JPS6059535A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS6059535A JPS6059535A JP16675383A JP16675383A JPS6059535A JP S6059535 A JPS6059535 A JP S6059535A JP 16675383 A JP16675383 A JP 16675383A JP 16675383 A JP16675383 A JP 16675383A JP S6059535 A JPS6059535 A JP S6059535A
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- Japan
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- base material
- magnetic layer
- magnetic
- thin film
- ionized
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- Granted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、イオンブレーティング法により絶縁性基材上
に磁性膜を形成する磁気記録媒体の製造方法に関する。
に磁性膜を形成する磁気記録媒体の製造方法に関する。
プラスチックのフィルム、板などの電気絶縁性基材にイ
オン化した鉄及びコバルト等の磁性金属をそれぞれ窒素
及び酸素などと反応させながら蒸着することにより保磁
力の優れた磁気記録媒体を製造する方法はすでに提案さ
れているが、イオン化された磁性金属が電気絶縁性基材
面に飛着して付着することにより該基材面には電荷が蓄
積されて電位が上昇し、その結果磁性金属の成膜効率が
低下すると共に該基材面の中央部及び周辺部に集中して
磁性金属が蒸着されその膜厚にばらつきが生じ均一な磁
気特性が得られないという不都合があった。
オン化した鉄及びコバルト等の磁性金属をそれぞれ窒素
及び酸素などと反応させながら蒸着することにより保磁
力の優れた磁気記録媒体を製造する方法はすでに提案さ
れているが、イオン化された磁性金属が電気絶縁性基材
面に飛着して付着することにより該基材面には電荷が蓄
積されて電位が上昇し、その結果磁性金属の成膜効率が
低下すると共に該基材面の中央部及び周辺部に集中して
磁性金属が蒸着されその膜厚にばらつきが生じ均一な磁
気特性が得られないという不都合があった。
また、イオン化された鉄及びコバルト等の磁性金属をそ
れぞれイオン化された窒素及び酸素などと共に電気絶縁
性基材上に照射して該基材上に磁気記録媒体を製造する
方法も提案されているが、この方法は前記のような不都
合が更に著しく、例えば５ Ｘ ５ ｃ＋Ｊの基材中の
飽和磁気モーメントのばらつきが３０％に達する場合が
生じた。
れぞれイオン化された窒素及び酸素などと共に電気絶縁
性基材上に照射して該基材上に磁気記録媒体を製造する
方法も提案されているが、この方法は前記のような不都
合が更に著しく、例えば５ Ｘ ５ ｃ＋Ｊの基材中の
飽和磁気モーメントのばらつきが３０％に達する場合が
生じた。
本発明はかかる不都合を解消することをその目的とした
もので、イオン捕集電位が付与される被着基材支持体に
取付けられた電気絶縁性被着基材上にイオン化された磁
性金属を被着しながらイオン化されたガスを照射して磁
性薄膜を形成する式の製造方法において、前記被着基材
の被着面に導電膜を形成し、該導電膜を前記被着基材支
持体に電気的に接続して該被着基材を被着基材支持体に
取付けることを特徴とする。
もので、イオン捕集電位が付与される被着基材支持体に
取付けられた電気絶縁性被着基材上にイオン化された磁
性金属を被着しながらイオン化されたガスを照射して磁
性薄膜を形成する式の製造方法において、前記被着基材
の被着面に導電膜を形成し、該導電膜を前記被着基材支
持体に電気的に接続して該被着基材を被着基材支持体に
取付けることを特徴とする。
以上の構成を有する本発明の方法によれば、電気絶縁性
被着基材に蒸着された磁性金属の膜厚のばらつきを著し
く低下する効果を有し、例えば５ Ｘ ５ ｃｌの被着
基材中の飽和磁気モーメントのばらつきを２％以内とす
ることができる。
被着基材に蒸着された磁性金属の膜厚のばらつきを著し
く低下する効果を有し、例えば５ Ｘ ５ ｃｌの被着
基材中の飽和磁気モーメントのばらつきを２％以内とす
ることができる。
以下本発明の実施例を図面につき説明する。
本発明の製造方法を実施するために第１図示のようなイ
オンブレーティング装置を使用した。
オンブレーティング装置を使用した。
該装置は、磁性金属例えば純度９９．９％の鉄を収容し
たるつぼから成る蒸発源（１）と、該磁性金属に対して
電子ビームを照射してこれを蒸発させる電子ビーム放射
源（２）と、該磁性金属をイオン化するための熱電子放
射フィラメント（３）及び正電位が付与される電極（４
）と、電気絶縁性の被着基材（５）が取付けられイオン
捕集電位が付与された被着基材支持体（６）と、バルブ
（７）を介して流入する窒素ガスをイオン化すると共に
該窒素イオンを加速する例えばフリーマン型イオン銃（
８）と膜厚計（９）とを具備し、これ等はいずれも例え
ば１０ Ｔｏｒｒに減圧された真空槽内に配置されて構
成される。
たるつぼから成る蒸発源（１）と、該磁性金属に対して
電子ビームを照射してこれを蒸発させる電子ビーム放射
源（２）と、該磁性金属をイオン化するための熱電子放
射フィラメント（３）及び正電位が付与される電極（４
）と、電気絶縁性の被着基材（５）が取付けられイオン
捕集電位が付与された被着基材支持体（６）と、バルブ
（７）を介して流入する窒素ガスをイオン化すると共に
該窒素イオンを加速する例えばフリーマン型イオン銃（
８）と膜厚計（９）とを具備し、これ等はいずれも例え
ば１０ Ｔｏｒｒに減圧された真空槽内に配置されて構
成される。
次にこの装置を用いて本発明の製造方法を説明すると、
例えば縦５ ｃｍ 、横５ ｃｍの例えばガラス板から
なる被着基材（５）の一方の面に例えば３０００Ａの厚
さにチタン（Ｔｉ ）を蒸着し、この被着基材（５）を
第２図示のようにチタン膜Ｑｌを表にするとともに被着
基材支持体（６）に電気的に接続させて該支持体（６）
に固定し、該支持体（６１を蒸発源（１）の真上に水平
にして設置した。そして電子ビーム放射源（２）からの
電子ビームを蒸発源（１）の純度９９．９％の鉄に照射
してこれを蒸発させると共に５０ Ｖの正電位が付与さ
れた電極（４）と熱電子放射フィラメント（３）とでイ
オン化し、蒸発源（１）に対し一２００■の電位が付与
された被着基材支持体（６）に流れる電流を２５ ｍＡ
にしてイオン化された鉄を被着基材（５）に被着する。
例えば縦５ ｃｍ 、横５ ｃｍの例えばガラス板から
なる被着基材（５）の一方の面に例えば３０００Ａの厚
さにチタン（Ｔｉ ）を蒸着し、この被着基材（５）を
第２図示のようにチタン膜Ｑｌを表にするとともに被着
基材支持体（６）に電気的に接続させて該支持体（６）
に固定し、該支持体（６１を蒸発源（１）の真上に水平
にして設置した。そして電子ビーム放射源（２）からの
電子ビームを蒸発源（１）の純度９９．９％の鉄に照射
してこれを蒸発させると共に５０ Ｖの正電位が付与さ
れた電極（４）と熱電子放射フィラメント（３）とでイ
オン化し、蒸発源（１）に対し一２００■の電位が付与
された被着基材支持体（６）に流れる電流を２５ ｍＡ
にしてイオン化された鉄を被着基材（５）に被着する。
次に前記イオン銃（８）から被着基材（５）に窒素イオ
ンを照射し該被着基材（５）に流れる電流を更に２５
ｍＡ増加させ、５０ ｍＡとなるようにして１００秒間
行ない、前記被着基材（５１上に鉄窒化物を１ｏｏａＸ
の厚さに形成した。
ンを照射し該被着基材（５）に流れる電流を更に２５
ｍＡ増加させ、５０ ｍＡとなるようにして１００秒間
行ない、前記被着基材（５１上に鉄窒化物を１ｏｏａＸ
の厚さに形成した。
この被着基材を０．５ｃｍ Ｘ ０．５ｃｍの大きさに
切断して作成した各試料につき試料振動型磁力計（ｖｓ
ｍにより飽和磁気モーメントを測定し、その分布を調べ
た結果、平均４．２５ Ｘ １０−”ｅｍｕ 、最大４
．３×１０１０−３Ｅ１ 、最小４．１７ Ｘ １０１
０−３ｅでそのばらつきは平均値の上下２％以内に集中
していた。
切断して作成した各試料につき試料振動型磁力計（ｖｓ
ｍにより飽和磁気モーメントを測定し、その分布を調べ
た結果、平均４．２５ Ｘ １０−”ｅｍｕ 、最大４
．３×１０１０−３Ｅ１ 、最小４．１７ Ｘ １０１
０−３ｅでそのばらつきは平均値の上下２％以内に集中
していた。
比較例
ガラス板にチタンを蒸着しない以外は前記実施例と同様
にして作成した試料について飽和磁気モーメントの分布
を調べた結果、平均！Ｌ５０ Ｘ１ｏ−’ｅｍｕ−最大
４．２５ Ｘ １０１０−３ｅ、最小２．５ Ｘ １０
′ｅｍｕでそのばらつきは平均値の上下２０〜３０％で
あった。
にして作成した試料について飽和磁気モーメントの分布
を調べた結果、平均！Ｌ５０ Ｘ１ｏ−’ｅｍｕ−最大
４．２５ Ｘ １０１０−３ｅ、最小２．５ Ｘ １０
′ｅｍｕでそのばらつきは平均値の上下２０〜３０％で
あった。
以上の実施例と比較例を対比して明らかなように磁性膜
を電気絶縁性被着基材にイオンブレーティング法により
形成する場合、該基材に予め導電膜を形成し、該導電膜
をイオン捕集電位とすることによっては！均一な磁気特
性及び膜厚を有するｉ気記録媒体を得ることができた。
を電気絶縁性被着基材にイオンブレーティング法により
形成する場合、該基材に予め導電膜を形成し、該導電膜
をイオン捕集電位とすることによっては！均一な磁気特
性及び膜厚を有するｉ気記録媒体を得ることができた。
第１図は本発明の製造方法に使用されるイオンブレーテ
ィング装置の１例の模式図、第２図は被着基材が取付け
られた状態の被着基材支持体の側面図を示す。 （１１・・・蒸 発 源 （２）・・・電子ビーム放射
源（３）・・・熱電子放射フィラメント（４）・・・電
極（５１・・・被着基材 （６）・・・被着基材支持
体（８）・・・イオン銃 外２名
ィング装置の１例の模式図、第２図は被着基材が取付け
られた状態の被着基材支持体の側面図を示す。 （１１・・・蒸 発 源 （２）・・・電子ビーム放射
源（３）・・・熱電子放射フィラメント（４）・・・電
極（５１・・・被着基材 （６）・・・被着基材支持
体（８）・・・イオン銃 外２名
Claims (1)
- イオン捕集電位が付与される被着基材支持体に取付けら
れた電気絶縁性被着基材上にイオン化された磁性金属を
被着しながらイオン化されたガスを照射して磁性薄膜を
形成する式の製造方法において、前記被着基材の被着面
に導電膜を形成し、該導電膜を前記被着基材支持体に電
気的に接続して該被着基材を被着基材支持体に取付ける
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16675383A JPS6059535A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16675383A JPS6059535A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6059535A true JPS6059535A (ja) | 1985-04-05 |
| JPH0334622B2 JPH0334622B2 (ja) | 1991-05-23 |
Family
ID=15837095
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16675383A Granted JPS6059535A (ja) | 1983-09-12 | 1983-09-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6059535A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05106029A (ja) * | 1991-10-15 | 1993-04-27 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜形成装置 |
-
1983
- 1983-09-12 JP JP16675383A patent/JPS6059535A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05106029A (ja) * | 1991-10-15 | 1993-04-27 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜形成装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0334622B2 (ja) | 1991-05-23 |
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