JPS6061760A - アモルファス感光体 - Google Patents
アモルファス感光体Info
- Publication number
- JPS6061760A JPS6061760A JP17182283A JP17182283A JPS6061760A JP S6061760 A JPS6061760 A JP S6061760A JP 17182283 A JP17182283 A JP 17182283A JP 17182283 A JP17182283 A JP 17182283A JP S6061760 A JPS6061760 A JP S6061760A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- amorphous
- layer
- copying
- coating layer
- photoreceptor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ｉ１１技術分野
本発明は電子複写機、レーザープリンタなどに用いられ
る電子写真用感光体に関する。
る電子写真用感光体に関する。
（２）従来技術とその問題点
電子写真技術は古（１９３８年カールソンによって発明
されて以来複写機やプリンタとして床几に利用され現在
の事務所には不可欠の機器となっている。これに使用さ
れる心臓部ともいうべき感光体としては各種のものが開
発されたが、アモルファスセレニウム（ａ−８ｅ）に代
表されるアモルファスカルコゲン、■−■族微結晶を樹
脂に分散させたもの、有機光導電材料などがあシ、最近
ではアモルファスシリコン（ａ−８ｉ）の感光体も検問
されている。か＼る感光体に要求される特性の中で、長
期間安定した画質を得るだめの信頼性が最も重要である
。この信頼性を妨げる要因として、感光体表面に静電荷
を与える帯電過程のコロナ放電と種々の工程での他部材
との接触による機械的損傷とがある。帯電過程のコロナ
放電では酸素や窒素などのイオン、オゾンなどが発生し
、これらの物質が化学的に非常に活性であるため感光体
表面を変質させてしまい感光体を長時間安定して使用で
きないことが多かった。更にａ−８ｅ、樹脂分散型およ
び有機感光体は機械的強度が弱く種々の機械的損傷によ
って使用できないことも多く、最も機械的強度が優れた
ａ Ｓｉ感光体でもなお不充分である。
されて以来複写機やプリンタとして床几に利用され現在
の事務所には不可欠の機器となっている。これに使用さ
れる心臓部ともいうべき感光体としては各種のものが開
発されたが、アモルファスセレニウム（ａ−８ｅ）に代
表されるアモルファスカルコゲン、■−■族微結晶を樹
脂に分散させたもの、有機光導電材料などがあシ、最近
ではアモルファスシリコン（ａ−８ｉ）の感光体も検問
されている。か＼る感光体に要求される特性の中で、長
期間安定した画質を得るだめの信頼性が最も重要である
。この信頼性を妨げる要因として、感光体表面に静電荷
を与える帯電過程のコロナ放電と種々の工程での他部材
との接触による機械的損傷とがある。帯電過程のコロナ
放電では酸素や窒素などのイオン、オゾンなどが発生し
、これらの物質が化学的に非常に活性であるため感光体
表面を変質させてしまい感光体を長時間安定して使用で
きないことが多かった。更にａ−８ｅ、樹脂分散型およ
び有機感光体は機械的強度が弱く種々の機械的損傷によ
って使用できないことも多く、最も機械的強度が優れた
ａ Ｓｉ感光体でもなお不充分である。
（３）発明の目的
本発明の目的はかくる問題を解消し長時間安定して使用
できる感光体を提供することにある。
できる感光体を提供することにある。
（４）発明の構成
本発明は導電性基体上に形成された従来の感光活性層の
表面に１３−Ｎ係、Ｂ−Ｐ糸および５ｉ−Ｎｏ系アモル
ファスの群から選ばれた少くとも１つの被覆層を形成し
た感光体であり、これによって感光体の信頼性が著しく
向上するものである。
表面に１３−Ｎ係、Ｂ−Ｐ糸および５ｉ−Ｎｏ系アモル
ファスの群から選ばれた少くとも１つの被覆層を形成し
た感光体であり、これによって感光体の信頼性が著しく
向上するものである。
以下実施例に従って訂細に説明する。その１つとして導
体性基体であるアルミニウムドラム基体上にａ Ｓｉ感
光性活性層を形成した複写機用感光体を例にとって説明
する。
体性基体であるアルミニウムドラム基体上にａ Ｓｉ感
光性活性層を形成した複写機用感光体を例にとって説明
する。
ｖ；１図は本発明のａ−Ｓｉ感光体の一部断面図であり
、Ｉはアルミニウムドラム基体、２はａ−８ｉ［光性活
性層、３が本発明の特徴であるアモルファス被覆層であ
る。ａ ’−Ｓ ｉ層２は公知のＳ ＩＨ４ガスをクロ
ー放電分解するプラズマＣＶＤ法で形成し、その膜厚を
１０μｍとしだ。このａ−Ｓｉ層はこの方法以外、Ｓｉ
Ｈ４あるいは／およびｓｉｌ”４を主体とするガスを原
料としたプラズマＣＶＤ法、スパックリンク法、イオン
デレーティング法、通常のＣＶＤ法で形成してもよい。
、Ｉはアルミニウムドラム基体、２はａ−８ｉ［光性活
性層、３が本発明の特徴であるアモルファス被覆層であ
る。ａ ’−Ｓ ｉ層２は公知のＳ ＩＨ４ガスをクロ
ー放電分解するプラズマＣＶＤ法で形成し、その膜厚を
１０μｍとしだ。このａ−Ｓｉ層はこの方法以外、Ｓｉ
Ｈ４あるいは／およびｓｉｌ”４を主体とするガスを原
料としたプラズマＣＶＤ法、スパックリンク法、イオン
デレーティング法、通常のＣＶＤ法で形成してもよい。
また光感度を余り下げないで高抵抗にするためにあるい
は感光波長を調整するため他元素（酸素、窒素、炭素、
硼素、Ｇｅ、錫など）を添加してもよい。
は感光波長を調整するため他元素（酸素、窒素、炭素、
硼素、Ｇｅ、錫など）を添加してもよい。
アモルファス？＆９Ｍ ３ ハ、Ｂ−Ｎ７アモルファヌ
、ｎ＝ｐ 糸アモルファスおよび５ｉ−０−Ｎ糸アモル
ファス（以下ａ−ＢＮ 、、 ａ−ＢＰ 、 ａｓｉＯ
Ｎと記す）のうち少くとも１種以上であり各々微結晶を
含む膜であってもよい。
、ｎ＝ｐ 糸アモルファスおよび５ｉ−０−Ｎ糸アモル
ファス（以下ａ−ＢＮ 、、 ａ−ＢＰ 、 ａｓｉＯ
Ｎと記す）のうち少くとも１種以上であり各々微結晶を
含む膜であってもよい。
これらの被覆層はプラズマＣＶＤ法、スパッタリング法
、イオンビームデポジッション法、ＣＶＤ法なといずれ
の方法でも形成されるが、ａ Ｓｉ膜の形成時の基板温
度（２００〜３００”Ｃ’）以下の温度で形成した方が
よく、そのためにはプラズマを利用するプラズマＣＶＤ
法、スパックリンク法、イオンビームデボジツション法
が適する。またａ−８ｉ膜と同じ設備で形成した方が低
コヌトになり工業的に有利である。
、イオンビームデポジッション法、ＣＶＤ法なといずれ
の方法でも形成されるが、ａ Ｓｉ膜の形成時の基板温
度（２００〜３００”Ｃ’）以下の温度で形成した方が
よく、そのためにはプラズマを利用するプラズマＣＶＤ
法、スパックリンク法、イオンビームデボジツション法
が適する。またａ−８ｉ膜と同じ設備で形成した方が低
コヌトになり工業的に有利である。
実施例においては、これらの被覆層はａ−８ｉと同じプ
ラズマＣＶＤ法で、同じ設備でａ−８ｉに連続して形成
した。ａ ＢＮの原料はジボラン（Ｂ２Ｈ５）と７ンー
ｅ＝ア（ＮＨ３）、ａ−ＢＰの原料は８２ Ｈ６とフォ
スフイン（ＰＨ３）、ａ−３ｉＯＮの原料はＳｉＨ４と
ＮＨ３とＮＯを各々使用した。
ラズマＣＶＤ法で、同じ設備でａ−８ｉに連続して形成
した。ａ ＢＮの原料はジボラン（Ｂ２Ｈ５）と７ンー
ｅ＝ア（ＮＨ３）、ａ−ＢＰの原料は８２ Ｈ６とフォ
スフイン（ＰＨ３）、ａ−３ｉＯＮの原料はＳｉＨ４と
ＮＨ３とＮＯを各々使用した。
第１図に示した本発明による感光体および第１図の感光
体から被覆層３を除いた従来の感光体を用いて複写耐久
試験を実施しだ結果、本発明による感光体は前記いずれ
の被覆層を用いた場合も、８０万回の複写に充分耐え、
なお鮮明な複写が可能であったのに７１シ、従来の感光
は５万回の複写で鮮明度が悪くなり使用不能となった。
体から被覆層３を除いた従来の感光体を用いて複写耐久
試験を実施しだ結果、本発明による感光体は前記いずれ
の被覆層を用いた場合も、８０万回の複写に充分耐え、
なお鮮明な複写が可能であったのに７１シ、従来の感光
は５万回の複写で鮮明度が悪くなり使用不能となった。
」二記の実施例でアモルファス被覆層は０３μ７＋１と
したが膜厚を変化させて効果を調べた結果、５００八以
上のｊ膜厚が必要であり、感光活性層に充分の光を到達
させるために２１ｉｍ以下が望ましい。勿論この値はア
モルファス被覆層の光吸収係数、光源の波長などに依存
する。
したが膜厚を変化させて効果を調べた結果、５００八以
上のｊ膜厚が必要であり、感光活性層に充分の光を到達
させるために２１ｉｍ以下が望ましい。勿論この値はア
モルファス被覆層の光吸収係数、光源の波長などに依存
する。
まだａ−８ｉとアルミニウム基体との接着性を向」ニす
るために中間層を設けることもできる。
るために中間層を設けることもできる。
第１図は本発明の感光体の一部断面図である。
１：導電性基体、２：感光活性層、３：アモルファス被
覆層。
覆層。
Claims (3)
- （１）導電性基体上に形成された感光活性層の表面にＢ
−Ｎ系アモルファス、Ｂ−Ｐ系アモルファス、およびＳ
１−０−Ｎ糸アモルファスから選ばれた少くとも１種
以上の被覆層を形成されてなることを特徴とするアモル
ファス感光体。 - （２）感光活性層の表面に形成された被覆層のＪ早みが
５００Ｘ以上２μＩ１１以下であることを特徴とする特
許請求の範囲第ｆｉ１項記戦のアモルファス感光体。 - （３）感光活性層がアモルファスシリコンであることを
特徴とする特許請求の範囲第（１）項記載のアモルファ
ス！・８光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17182283A JPS6061760A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | アモルファス感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17182283A JPS6061760A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | アモルファス感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6061760A true JPS6061760A (ja) | 1985-04-09 |
Family
ID=15930379
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17182283A Pending JPS6061760A (ja) | 1983-09-16 | 1983-09-16 | アモルファス感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6061760A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62265668A (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-18 | Canon Inc | 光受容部材 |
| JPS62265669A (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-18 | Canon Inc | 光受容部材 |
| JPS62267760A (ja) * | 1986-05-15 | 1987-11-20 | Canon Inc | 光受容部材 |
| JPS62269147A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-21 | Canon Inc | 光受容部材 |
| JPS62272273A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-26 | Canon Inc | 光受容部材 |
| US4737429A (en) * | 1986-06-26 | 1988-04-12 | Xerox Corporation | Layered amorphous silicon imaging members |
-
1983
- 1983-09-16 JP JP17182283A patent/JPS6061760A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62265668A (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-18 | Canon Inc | 光受容部材 |
| JPS62265669A (ja) * | 1986-05-14 | 1987-11-18 | Canon Inc | 光受容部材 |
| JPS62267760A (ja) * | 1986-05-15 | 1987-11-20 | Canon Inc | 光受容部材 |
| JPS62269147A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-21 | Canon Inc | 光受容部材 |
| JPS62272273A (ja) * | 1986-05-21 | 1987-11-26 | Canon Inc | 光受容部材 |
| US4737429A (en) * | 1986-06-26 | 1988-04-12 | Xerox Corporation | Layered amorphous silicon imaging members |
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