JPS6048051B2 - 高密度記録レコ−ド用原盤及びその製造方法 - Google Patents
高密度記録レコ−ド用原盤及びその製造方法Info
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- JPS6048051B2 JPS6048051B2 JP1384978A JP1384978A JPS6048051B2 JP S6048051 B2 JPS6048051 B2 JP S6048051B2 JP 1384978 A JP1384978 A JP 1384978A JP 1384978 A JP1384978 A JP 1384978A JP S6048051 B2 JPS6048051 B2 JP S6048051B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/0057—Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はいわゆるＰＣＭレコード （ｐｕｌｓｅｃ
ｏｄｅｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ）等の高密度レコードの量
産に使用される高密度記録レコード用原盤の製造方法に
関する。
ｏｄｅｍｏｄｕｌａｔｉｏｎ）等の高密度レコードの量
産に使用される高密度記録レコード用原盤の製造方法に
関する。
ここで高密度記録レコードの量産に必要となる高密度
記録レコード用原盤とは、例えばガラス基板１の表面に
金属薄膜２を蒸着等の付着手段によつて付着させた後、
この基板１上に集束レーザ光により情報信号に対応する
ピットを高密度でカッティングしたものであり、第２図
にこの断面図を示す。
記録レコード用原盤とは、例えばガラス基板１の表面に
金属薄膜２を蒸着等の付着手段によつて付着させた後、
この基板１上に集束レーザ光により情報信号に対応する
ピットを高密度でカッティングしたものであり、第２図
にこの断面図を示す。
さて、従来における、高密度記録レコードフ用原盤は次
のような工程を経て製造されていた。まず、例えば金属
を付着させたガラス基板１表面へ、第１図に示すように
情報をビットの形式にて高密度に記録する。この記録は
集束されたレーザ光線により金属をカッティングして行
なわれる。次にビットを形成したガラス基板１の内周及
び外周において巾約２ｃｍにわたりほぼ同心円状の溝を
多数形成する。このような同心円状溝を多数形成するこ
とを面荒しといい、面荒しされた部分を面荒し部４と称
す。面荒し工程が終了した後、ガラス基板面上に銀鏡反
応によつて銀膜を付着させる。この銀膜は後のメッキ工
程において電極として作用するものである。ガラス基板
上に形成した銀膜を電極として所定のメッキ条件により
ニッケル等の電解メッキが施される。このメッキの厚さ
は約０．１朗である。メッキが終了した後このニッケル
盤はガラス基板よりなる原盤から分離され第１の金型が
完成する。この第１の金型に第２のメッキを施して第２
の金型を製造し、この第２の金型に第３のメッキを施し
て第３の金型が完成する。この第３の金型は最終的な金
型であり、上述した高密度記録レコード用原盤に相当す
るものである。このような高密度記録レコード用原盤に
よりブレス工程を経て高密度記録レコードは量産される
ことになる。
のような工程を経て製造されていた。まず、例えば金属
を付着させたガラス基板１表面へ、第１図に示すように
情報をビットの形式にて高密度に記録する。この記録は
集束されたレーザ光線により金属をカッティングして行
なわれる。次にビットを形成したガラス基板１の内周及
び外周において巾約２ｃｍにわたりほぼ同心円状の溝を
多数形成する。このような同心円状溝を多数形成するこ
とを面荒しといい、面荒しされた部分を面荒し部４と称
す。面荒し工程が終了した後、ガラス基板面上に銀鏡反
応によつて銀膜を付着させる。この銀膜は後のメッキ工
程において電極として作用するものである。ガラス基板
上に形成した銀膜を電極として所定のメッキ条件により
ニッケル等の電解メッキが施される。このメッキの厚さ
は約０．１朗である。メッキが終了した後このニッケル
盤はガラス基板よりなる原盤から分離され第１の金型が
完成する。この第１の金型に第２のメッキを施して第２
の金型を製造し、この第２の金型に第３のメッキを施し
て第３の金型が完成する。この第３の金型は最終的な金
型であり、上述した高密度記録レコード用原盤に相当す
るものである。このような高密度記録レコード用原盤に
よりブレス工程を経て高密度記録レコードは量産される
ことになる。
とろで、かかる従来方法では原盤の製造上の歩留りが悪
いという欠点が存在した。すノなわち、製造工程中の面
荒しの機能はメッキ工程におけるメッキ膜生成時におい
てメッキ膜へ応力が加わつて生ずるメッキ膜の剥離を阻
止することである。しかしながら従来の面荒しではその
効果が十分でなく、しばしばメッキ途中に剥離が生じ３
た。もう少し詳しく言うと、従来の面荒し５作業は、高
密度レコード用原盤を毎分約１００回転程で回転させな
がら＃２００番程度の紙ヤスリを用いて、多数の同心円
状溝を原盤上の金属薄膜に刻み込むものであつた。この
場合に於て、面荒しの溝３はガラス基板には刻み込まれ
ない。凹凸は金属薄膜にのみ留まつてしまい、金属薄膜
２の膜厚が約０．１μｍであるので、構の深さは０．１
μｍ程度である。ここで、ガラス基板にも溝を刻み込む
為には、湿式でのヤスリがけが考えられるが、これ４′
は、すてに記録した面に、削り取つた金属を含んだ液体
が入り込んでしまうので実行できない。また、従来方法
のヤスリがけも、信号を記録した後面荒しを行う為に、
記録面に削り取つた金属が当り、記録面を損う可能性大
であつた。この発明は、上記従来の製造方法における欠
点を無くし、レコード用金型の製造における金型の歩留
りを向上させることを目的とする。
いという欠点が存在した。すノなわち、製造工程中の面
荒しの機能はメッキ工程におけるメッキ膜生成時におい
てメッキ膜へ応力が加わつて生ずるメッキ膜の剥離を阻
止することである。しかしながら従来の面荒しではその
効果が十分でなく、しばしばメッキ途中に剥離が生じ３
た。もう少し詳しく言うと、従来の面荒し５作業は、高
密度レコード用原盤を毎分約１００回転程で回転させな
がら＃２００番程度の紙ヤスリを用いて、多数の同心円
状溝を原盤上の金属薄膜に刻み込むものであつた。この
場合に於て、面荒しの溝３はガラス基板には刻み込まれ
ない。凹凸は金属薄膜にのみ留まつてしまい、金属薄膜
２の膜厚が約０．１μｍであるので、構の深さは０．１
μｍ程度である。ここで、ガラス基板にも溝を刻み込む
為には、湿式でのヤスリがけが考えられるが、これ４′
は、すてに記録した面に、削り取つた金属を含んだ液体
が入り込んでしまうので実行できない。また、従来方法
のヤスリがけも、信号を記録した後面荒しを行う為に、
記録面に削り取つた金属が当り、記録面を損う可能性大
であつた。この発明は、上記従来の製造方法における欠
点を無くし、レコード用金型の製造における金型の歩留
りを向上させることを目的とする。
この発明は、ガラス基板上の面荒し作業をガラス基板に
金属を付着する前に行なうことを特徴とする。
金属を付着する前に行なうことを特徴とする。
以下、この発明による原盤の製造方法について説明する
。ます、円盤状ガラス基板１にて、内周及び外周フに巾
２ｃｍ程の部分を残し、他の部分を覆う。
。ます、円盤状ガラス基板１にて、内周及び外周フに巾
２ｃｍ程の部分を残し、他の部分を覆う。
次にガラス基板１を回転しつつ露出している部分に例え
ば＃２０幡位のものでヤスリがけを行う。これにより、
ガラス面に略同心円状の溝が内周及び外周に多数刻まれ
、面荒し部５が形成される。この・溝は巾、深さ共に１
Ｐ７ＴＬ以上のものである。この面荒し後、被覆を取り
除き、洗浄を行う。この時のガラス基板１の断面図を第
３図に示す。被覆されていた部分の平滑度は削りくずに
よつて損われることはない。５は面荒し部を示す。
ば＃２０幡位のものでヤスリがけを行う。これにより、
ガラス面に略同心円状の溝が内周及び外周に多数刻まれ
、面荒し部５が形成される。この・溝は巾、深さ共に１
Ｐ７ＴＬ以上のものである。この面荒し後、被覆を取り
除き、洗浄を行う。この時のガラス基板１の断面図を第
３図に示す。被覆されていた部分の平滑度は削りくずに
よつて損われることはない。５は面荒し部を示す。
これに、所定の金属を蒸着等の手段により付着させ、こ
の金属にレーザー光線によつてビット３力幼ツテイング
され、第４図に示す原盤が完成する。この時の面荒し部
の巾は、内周ではセンター穴より２ｃｍ１外周では最外
周より内へ１．５ｃｍ程が良い事が実験的に分つている
。このような原盤においては、深い溝で面荒しが行なわ
れている為十分な剥離防止効果が上げられ、金型製造工
程の歩留りが向上する。
の金属にレーザー光線によつてビット３力幼ツテイング
され、第４図に示す原盤が完成する。この時の面荒し部
の巾は、内周ではセンター穴より２ｃｍ１外周では最外
周より内へ１．５ｃｍ程が良い事が実験的に分つている
。このような原盤においては、深い溝で面荒しが行なわ
れている為十分な剥離防止効果が上げられ、金型製造工
程の歩留りが向上する。
又、記録面に削りくずが当らない為に記録面を損う事も
なくなるという利点をも備えている。以上の説明では面
荒しの巾を２ｃｍとしたがこれに限るものでもなく、更
にヤスリが＃２００番に限るものではないことはもちろ
んである。
なくなるという利点をも備えている。以上の説明では面
荒しの巾を２ｃｍとしたがこれに限るものでもなく、更
にヤスリが＃２００番に限るものではないことはもちろ
んである。
第１図は従来における面荒し前の高密度記録レコード原
盤を示す断面図、第２図は従来における面荒し後の原盤
を示す断面図、第３図は本発明によりガラス基板１に面
荒しを行つた後のガラス基板１を示す断面図、第４図は
本発明による高密度記録レコード原盤を示す断面図であ
る。 図中、１はガラス基板、２は金属薄膜、３はビット、４
，５は面荒し部である。
盤を示す断面図、第２図は従来における面荒し後の原盤
を示す断面図、第３図は本発明によりガラス基板１に面
荒しを行つた後のガラス基板１を示す断面図、第４図は
本発明による高密度記録レコード原盤を示す断面図であ
る。 図中、１はガラス基板、２は金属薄膜、３はビット、４
，５は面荒し部である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一主面の内周及び外周にそれぞれ所定巾にて形成さ
れた面荒し部とこの両面荒し部間の領域から成る情報記
録部とを有する円盤状基体、及びこの円盤状基体の上記
面荒し部と情報記録部とを含む一主面上に付着された金
属薄膜を備えた高密度記録レコード用原盤。 ２ 面荒し部の巾が内周では基体中心孔より約２ｃｍ、
外周では最外周より内へ約１．５ｃｍに形成された特許
請求の範囲第１項記載の高密度記録レコード用原盤。 ３ 面荒し部は同心円状の多数の溝を有し、この溝の巾
及び深さを共に１μｍ以上に形成した特許請求の範囲第
１項記載の高密度記録レコード用原盤。 ４ 円盤状基板の内周及び外周部に所定巾に渡つて同心
円状の溝を多数持つた面荒し部を形成する工程と、面荒
し部を形成した円盤状基板の全面に金属薄膜を付着させ
る工程と、面荒し部以外の金属薄膜にピットとして情報
を記録する工程とを備えて成る高密度記録レコード用原
盤の製造方法。 ５ 面荒し部の巾を内周では基板の中心孔より約２ｃｍ
、外周では最外周より内へ約１．５ｃｍに形成して成る
特許請求の範囲第４項記載の高密度記録レコード用原盤
の製造方法。 ６ 面荒し部の溝の巾、深さを１μｍ以上に形成して成
る特許請求の範囲第４項記載の高密度記録レコード用原
盤の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1384978A JPS6048051B2 (ja) | 1978-02-09 | 1978-02-09 | 高密度記録レコ−ド用原盤及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1384978A JPS6048051B2 (ja) | 1978-02-09 | 1978-02-09 | 高密度記録レコ−ド用原盤及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54107308A JPS54107308A (en) | 1979-08-23 |
| JPS6048051B2 true JPS6048051B2 (ja) | 1985-10-25 |
Family
ID=11844718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1384978A Expired JPS6048051B2 (ja) | 1978-02-09 | 1978-02-09 | 高密度記録レコ−ド用原盤及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6048051B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5887147U (ja) * | 1981-12-08 | 1983-06-13 | 日本コロムビア株式会社 | フオトレジストマスタ−盤 |
| US4616237A (en) * | 1982-09-27 | 1986-10-07 | Pa Management Consultants, Ltd. | Data storage medium |
| ATE33432T1 (de) * | 1982-12-06 | 1988-04-15 | Plasmon Data Systems Nv | Bilderzeugung und informationsspeicherung. |
| WO1984002419A1 (en) * | 1982-12-06 | 1984-06-21 | Comtech Res Unit | Improvements relating to data storage and recording |
-
1978
- 1978-02-09 JP JP1384978A patent/JPS6048051B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54107308A (en) | 1979-08-23 |
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