JPS6047647A - 即席めんの製造方法 - Google Patents

即席めんの製造方法

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JPS6047647A
JPS6047647A JP58155505A JP15550583A JPS6047647A JP S6047647 A JPS6047647 A JP S6047647A JP 58155505 A JP58155505 A JP 58155505A JP 15550583 A JP15550583 A JP 15550583A JP S6047647 A JPS6047647 A JP S6047647A
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Japan
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noodles
noodle
microwave
instant noodles
drying
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JP58155505A
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JPS6260055B2 (ja
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Yukio Nakano
幸夫 中野
Teruhiro Hanaoka
彰宏 花岡
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Toyo Suisan Kaisha Ltd
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Toyo Suisan Kaisha Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は即席めんの製造方法に関し、とくに蒸煮して
α化しためんの乾燥方法に関する。
即席めんは、油揚げ乾燥めん、熱風乾燥めん、凍結乾燥
めんが主なるものであるが、そのα化および乾燥法にそ
れぞれの特徴をもつものである。
即ち、油揚げめんは、油ちょう処理によってα化および
乾燥が同時に出来る利点があるものの、付着した油が長
期保存中に劣化して風味を損ねたり、油によってスープ
の風味をマスクするという問題は避けられない。熱風乾
燥めんは、上述の油の問題は生じないが、乾燥時に麺線
が収縮し、多孔質めんとすることが困難となり、復元性
が劣り、加えて乾燥時の熱で麺線の焼けが生じるおそれ
があった。特にかん水の入ったラーメンにあってはいわ
ゆるかん水やけの現象が生じやすく、これを回避するた
めには低温長時間乾燥を余儀なくされている。また、凍
結乾燥めんは設備が多大となる外、乾燥時間が8〜24
時間もかかり、その製造コストは大巾にアップする間融
を有する。
こうしたことから、メンの乾燥にマイクロ波を照射する
ことが以前より試みられ、これに熱風乾燥を併用する方
法、その他高温多湿雰囲気下でマイクロ波を照射する方
法が知られている。
しかしながら、このマイクロ波照射による乾燥法も、照
射のコントロールが意外に困難で、乾燥むらや焦げを生
じたり、また均一で良好な発泡体の麺線な得ることが困
難で食感も必ずしも優れているとはいえなかった。こう
したことがら、マイクロ波照射による乾燥法は、装置が
尚価なことその他ランニングコストの高いこととおいま
っていまだ試作の段階で本格的に実用化の段階に至って
いないのが実情である。
本願の発明者は即席めんの製造における上記の間助の解
決にむけて種々の研究をしたものであるが、その結果、
蒸煮してα化しためん線の乾燥にあたって減圧下でマイ
クロ波を照射することによってめん線を均一に膨化発泡
させた状態で乾燥することができ、かつ乾燥時めん線の
品温か過度に昇温することを防止できることを発見した
。従って、これによって乾燥むらや焦げの問題も併せて
解決出来ることを見出し、この発明を完成した。
即ち、この発明は、即席めんの製造において、蒸煮して
α化しためん線を60〜160mHfの減圧下でマイク
ロ波を照射して乾燥することを特徴とする。以下にこの
発明を説明する。
この発明に用いる即席めんの原料は、通常のものでよく
、主原料としては小麦粉を用い、他に必要に応じてそば
粉、各種でん粉を適量配合してもよい。ここに用いる澱
粉の種類としては、馬れいしよ澱粉、甘しょ澱粉、コー
ンスターチ、小麦粉澱粉などの外各種加工澱粉も使用で
きる。
これらの原料に水を加え常法に従って混ねつするがへそ
の際1好ましくはミキサー6二真空ポングを接続し、内
部の空気な脱気してミキサー内の圧力を60〜310t
tunsgとするとめん質を一層なめらかなものとする
ことができる。ミキサーで混ねつしためん生地は、これ
をロールで圧延しめん帯とし、切出しを行ってめん線と
する。
このめん線はその後約常法に従って100Cで蒸煮し充
分α化する。ここでの水分含水量は特に限定されるもの
ではないが、通常30〜40%である。これをそのまま
マイクロ波乾燥にかけることができるが、予めある程度
熱風乾燥してからマイクロ波をかけてもよい。この麺線
はj1勾量な容器に入れ、次にこれを真空度60〜16
0+xmH7の減圧雰囲気中において、連続的或いは断
続的にマイクロ波を照射する。
ここにおける容器内の圧力を60〜160mynsgと
しだのは、160muy以上であると水分の蒸発が不充
分となって膨化発泡が不充分となる外、水分の蒸発が不
充分となってめんの品温の上昇を抑止することができな
い。また、下限の6QmII2は、これ以下とする必要
がないからでおる。ここにおけるマイクロ波の周波数は
特に限定されるものではないが、通常と同様で2450
±50MH2のものでよい。マイクロ波の照射時間は4
〜8分程度で、水分的13%程度の即席乾燥めんが得ら
れる。
以上の本発明によるマイクロ波照射による加熱は、食品
の誘電体損失による加熱であるから、被加熱体であるめ
ん綜の表面および内部の誘電体損失の大きい物質すなわ
ち水分が加熱され、これが−挙に蒸発してめん線を乾燥
させる。しかも、その隙に雰囲気は60〜160wA)
Iyの減圧下にあるので、水分の蒸発温度を下げ、めん
綜の過度の加熱を回避出来てめん線の焦げを防止できる
とともに、めん綜の中心部に残存する水分の拡散速度を
上げることができ、一層均一な膨化発泡乾燥めんとする
ことができる。
即ち、めん線を減圧下の雰囲気内1cおくことは、沸点
@度を低下させ、マイクロ波のエネルギーが低くても内
部の水分が急速に蒸発することになり、めんの発泡化を
促進させる。また、めん表面の水蒸気分圧も下っている
ために、麺内部からの水分の拡散速度が上がり乾燥を容
易とする。さらに、水分蒸発にともない気化熱を奪って
めんの品温上昇を抑制する。
次表は水分38%のめん線115gX2個を出力1.3
 K Wのマイクロ波で各圧力に保って1分30秒加熱
したときのめん線の品温を測定したものである。
第1表 また、第2表は水分38チのめん1115gX2個を出
力1.3KWのマイクロ波で圧力60JIllHgK保
って乾燥したときのめん線の温良および乾燥の程度を示
したものである。
第2表 第1表および第2表から判るように、減圧下雰囲気中で
の品温の上昇は少なく、乾燥終了までの大体85℃以下
に保つことか可能なことがわかる。このことは熱による
変色およびこげを防ぎ、特にかん水を多く加えられるな
どの品濁向上の第1」点かある。
第3表は、水分38mftチのめん線115gX2個を
最終水分lO〜13チになるまで乾燥するために各種方
法によった場合の条件を調べた。
第3表 乾燥中のめんの品温か高いと、めん表面が熱によって膠
着し発泡を閉塞する傾向となって良好な発泡を阻害する
か、品温85℃以下で―がかる現象が生ぜず良好な発泡
か行なわれる。
なお、本発明において雰囲気の圧力は、60〜160 
jllHgの範囲で行なわれるが、乾燥の後半は蒸発す
べき水分の残存量が少なくなっているために圧力を下け
、水分の蒸発を促進するとともに、これによって品温の
上がるのを防止するのかよい。
以上本発明によると、めん線を60〜1601RHgの
雰囲気中で乾燥するものであるがら、めん線の均一な膨
化発泡乾燥が数分でできるようになった。また、乾燥に
あたってめんの品@は85℃以下に抑制することができ
るため、めん線の熱による変色、やけ、焦げといった問
題の生ずることがないようになった。
本発明完成によって、従来困難とされていたマイクロ波
のみでめん緑の水分含量を短時間で13係以下とするこ
とか可能となり、マイクロ波乾燥の実用化ができるよう
になった。以下に実施例〉あげてこの発明Zさらに説明
する。
実、に例1 小麦粉5000 gに対しかん水50g食塩50gを配
合し、小麦粉に対して38東i%の水を加えて混ねつし
た生地を常法によって1藺厚に圧延し、22番の切刃を
用いて生めん線を得た。
この生めん線を100℃で1分間蒸煮して水分38チの
めんを得た。次にこれを容器の中に入れ、60”Hgl
7)減圧下の容器内に収納して13に’Wのマイクロl
&ヲ6分間照射したところ、水分12チの乾燥めんt得
た。このめんZ試食してみると、ゆで汁のにごりが見ら
れず、めんの弾力性もあって粉臭もなかった。食感は生
ラーメンと略同様であった。
実施例2 小麦粉5000gに対しかん水50g、食塩50gを配
合し、小麦粉に対し38車t%の水を加えて混ねつする
に際し、ミキサーの内部を真蔓ボンfKよって脱気して
59IIIHgとし、この状態て15分間混ねつした。
この生地yxミキサーより取出し、常法に従って1藺厚
に圧娃し、次に22番の切刃を用いて生めん線とした。
この生めん線Y 100℃で45秒間蒸煮して水分35
%のめんを得た。次にこれを容器の中に入れ、89 w
p Hgの減圧下の容器内に収納し113KWのマイク
ロ波に5分間照射したところ、水分12%の乾燥めんを
得た。このめんを試食した結果、実施例1のものと同様
であったか、さらにめんの透明感および弾力性の府で優
れたものであった。
出願人代理人 弁理士 鈴 注 武 彦特許庁長官 若
 杉 和 夫 殿 1.事件の表示 特願昭58−155505号 2、発明の名称 即席めんの製造方法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 東洋水産株式会社 4、代理人 6 補正の対象 明細書 7、補正の内容 (1) 特許請求の範囲?別紙の辿り「]正する。
(2) 明細書の次の個所全訂正する。
(a)2へ一ジ11 rr rメン」會「めん」と訂正
する。
(b)3ヘ一ジ15行目r60〜160mjllHyj
全、「60〜160#RHf」と訂正する。
(c)4ペ一ジ7行目「60〜31OシIIFIf」’
r、r60〜310HpJと訂正する。
(dl 4ページ11h目「そのイ友約」孕。
「その後」と訂正する。
(e)4ペ一ジ12行目「水分含水量」葡。
「水分含有量」と訂正する。
(f)4ペ一ジ17行目「次にこれ′?f:真至曳60
〜16 oturst J x、r次にこれi60〜1
60mAHf」とir 正−r ル。
(g)4ヘ一ジ20行目「60〜160IuRH,ii
I」を「60〜160#IHIJと61正する。
(h)5ペ一ジ1行目r160yH11J會。
「160IIIAH?」と訂正する。
(1)5ペ一ジ3行目「水分の蒸発か不充分となって」
全削除する。
(J)5へ一ノ3〜4h目「品温の上昇を」−w、r品
温の上昇も」と訂正する。
(kl 5ペ一ジ4行目「6ON11iyJを。
「60tttxHy J トM丁正f ル。
(1)5ヘ一ジ8行目rMHzJ k−rMl−1zJ
と訂正する。
(削 5ペ一ジ16行目r 60−16011LIII
H1」テ、「60〜160〜118 y Jと訂正する
2、特許請求の範囲 即1mめんの製造において、#蕉してα化しためん線t
60〜l 6 Q rkAH2の減圧下でマイクロ波を
照射して乾燥すること′ff、特徴とする即1品めんの
製造方法。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 即席めんの製造において、蒸煮してα化しためん線を6
    0〜160TIJHfの減圧下でマイクロ波を照射して
    乾燥することを特徴とする即席めんの製造方法。
JP58155505A 1983-08-25 1983-08-25 即席めんの製造方法 Granted JPS6047647A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58155505A JPS6047647A (ja) 1983-08-25 1983-08-25 即席めんの製造方法

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Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6047647A true JPS6047647A (ja) 1985-03-15
JPS6260055B2 JPS6260055B2 (ja) 1987-12-14

Family

ID=15607508

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0855998A (ja) * 1995-08-22 1996-02-27 Seiko Epson Corp 相補型薄膜トランジスタ
WO1997036502A1 (en) * 1996-03-29 1997-10-09 The University Of British Columbia Production of chips by electromagnetic (e.g. microwave) and vacuum treatment
KR20000055723A (ko) * 1999-02-09 2000-09-15 변봉화 마이크로파 또는 전자파를 이용하는, 면질이 개선된 삶은면류의 제조방법
US8693006B2 (en) 2005-06-28 2014-04-08 Nikon Corporation Reflector, optical element, interferometer system, stage device, exposure apparatus, and device fabricating method

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US8693006B2 (en) 2005-06-28 2014-04-08 Nikon Corporation Reflector, optical element, interferometer system, stage device, exposure apparatus, and device fabricating method

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