロホルム300のとで抽出する。クロロホル
ム層を分取し、水洗後硫酸マグネシウムで乾燥する。ク
ロロホルムを留去し、残澄を実施例1と同様にカラムク
ロマトグラフィーを行ない1・3−ビス(2−テトラハ
イドロピラニル)一5ーフルオロウラシル44.7夕を
得る。収率75%元素分析値(C,4日,ぶ204F・
1/汎20として)H C N計算値 6.56% 5
4.72% 9.12%測定値 6.52% 54.8
7% 9.23%IH−NMR;実施例1に同じ。
加え、60qoで0.5時間簿梓する。反応終了後減圧
濃縮し、残澄に飽和重曹水を加えて液・性をPH8〜9
にし、クロロホルム300のとで抽出する。クロロホル
ム層を分取し、水洗後硫酸マグネシウムで乾燥する。ク
ロロホルムを留去し、残澄を実施例1と同様にカラムク
ロマトグラフィーを行ない1・3−ビス(2−テトラハ
イドロピラニル)一5ーフルオロウラシル44.7夕を
得る。収率75%元素分析値(C,4日,ぶ204F・
1/汎20として)H C N計算値 6.56% 5
4.72% 9.12%測定値 6.52% 54.8
7% 9.23%IH−NMR;実施例1に同じ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 2・4−ビス(トリメチルシリル)−5−フルオロ
ウラシルと一般式▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは低級アルキル基又はフエニル基を示す)で表
わされる2−アシロキシテトラハイドロピランを反応さ
せることを特徴とする1・3−ビス(2−テトラハイド
ロピラニル)−5−フルオロウラシルの製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15416275A JPS609512B2 (ja) | 1975-12-22 | 1975-12-22 | 1,3ービス(2‐テトラハイドロピラニル)―5―フルオロウラシルの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15416275A JPS609512B2 (ja) | 1975-12-22 | 1975-12-22 | 1,3ービス(2‐テトラハイドロピラニル)―5―フルオロウラシルの製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5277072A JPS5277072A (en) | 1977-06-29 |
JPS609512B2 true JPS609512B2 (ja) | 1985-03-11 |
Family
ID=15578176
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15416275A Expired JPS609512B2 (ja) | 1975-12-22 | 1975-12-22 | 1,3ービス(2‐テトラハイドロピラニル)―5―フルオロウラシルの製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS609512B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR3038823B1 (fr) * | 2015-07-17 | 2022-03-04 | Essilor Int | Dispositif de compensation visuelle, procede de commande d'un dispositif de compensation visuelle et dispositif binoculaire d'optometrie |
-
1975
- 1975-12-22 JP JP15416275A patent/JPS609512B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5277072A (en) | 1977-06-29 |
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