JPS6050164A - 防湿性を有する透明薄膜の形成方法 - Google Patents
防湿性を有する透明薄膜の形成方法Info
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- JPS6050164A JPS6050164A JP15828183A JP15828183A JPS6050164A JP S6050164 A JPS6050164 A JP S6050164A JP 15828183 A JP15828183 A JP 15828183A JP 15828183 A JP15828183 A JP 15828183A JP S6050164 A JPS6050164 A JP S6050164A
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野：
本発明は防湿性を有する透明薄膜の形成方法。
特に基材の種類にかかわらず透明で高い防湿性の薄膜を
形成する方法に関する。
形成する方法に関する。
従来技術：
包装材料、特に食品、薬品、化学製品などの包装（用い
られる包装材料は、内容物の変質を防ぐために防湿機能
をもっていることが必要である。
られる包装材料は、内容物の変質を防ぐために防湿機能
をもっていることが必要である。
そのために、従来は０例えばベースプラスチックフィル
ムにアルミニウム箔を貼り合わせてアルミニウム箔の防
湿特性を利用することが行われている。この場合の包装
材料は、防湿性については優れているがベースプラスチ
ックフィルムの透明性が損われ内容物を透視することが
できない。しかも、フレキシビリティが極端に低減する
ためピンホールを生じるおそれがある。包装材料の別の
例としては、それ自体が防湿性を有する塩化ビニリデン
系・フッ素系樹脂フィルムがある。これらフィルムは防
湿性を厳しく要求される用途にはフィルム厚を厚くしな
ければならず、製造作業上にも種々の問題が生じる。
ムにアルミニウム箔を貼り合わせてアルミニウム箔の防
湿特性を利用することが行われている。この場合の包装
材料は、防湿性については優れているがベースプラスチ
ックフィルムの透明性が損われ内容物を透視することが
できない。しかも、フレキシビリティが極端に低減する
ためピンホールを生じるおそれがある。包装材料の別の
例としては、それ自体が防湿性を有する塩化ビニリデン
系・フッ素系樹脂フィルムがある。これらフィルムは防
湿性を厳しく要求される用途にはフィルム厚を厚くしな
ければならず、製造作業上にも種々の問題が生じる。
また、プラスチックの表面に金属アルミを真空蒸着する
ことにより防湿性を向上させる試みがなされている。し
かし、アルミＭ着膜は不透明であるために、これを包装
材料に使用したときには内容物を透視することができな
い。しかも、蒸着されたアルミニウムとベースフィルム
との密着強度も比較的低いためその界面において剥離の
生じるおそれがある。
ことにより防湿性を向上させる試みがなされている。し
かし、アルミＭ着膜は不透明であるために、これを包装
材料に使用したときには内容物を透視することができな
い。しかも、蒸着されたアルミニウムとベースフィルム
との密着強度も比較的低いためその界面において剥離の
生じるおそれがある。
このような従来の包装材料の欠点を改良すべく。
例えば特公昭５３−１２９５３号公報にはプラスチック
表面に５ｉｘｔｙ ０（＝１．２ ； ｙ＝０．１．２
：、 ３ ） ｋ蒸着した透明プラスチックフィルムが
提案されている。この５ｉｘｔｙ蒸着フィルムは、しか
しながら。
表面に５ｉｘｔｙ ０（＝１．２ ； ｙ＝０．１．２
：、 ３ ） ｋ蒸着した透明プラスチックフィルムが
提案されている。この５ｉｘｔｙ蒸着フィルムは、しか
しながら。
カールしやすく、クランクが発生しやすい。そのために
用途が極端に限定され実用的ではない。特開昭５４−１
５２０８９号公報には金唄、金属酸化物および酸化ケイ
素を蒸着したポリエステルフィルムが開示さＩＬでいる
。この蒸着フイルムハ基材にポリエステルフィルムが用
いられたときのみその防湿性能を発現しうるにすぎない
。
用途が極端に限定され実用的ではない。特開昭５４−１
５２０８９号公報には金唄、金属酸化物および酸化ケイ
素を蒸着したポリエステルフィルムが開示さＩＬでいる
。この蒸着フイルムハ基材にポリエステルフィルムが用
いられたときのみその防湿性能を発現しうるにすぎない
。
電子工業分野においても、近年ますます、Ｅ Ｌ素子や
太陽電池などに透明でしかも高度の耐湿性能を有する膜
が保護膜と１〜て要求されつつある。
太陽電池などに透明でしかも高度の耐湿性能を有する膜
が保護膜と１〜て要求されつつある。
発明の目的：
本発明の目的は、極めて優れた耐湿性を有する透明薄膜
の形成方法を提供することにある。本発明の他の目的は
、暴利フィルムとの密着性に優れた耐湿性透明薄膜の形
１戊方法金提供することにある０ 持開口ＨＧＯ−５０１［１ｉ４（２） 発明の要旨： 本発明は、系内へ水蒸気全導入しこれを所定のレベルに
制御することにより、その間に基材フィルム上に形成さ
れる酸化マグネシウム薄膜中にＭｇ （０［Ｉ）ｚが含
まれる酸化マグネシウム薄膜が透湿度を極端に低下せし
めるとの本発明者の新規な知見にもとづいて完成された
。それゆえ０本発明の″＃ｆ膜形成方法は、真空槽内に
水蒸気を導入し２ながら酸化マグネシウムを加熱蒸発さ
せることによゆ透明なプラスチック基材上に厚さ１００
〜５０００Ａの透明な酸化マグネシウム薄膜を形１ｊＥ
するものであり、そのことにより上記目的が達成される
。
の形成方法を提供することにある。本発明の他の目的は
、暴利フィルムとの密着性に優れた耐湿性透明薄膜の形
１戊方法金提供することにある０ 持開口ＨＧＯ−５０１［１ｉ４（２） 発明の要旨： 本発明は、系内へ水蒸気全導入しこれを所定のレベルに
制御することにより、その間に基材フィルム上に形成さ
れる酸化マグネシウム薄膜中にＭｇ （０［Ｉ）ｚが含
まれる酸化マグネシウム薄膜が透湿度を極端に低下せし
めるとの本発明者の新規な知見にもとづいて完成された
。それゆえ０本発明の″＃ｆ膜形成方法は、真空槽内に
水蒸気を導入し２ながら酸化マグネシウムを加熱蒸発さ
せることによゆ透明なプラスチック基材上に厚さ１００
〜５０００Ａの透明な酸化マグネシウム薄膜を形１ｊＥ
するものであり、そのことにより上記目的が達成される
。
基材として用いられる透明プラスチックとしては９例え
ば、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリビニルブチラ
ール、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステルな
どがある。しかシ７．これらに限定される必要はない。
ば、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリビニルブチラ
ール、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステルな
どがある。しかシ７．これらに限定される必要はない。
これらプラスチックスから作られる基材フィルムはフレ
キシブルであることが好ましい。なお、基材は４Ｖ状で
あってもよいし、レンズ状のプラスチック成形体であっ
てもよい。フレキシブルな基材フィルムのＪＩＥ ミハ
５〜３００μ島好ましくは５〜１００μη２の範囲に選
ばれる。
キシブルであることが好ましい。なお、基材は４Ｖ状で
あってもよいし、レンズ状のプラスチック成形体であっ
てもよい。フレキシブルな基材フィルムのＪＩＥ ミハ
５〜３００μ島好ましくは５〜１００μη２の範囲に選
ばれる。
フィルムを連続的にＭ着するためには０通常、冷却ロー
ル全通した巻取り工程が必要である。フィルムが例えば
５μｍ以下のように薄すぎるとしわの発生や亀裂が生じ
やすくなるＯ厚すきるとフィルムのフンキシビリティが
なくなり、連続巻取り操作が不可能となる。
ル全通した巻取り工程が必要である。フィルムが例えば
５μｍ以下のように薄すぎるとしわの発生や亀裂が生じ
やすくなるＯ厚すきるとフィルムのフンキシビリティが
なくなり、連続巻取り操作が不可能となる。
これら透明プラスチック基材に、水蒸気全導入しながら
酸化マグネシウムを加熱蒸発させ、透明な酸化マグネシ
ウム薄′ｆｌｆＬ全形成する。具体的には。
酸化マグネシウムを加熱蒸発させ、透明な酸化マグネシ
ウム薄′ｆｌｆＬ全形成する。具体的には。
真空槽内に上記透明暴利フィルム金入れ真空槽を真空ポ
ンプで排気しながら、酸化マグネシウムを高周波訪導加
熱、電子ビーム加熱などの既知の加熱方法で加熱する。
ンプで排気しながら、酸化マグネシウムを高周波訪導加
熱、電子ビーム加熱などの既知の加熱方法で加熱する。
この加熱により発生する酸化マグネシウムの蒸気の一部
と水蒸気とが反応し膜中にＭｇ（ＯＨ）、を含んだ酸化
マグネシウム薄膜がこの基材フィルム上に形成される。
と水蒸気とが反応し膜中にＭｇ（ＯＨ）、を含んだ酸化
マグネシウム薄膜がこの基材フィルム上に形成される。
槽内全排気したときに水蒸気が残留ガスの大部分を占め
、その水蒸気も本発明方法に関与するが、水蒸気圧を一
定に制御するためには、水蒸気を外部から導入するのが
好ましい。
、その水蒸気も本発明方法に関与するが、水蒸気圧を一
定に制御するためには、水蒸気を外部から導入するのが
好ましい。
水蒸気圧は１通常、真空槽の容器、真空ポンプの排気能
力、酸化マグネシウムの蒸発速度などによって適宜決定
されるが、水蒸気圧と酸化マグネシウムの蒸着速度との
比がｌ Ｘ １０ ’Ｉ’ｏｒｒ／（νｓｅｃ ）以上
であってＩ Ｘ １０ ’Ｔｏｒｒ／（＆ｓｅｃ ）以
下であることが好ましい。ｌ Ｘｉ Ｑ’ｒｏｒｒ／（
Ａ’／５ｅｃ）以下の水蒸気導入量では、できたフィル
ムの水蒸気透過量が多くなる。つまり、防湿特性が劣る
。その原因は詳細が不明ではあるがＸ線回折や赤外吸収
による観察によれば、 Ｉ Ｘ １０ ’Ｔｏｒｒ／（
Ａｏ／／ｓｅｃ ）以下の水蒸気圧においては蒸着され
た酸化マグネシウム膜中に存在するＭｇ （ＯＨ）、
、、”）量のためか、それともＭｇ（０１，１１）、が
微量存在するために！Ｘ４ ｇ Ｏの結晶配向性が変化
したためかのいづれかの理由であろうと推察される。
力、酸化マグネシウムの蒸発速度などによって適宜決定
されるが、水蒸気圧と酸化マグネシウムの蒸着速度との
比がｌ Ｘ １０ ’Ｉ’ｏｒｒ／（νｓｅｃ ）以上
であってＩ Ｘ １０ ’Ｔｏｒｒ／（＆ｓｅｃ ）以
下であることが好ましい。ｌ Ｘｉ Ｑ’ｒｏｒｒ／（
Ａ’／５ｅｃ）以下の水蒸気導入量では、できたフィル
ムの水蒸気透過量が多くなる。つまり、防湿特性が劣る
。その原因は詳細が不明ではあるがＸ線回折や赤外吸収
による観察によれば、 Ｉ Ｘ １０ ’Ｔｏｒｒ／（
Ａｏ／／ｓｅｃ ）以下の水蒸気圧においては蒸着され
た酸化マグネシウム膜中に存在するＭｇ （ＯＨ）、
、、”）量のためか、それともＭｇ（０１，１１）、が
微量存在するために！Ｘ４ ｇ Ｏの結晶配向性が変化
したためかのいづれかの理由であろうと推察される。
水蒸気圧がＩ Ｘ １０ ’Ｔｏｒｒ／（／（／ｓｅｃ
） 以」二ｉＣナルト。
） 以」二ｉＣナルト。
作業性の点・で多くの問題が生じる。例えは、電子ビー
ム蒸着の場合には放電のために蒸着できなくなる。蒸着
速度を非常に遅くすれば導入する水蒸気圧を低くするこ
とができるが、生産効率が極端に悪くなる。
ム蒸着の場合には放電のために蒸着できなくなる。蒸着
速度を非常に遅くすれば導入する水蒸気圧を低くするこ
とができるが、生産効率が極端に悪くなる。
蒸着膜の厚みは９通常、１ｏｏＸ〜５０００λの範囲に
選ばれる。膜層がこの範囲にあると蒸着膜は柔軟性を有
し、素材フィルムとの密着性も良好である。ＪＩＳＤ−
０２０２によるセロファンテープ剥離テストに耐えうる
。１００ＯＸ以下の膜厚でも優れた防湿性を示す。蒸着
膜の厚みが５ｏｏｏｘ以上になると、蒸着膜の内部応力
のためにフィルムがカールしやすくなる。同時に、亀裂
や剥離が牛じゃすくなり、防湿機能が低下する。膜厚が
１００久以下になると島状構造をとり連続的な膜になら
ない。
選ばれる。膜層がこの範囲にあると蒸着膜は柔軟性を有
し、素材フィルムとの密着性も良好である。ＪＩＳＤ−
０２０２によるセロファンテープ剥離テストに耐えうる
。１００ＯＸ以下の膜厚でも優れた防湿性を示す。蒸着
膜の厚みが５ｏｏｏｘ以上になると、蒸着膜の内部応力
のためにフィルムがカールしやすくなる。同時に、亀裂
や剥離が牛じゃすくなり、防湿機能が低下する。膜厚が
１００久以下になると島状構造をとり連続的な膜になら
ない。
そのため、防湿性が劣る。
実施例：
以下に本発明の実施例について説明する。
実施例１
厚さ１５μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＵＴ）
フィルムを基材フィルムとして真空槽内に配置した。構
内をあらかじめＩ Ｘ １０ ’Ｔｏｒｒに排気したの
チ、 ５ ×１０ ’／Ｔｏｒｒの水蒸気を導入し、純
度９９．９チの酸化マグネシウムを電子ビーム加熱方式
により蒸着した。マグネシウム酸化物の収膜速度は約３
０＆／ｓｅｃになるよう、水晶発振式モニター几１の２
種類の蒸着膜を得た。このようにして得られた透明蒸着
フィルムの透湿度を表に示す。透湿度はＪＩＳＺ −０
２０８に基づ＜ ４０Ｃ・９０％Ｒ）（［おける水蒸気
透過率である。
フィルムを基材フィルムとして真空槽内に配置した。構
内をあらかじめＩ Ｘ １０ ’Ｔｏｒｒに排気したの
チ、 ５ ×１０ ’／Ｔｏｒｒの水蒸気を導入し、純
度９９．９チの酸化マグネシウムを電子ビーム加熱方式
により蒸着した。マグネシウム酸化物の収膜速度は約３
０＆／ｓｅｃになるよう、水晶発振式モニター几１の２
種類の蒸着膜を得た。このようにして得られた透明蒸着
フィルムの透湿度を表に示す。透湿度はＪＩＳＺ −０
２０８に基づ＜ ４０Ｃ・９０％Ｒ）（［おける水蒸気
透過率である。
実施例２
水蒸気圧を５ ×１０ ’Ｔｏｒｒに制御し、そして蒸
着速度を３ Ａ／ｓｅｃとしたこと以外は実施例１と同
じである。蒸着膜の膜厚は１００ＯＸであった。得られ
た透明蒸着フィルムめ透湿度を表に示す。
着速度を３ Ａ／ｓｅｃとしたこと以外は実施例１と同
じである。蒸着膜の膜厚は１００ＯＸであった。得られ
た透明蒸着フィルムめ透湿度を表に示す。
−因」Ｌ洩」−
水蒸気圧を５ Ｘ Ｉ Ｑ ５Ｔｏｒｒそして蒸着速度
を肩しｓｅｃとし、膜厚１０００Ａの透明なマグネシウ
ム酸化物薄膜を形成したこと以外はすべて実施例１と同
じである。
を肩しｓｅｃとし、膜厚１０００Ａの透明なマグネシウ
ム酸化物薄膜を形成したこと以外はすべて実施例１と同
じである。
実施例４
基材フィルムに厚さ２５μｍの二軸延伸ポリプロピレン
フィルムも用いたこと以外はすべて実施例１と同じであ
る。結果を表に示す。
フィルムも用いたこと以外はすべて実施例１と同じであ
る。結果を表に示す。
比較例１
水蒸気圧を５ ｘ ｌ Ｑ ’Ｔｏｒｒそして蒸着速度
を３０Ｘ／ｓ ｅ ｃとし、膜厚１０００大の透明なマ
グネシウム酸化物薄膜全形成したこと以外はすべて実施
例１と同じである。透湿度を測定した。
を３０Ｘ／ｓ ｅ ｃとし、膜厚１０００大の透明なマ
グネシウム酸化物薄膜全形成したこと以外はすべて実施
例１と同じである。透湿度を測定した。
比較例２
槽内ｔ−１×１Ｏ−５Ｔｏｒｒに排気したまま、外部か
ら水蒸気を導入せずに蒸着速度をａｏ７ｖ／ｓｅｃに調
整し膜厚１０００Ａの透明なマグネシウム酸化物薄膜を
形成したこと以外は実施例１と同じである。透湿度を測
定した。
ら水蒸気を導入せずに蒸着速度をａｏ７ｖ／ｓｅｃに調
整し膜厚１０００Ａの透明なマグネシウム酸化物薄膜を
形成したこと以外は実施例１と同じである。透湿度を測
定した。
比較例３
厚さ１５μｍのＰＥＴフィルム上に膜厚１０００Ａおよ
び２０００Ａの透明なＳｉｎ、の保護膜を蒸着した。
び２０００Ａの透明なＳｉｎ、の保護膜を蒸着した。
イルムの透湿度を表に示す。
発明の効果：
水蒸気を系内に導入しながら形成される本発明の透明薄
膜は、水蒸気を導入しないＴｍられる透明薄膜に比較し
で防湿性能が飛躍的に向上する。
膜は、水蒸気を導入しないＴｍられる透明薄膜に比較し
で防湿性能が飛躍的に向上する。
基相フィルムとの間の密着性においても優れている。こ
の薄膜は、従来のＳｉｎ、蒸着Ｉｌへに１「較しても防
湿性能、耐クラツク性などにおいて一格段に優れている
。本発明による透明薄膜をつけたフィルムは、透明プラ
スチックフィルムとしては従来にない極端に高度な防浸
性能を有し、それがために。
の薄膜は、従来のＳｉｎ、蒸着Ｉｌへに１「較しても防
湿性能、耐クラツク性などにおいて一格段に優れている
。本発明による透明薄膜をつけたフィルムは、透明プラ
スチックフィルムとしては従来にない極端に高度な防浸
性能を有し、それがために。
透明でかつ高防漫性の要求される食品、医薬品。
化学薬品などの包装材および電子工業分野におけるＥＬ
素子や太陽電池の保護膜として最適である。
素子や太陽電池の保護膜として最適である。
以 上
−３！”ｓ６−
Claims (1)
- １、真空槽内に水蒸気を導入しながら酸化マグネシウム
を加熱し蒸発させることにより透明なプラスチック基材
上に厚さ１００〜５ｏｏｏ＆の透明な酸化マグネシウム
薄膜を形成する防湿性を有する透明薄膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15828183A JPS6050164A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | 防湿性を有する透明薄膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15828183A JPS6050164A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | 防湿性を有する透明薄膜の形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6050164A true JPS6050164A (ja) | 1985-03-19 |
| JPS6315345B2 JPS6315345B2 (ja) | 1988-04-04 |
Family
ID=15668165
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15828183A Granted JPS6050164A (ja) | 1983-08-29 | 1983-08-29 | 防湿性を有する透明薄膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6050164A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62154676A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-09 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | スパツタ薄膜の配向強度の改良方法 |
| JPH02163363A (ja) * | 1988-03-09 | 1990-06-22 | Ulvac Corp | 透明導電膜の製造方法 |
| US5378506A (en) * | 1992-05-11 | 1995-01-03 | Toppan Printing Co., Ltd. | Evaporation method of forming transparent barrier film |
| JP2006010066A (ja) * | 2004-05-25 | 2006-01-12 | Nichido Kogyo Kk | 結束バンドおよび結束バンドセット |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02129426A (ja) * | 1988-11-05 | 1990-05-17 | Tokai Rubber Ind Ltd | 流体封入式マウント装置 |
-
1983
- 1983-08-29 JP JP15828183A patent/JPS6050164A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62154676A (ja) * | 1985-12-27 | 1987-07-09 | Toyo Soda Mfg Co Ltd | スパツタ薄膜の配向強度の改良方法 |
| JPH02163363A (ja) * | 1988-03-09 | 1990-06-22 | Ulvac Corp | 透明導電膜の製造方法 |
| US5378506A (en) * | 1992-05-11 | 1995-01-03 | Toppan Printing Co., Ltd. | Evaporation method of forming transparent barrier film |
| JP2006010066A (ja) * | 2004-05-25 | 2006-01-12 | Nichido Kogyo Kk | 結束バンドおよび結束バンドセット |
| US7934296B2 (en) | 2004-05-25 | 2011-05-03 | Nichido Kogyo Kabushiki Kaisha | Binding band and binding band set |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6315345B2 (ja) | 1988-04-04 |
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