JPS6043362B2 - 水溶性の高分子量重合体の製造方法 - Google Patents
水溶性の高分子量重合体の製造方法Info
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- JPS6043362B2 JPS6043362B2 JP56137684A JP13768481A JPS6043362B2 JP S6043362 B2 JPS6043362 B2 JP S6043362B2 JP 56137684 A JP56137684 A JP 56137684A JP 13768481 A JP13768481 A JP 13768481A JP S6043362 B2 JPS6043362 B2 JP S6043362B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
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Description
【発明の詳細な説明】
残存単量体の含有率の低い高分子量の水溶性アクリル
重合体もしくは共重合体の製造 本発明は水処理におけ
る凝集剤として特に有用な高分子量の水溶性有機重合体
もしくは共重合体の製造に関し;またより特定的には一
つもしくはそれより多い残存単量体をほとんどもしくは
全く含まない高分子量の水溶性の重合体もしくは共重合
体の製造に関する。
重合体もしくは共重合体の製造 本発明は水処理におけ
る凝集剤として特に有用な高分子量の水溶性有機重合体
もしくは共重合体の製造に関し;またより特定的には一
つもしくはそれより多い残存単量体をほとんどもしくは
全く含まない高分子量の水溶性の重合体もしくは共重合
体の製造に関する。
本発明はこの方法により得られる生成物にも同様に関す
る。一つもしくはそれより多い残存する単量体の含有率
が非常に低い水溶性の有機重合体もしくは共重合体を水
処理のために使用しうることは、毒性の見地から非常に
重要であることが知られている。
る。一つもしくはそれより多い残存する単量体の含有率
が非常に低い水溶性の有機重合体もしくは共重合体を水
処理のために使用しうることは、毒性の見地から非常に
重要であることが知られている。
残存する単量体の割合の上限値(特に、アクリルアミド
から出発して得られる重合体もしくは共重合体の場合、
製品の乾燥重量に対して0.05重量%)が各種の規制
により設定されている。紫外輻射線下での光重合による
アクリル重合体もしくは共重合体の製造は従来的技術に
おいてよく知られている。特に、遊離の単量体をほとん
どもしくは全く含まない高分子量の水溶性アクリル重合
体を得ることを目的とする、特許第2348227号と
して公告されたフランス特願第76,11634号が知
られている。この方法に従うとき、重量にたいして0.
005ないし1重量%の割合の光重合促進剤を含有する
一つもしくはそれより多いアクリル重合体の水溶液を支
持物上に連続してかつ薄層として載積し;次いで液体の
薄層を300ないし450ナノメートルの波長の輻射線
の作用下に1ないし20分おき(有効輻射線の平均的強
度は20ないし300ワット/dであり、液体薄層を覆
うガス雰囲気は5容積%より低い酸素含有率を有し、熱
量を除去するために支持物が冷却される);このように
して重合が開始された薄層が、冷却された支持物上にそ
して酸素の除去された雰囲気下に保持され、さらに、3
00ないし450ナノメートルの波長の輻射.線の作用
下におかれ(有効輻射線の平均強度は300ないし20
00ワット/イである);得られる非液体状の薄層中に
存在する残存単量体の除去を完全にするために、別な工
程においてこの薄層が空気の下でまた冷却なしに、波長
300ないし450ナノ.メートルの輻射線の作用下に
3紛ないし3時間おく(有効輻射線の平均強度は20な
いし500ワット/イである)。得られる薄膜を次いで
細片に細断し、乾燥し、次いで粉末化する。この方法に
より単量体の割合が0.05%より低い重合体が得られ
・る。しかしこのものには一つの欠点、つまり非常に長
い照射時間(3紛ないし3時間)従つて高価な設備を必
要とする欠点がある。このため従来的技術の方法は一方
で長時間を要し、他方費用がかさむ。従来的技術からみ
て、この3紛ないし3時間という長時間の照射を、多少
とも稀釈されたメタノールのような適当な溶媒による残
存単量体の抽出でおきかえうるであろうことが推論でき
る。
から出発して得られる重合体もしくは共重合体の場合、
製品の乾燥重量に対して0.05重量%)が各種の規制
により設定されている。紫外輻射線下での光重合による
アクリル重合体もしくは共重合体の製造は従来的技術に
おいてよく知られている。特に、遊離の単量体をほとん
どもしくは全く含まない高分子量の水溶性アクリル重合
体を得ることを目的とする、特許第2348227号と
して公告されたフランス特願第76,11634号が知
られている。この方法に従うとき、重量にたいして0.
005ないし1重量%の割合の光重合促進剤を含有する
一つもしくはそれより多いアクリル重合体の水溶液を支
持物上に連続してかつ薄層として載積し;次いで液体の
薄層を300ないし450ナノメートルの波長の輻射線
の作用下に1ないし20分おき(有効輻射線の平均的強
度は20ないし300ワット/dであり、液体薄層を覆
うガス雰囲気は5容積%より低い酸素含有率を有し、熱
量を除去するために支持物が冷却される);このように
して重合が開始された薄層が、冷却された支持物上にそ
して酸素の除去された雰囲気下に保持され、さらに、3
00ないし450ナノメートルの波長の輻射.線の作用
下におかれ(有効輻射線の平均強度は300ないし20
00ワット/イである);得られる非液体状の薄層中に
存在する残存単量体の除去を完全にするために、別な工
程においてこの薄層が空気の下でまた冷却なしに、波長
300ないし450ナノ.メートルの輻射線の作用下に
3紛ないし3時間おく(有効輻射線の平均強度は20な
いし500ワット/イである)。得られる薄膜を次いで
細片に細断し、乾燥し、次いで粉末化する。この方法に
より単量体の割合が0.05%より低い重合体が得られ
・る。しかしこのものには一つの欠点、つまり非常に長
い照射時間(3紛ないし3時間)従つて高価な設備を必
要とする欠点がある。このため従来的技術の方法は一方
で長時間を要し、他方費用がかさむ。従来的技術からみ
て、この3紛ないし3時間という長時間の照射を、多少
とも稀釈されたメタノールのような適当な溶媒による残
存単量体の抽出でおきかえうるであろうことが推論でき
る。
残存単量体を溶解するメタノールにより光重合体生成物
を処理することができる。しかしこれは長時間がかかり
、高価でありかつメタノールの危検でかつ有毒な性質を
考える時使用が困難である。昭和54jf−.4月5日
付の特願第79,08596号中で、残存単量体の含有
率が著しく低い高分子量のアクリル重合体もしくは共重
合体の製造方法もまた提出されていいるが、この型の方
法に従う場合、PHが約4ないし約14で、光重合促進
剤を含有する一つもしくはそれより多いアクリル単量体
の水溶液の液層が支持物上に載積されかつゴム状の層が
得られるまで、この液層が約300ないし約450ナノ
メートルの波長の輻射線の作用下におかれる。そして少
くとも一つのアルカリ亜硫酸塩および(または)少くと
も一つのアルカリメタ重亜硫酸塩にて、得られるゴム状
の層の両面の少くとも一つを塗布し、これを小片に細断
し、この小片を乾燥しかつこれを粉砕することが特徴で
ある。この方法で得られる粉末は0.05%より低い単
量体含有率を有する。しかし特別な処理を判う新規な工
程をプロセスに導入せねばならないことがわかる。さて
、ベンジルジメチルケターンを含有する光−開始剤を利
用することにより、残存単量体の含有率を単純かつ意外
な仕方で低下しうることが現在見出されている。
を処理することができる。しかしこれは長時間がかかり
、高価でありかつメタノールの危検でかつ有毒な性質を
考える時使用が困難である。昭和54jf−.4月5日
付の特願第79,08596号中で、残存単量体の含有
率が著しく低い高分子量のアクリル重合体もしくは共重
合体の製造方法もまた提出されていいるが、この型の方
法に従う場合、PHが約4ないし約14で、光重合促進
剤を含有する一つもしくはそれより多いアクリル単量体
の水溶液の液層が支持物上に載積されかつゴム状の層が
得られるまで、この液層が約300ないし約450ナノ
メートルの波長の輻射線の作用下におかれる。そして少
くとも一つのアルカリ亜硫酸塩および(または)少くと
も一つのアルカリメタ重亜硫酸塩にて、得られるゴム状
の層の両面の少くとも一つを塗布し、これを小片に細断
し、この小片を乾燥しかつこれを粉砕することが特徴で
ある。この方法で得られる粉末は0.05%より低い単
量体含有率を有する。しかし特別な処理を判う新規な工
程をプロセスに導入せねばならないことがわかる。さて
、ベンジルジメチルケターンを含有する光−開始剤を利
用することにより、残存単量体の含有率を単純かつ意外
な仕方で低下しうることが現在見出されている。
残存単量体の低減がなされるのみならず、生成物の溶解
速度が増大することが驚くべきことに認められたが、こ
のことは重合体の使用に関して一つの利点となる。
速度が増大することが驚くべきことに認められたが、こ
のことは重合体の使用に関して一つの利点となる。
本発明は従つて、移動する支持物上に連続的に載積され
た、重合のための光一開始剤を含有するオレフィン飽和
単量体の脱酸素された水溶液の薄層を150ないし50
0ナノメートル(望ましくは300ないし450ナノメ
ートル)の波長の輻射線を用いて照射することにより、
凝集剤として特に有用であり残存する一つもしくはそれ
より多い単量体の含有率が低い高分子量の水溶性重合体
を製造する方法を目的とする。
た、重合のための光一開始剤を含有するオレフィン飽和
単量体の脱酸素された水溶液の薄層を150ないし50
0ナノメートル(望ましくは300ないし450ナノメ
ートル)の波長の輻射線を用いて照射することにより、
凝集剤として特に有用であり残存する一つもしくはそれ
より多い単量体の含有率が低い高分子量の水溶性重合体
を製造する方法を目的とする。
本発明に従うに、ベンジルジメチルケタールの含有率は
望ましくは単量体の重量に対して0.001ないし0.
5%であり、0.003ないし0.3であるのが有利で
ある。
望ましくは単量体の重量に対して0.001ないし0.
5%であり、0.003ないし0.3であるのが有利で
ある。
本発明に従う方法は、約2ないし約20ミリの厚,さに
載積され、かつ単量体に対して光重合体の促進剤を0.
001ないし0.5重量%含有しまた溶液1リットルあ
たり1Tngより少い酸素を含有する一つもしくはそれ
より多い単量体の水溶液を光重合するのに特によく適合
している。
載積され、かつ単量体に対して光重合体の促進剤を0.
001ないし0.5重量%含有しまた溶液1リットルあ
たり1Tngより少い酸素を含有する一つもしくはそれ
より多い単量体の水溶液を光重合するのに特によく適合
している。
この層は次いで300』ないし450ナノメートルの波
長の輻射線の作用下におかれ、平均強度が20ワット/
イから2000ワット/TTIまでの輻射線が漸増的に
適用される。液層を覆うガス雰囲気は水分を含みまた5
容積%より低い酸素含有率を有し、また重合により発生
する」熱を除去するために支持物が冷却される。単量体
はアクルアミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル
、メタクリロニトリル、アクリルおよびメタクリル酸、
メタリルスルフオン酸、ビニルベンゼンスルフォン酸、
これらの塩および工;ステル、N−ビニルピロリドン、
メチルー2ビニルー5ピリジン、楊合によつては4級化
されたアミノアルキルアクリレートおよびメタクリレー
トおよびこれらの混合物からなる群から選択される。
長の輻射線の作用下におかれ、平均強度が20ワット/
イから2000ワット/TTIまでの輻射線が漸増的に
適用される。液層を覆うガス雰囲気は水分を含みまた5
容積%より低い酸素含有率を有し、また重合により発生
する」熱を除去するために支持物が冷却される。単量体
はアクルアミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル
、メタクリロニトリル、アクリルおよびメタクリル酸、
メタリルスルフオン酸、ビニルベンゼンスルフォン酸、
これらの塩および工;ステル、N−ビニルピロリドン、
メチルー2ビニルー5ピリジン、楊合によつては4級化
されたアミノアルキルアクリレートおよびメタクリレー
トおよびこれらの混合物からなる群から選択される。
本発明はさらにより特定的にはアクリルアミドに関する
。なぜならば上述した規制が最も特に目士旨しているの
はポリアクリルアミドであるからである。単量体の性質
しだいで、出発水溶液の濃度は変化してよい。
。なぜならば上述した規制が最も特に目士旨しているの
はポリアクリルアミドであるからである。単量体の性質
しだいで、出発水溶液の濃度は変化してよい。
従つて、アクリルアミドもしくはそれとアルカリアクリ
レートとの混合物について、この濃度は通常20ないし
60、望ましくは40ないし5踵量%であろう。アミノ
アルキルメタクリレートの塩化物を基体として陽イオン
重合体(結合鎖が電気的に陽性の座位を含むもの)を製
造したいならば、上記の濃度はさらに高くてよいであろ
う:つまり40ないし90、望ましくは50ないし85
重量%の範囲にあるであろう。アクリルアミドと第4級
化アミノアルキルメタクリレートとの共重合体を得たい
ならば、この単量体の濃度は40ないし85%であるの
が好ましい。本発明に従うに、単量体の水溶液の薄層は
2ないし20ミリ、望ましくは3ないし877177!
であり、また移動する支持物が冷却されており、またP
Hは非イオン性もしくは陰イオン性重合体を得るために
:ま8ないし14であり、陽イオン性重合体を得るため
には2ないし8であるのが有利である。
レートとの混合物について、この濃度は通常20ないし
60、望ましくは40ないし5踵量%であろう。アミノ
アルキルメタクリレートの塩化物を基体として陽イオン
重合体(結合鎖が電気的に陽性の座位を含むもの)を製
造したいならば、上記の濃度はさらに高くてよいであろ
う:つまり40ないし90、望ましくは50ないし85
重量%の範囲にあるであろう。アクリルアミドと第4級
化アミノアルキルメタクリレートとの共重合体を得たい
ならば、この単量体の濃度は40ないし85%であるの
が好ましい。本発明に従うに、単量体の水溶液の薄層は
2ないし20ミリ、望ましくは3ないし877177!
であり、また移動する支持物が冷却されており、またP
Hは非イオン性もしくは陰イオン性重合体を得るために
:ま8ないし14であり、陽イオン性重合体を得るため
には2ないし8であるのが有利である。
光重合にかける水溶液に、グルコン酸、および5 そ
のナトリウム、カリウムもしくはアンモニウム塩、糖酸
およびそのナトリウムもしくはカリウム塩、ならびにア
ジピン酸からなる群に属する光重合添加助剤を添加する
こともできる。
のナトリウム、カリウムもしくはアンモニウム塩、糖酸
およびそのナトリウムもしくはカリウム塩、ならびにア
ジピン酸からなる群に属する光重合添加助剤を添加する
こともできる。
最後に、本発明の方法の利点は亜硫酸塩および′
(または)メタ重亜硫酸塩を用いる方法の利点に対して
累加的であることが認められている。
(または)メタ重亜硫酸塩を用いる方法の利点に対して
累加的であることが認められている。
この方式のプロセスに従う場合、少くとも一つのアルカ
リ亜硫酸塩および(または)少くとも一つのアルカリメ
タ重亜硫酸塩を、照射後に得られるゴムr 状層の両
面の少くとも一つに塗布する。アルカリ亜硫酸塩および
(または)メタ重亜硫酸塩の量はゴム状層の重量に対し
て0.1ないし約3、望ましくは0.3ないし約2重量
%である。ゴム状層を小片に細断し、次いでこれを乾燥
しかつ粉砕する。 アクリル単量体の水溶液が化以下の
PHを示すとき、アルカリ炭酸塩、特に炭酸アンモニウ
ムからなる群から選択される少くとも一つの炭酸塩をア
ルカリ亜硫酸塩および(または)メタ重亜硫酸塩と同時
に用いることができる。 ところで、本発明は例解的で
あり非限定的なものとして以下に示す例よつて一層容易
に理解できよう。
リ亜硫酸塩および(または)少くとも一つのアルカリメ
タ重亜硫酸塩を、照射後に得られるゴムr 状層の両
面の少くとも一つに塗布する。アルカリ亜硫酸塩および
(または)メタ重亜硫酸塩の量はゴム状層の重量に対し
て0.1ないし約3、望ましくは0.3ないし約2重量
%である。ゴム状層を小片に細断し、次いでこれを乾燥
しかつ粉砕する。 アクリル単量体の水溶液が化以下の
PHを示すとき、アルカリ炭酸塩、特に炭酸アンモニウ
ムからなる群から選択される少くとも一つの炭酸塩をア
ルカリ亜硫酸塩および(または)メタ重亜硫酸塩と同時
に用いることができる。 ところで、本発明は例解的で
あり非限定的なものとして以下に示す例よつて一層容易
に理解できよう。
例1(比較例)
溶解槽内に以下のものを順次攪拌下て添加するノこと
により溶液を得る: 脱塩水65.25kg アクリルアミド47.5kg 5鍾量%のソーダ水溶液19.5kg アクリル酸17.55kg 5グルコン酸ナトリウム0.5kg この溶液を充填塔の塔頂から供給する。
により溶液を得る: 脱塩水65.25kg アクリルアミド47.5kg 5鍾量%のソーダ水溶液19.5kg アクリル酸17.55kg 5グルコン酸ナトリウム0.5kg この溶液を充填塔の塔頂から供給する。
同じ塔において、PHを12.1に調整することができ
るように20%のソーダ水溶液を塔頂から導入する。同
塔の中央部にアクリル酸1リットルあたり34yのべO
ンゾインイソプロピルエーテルの溶液を140m1/時
の流量で導入し、塔底には、そこから流出する液体の溶
存酸素の含有率を溶液1リットルあたり酸素0.15m
g以下に保つのに十分な流量の窒素を導入する。単量体
の脱気された水溶液は、横方向の流れを防止するための
二つの同形の辺縁をもつ巾48センチ不銹鋼の帯状物上
を3.1e/時の流量の連続的に流れる。
るように20%のソーダ水溶液を塔頂から導入する。同
塔の中央部にアクリル酸1リットルあたり34yのべO
ンゾインイソプロピルエーテルの溶液を140m1/時
の流量で導入し、塔底には、そこから流出する液体の溶
存酸素の含有率を溶液1リットルあたり酸素0.15m
g以下に保つのに十分な流量の窒素を導入する。単量体
の脱気された水溶液は、横方向の流れを防止するための
二つの同形の辺縁をもつ巾48センチ不銹鋼の帯状物上
を3.1e/時の流量の連続的に流れる。
この帯状物はさらに、溶液が逆流するのを防ぐように流
れの方向に極くわずか傾いている。この帯状物上のガラ
ス板で他から仕切られており、湿つた窒素流により酸素
減殺されている(酸素は0.2%以下)。この金属帯は
毎分24センチの速さで移動する。この速さで、単量体
溶液の層の厚さは約4.5ミリである。15℃の水で下
面が冷却されているこの帯状物は長さ3.6メートルに
わたつて、以下のようになされる照射にかけられる:は
じめの120センチでは、帯状物の移動方向に対して直
角にかつそれから10センチ離れて、それぞれ40ワッ
トの電気出力を有する低圧水銀蒸気ランプ(フィリップ
ス社のTLAK4OW/05)を配置し、第2,4,6
,8,11,13および1幡目のランプは点燈しない。
れの方向に極くわずか傾いている。この帯状物上のガラ
ス板で他から仕切られており、湿つた窒素流により酸素
減殺されている(酸素は0.2%以下)。この金属帯は
毎分24センチの速さで移動する。この速さで、単量体
溶液の層の厚さは約4.5ミリである。15℃の水で下
面が冷却されているこの帯状物は長さ3.6メートルに
わたつて、以下のようになされる照射にかけられる:は
じめの120センチでは、帯状物の移動方向に対して直
角にかつそれから10センチ離れて、それぞれ40ワッ
トの電気出力を有する低圧水銀蒸気ランプ(フィリップ
ス社のTLAK4OW/05)を配置し、第2,4,6
,8,11,13および1幡目のランプは点燈しない。
第1段階に引続く第2段階の照射は以下のように行う。
つまり残りの240cmでは、20ワットの電気出力を
それぞれがもつ低圧冫水銀蒸気ランプ(フィリップス社
のTLAK2OW/09)を前記と向様に32個配置す
る。これらには17から48の番号を付し、すべてを点
燈する。照射時間は1553−である。操作の進行の様
子を表にすると以下のごとくな2る。1ネバネバする生
成物ョとは、溶液が滴状に分散することなく油状でゆつ
くりと流れるに十分な粘度となつた生成物のことを意味
する。
つまり残りの240cmでは、20ワットの電気出力を
それぞれがもつ低圧冫水銀蒸気ランプ(フィリップス社
のTLAK2OW/09)を前記と向様に32個配置す
る。これらには17から48の番号を付し、すべてを点
燈する。照射時間は1553−である。操作の進行の様
子を表にすると以下のごとくな2る。1ネバネバする生
成物ョとは、溶液が滴状に分散することなく油状でゆつ
くりと流れるに十分な粘度となつた生成物のことを意味
する。
粘稠性のある生成物とは、流れることはできるが、手で
激しく攪拌しても気泡ができない流体で意味する。可塑
的生成物とはコム状の稠度を有するゲルと解する。1紛
間の照射の後、可塑性の薄膜が得られ、これを単にひつ
ぱることにより帯状物から引剥す。
激しく攪拌しても気泡ができない流体で意味する。可塑
的生成物とはコム状の稠度を有するゲルと解する。1紛
間の照射の後、可塑性の薄膜が得られ、これを単にひつ
ぱることにより帯状物から引剥す。
この薄膜を次に細断機により小片に破断し、約75℃で
3吟間乾燥し、次いで粉状に粉砕する。1eあたり重合
体5yの濃度として、この粉末は環境温度の脱塩水中に
3時間で完全に溶け、不溶分を残さない。
3吟間乾燥し、次いで粉状に粉砕する。1eあたり重合
体5yの濃度として、この粉末は環境温度の脱塩水中に
3時間で完全に溶け、不溶分を残さない。
5%の塩化ナトリウムを補完的に溶解した後の、1号針
での10T′/分ブルツクフイールド粘度は20℃で2
701)Pである。
での10T′/分ブルツクフイールド粘度は20℃で2
701)Pである。
この粉末の残存アクリルアミド単量体を定量すると0.
91%である。
91%である。
例2(実施例)
例1と同様であるが、1アクリル酸1リットルあたり3
4yのベンゾインイソプロピルエーテルの溶液ョをアク
リル酸1リットルあたり10gのベンジルジメチルケタ
ール〔チバガイギー(CibaGeigy)社のイルガ
キユーレ(Irgacure)651)の溶液にておき
かえる。
4yのベンゾインイソプロピルエーテルの溶液ョをアク
リル酸1リットルあたり10gのベンジルジメチルケタ
ール〔チバガイギー(CibaGeigy)社のイルガ
キユーレ(Irgacure)651)の溶液にておき
かえる。
操作の進行の様子を表にすると以下のようになる:最終
的な粉末は、1eあたり重合体5f1の濃度として、1
時間3紛で水中に完全に溶解し、不溶分を残さない。
的な粉末は、1eあたり重合体5f1の濃度として、1
時間3紛で水中に完全に溶解し、不溶分を残さない。
5%の塩化ナトリウムを加えるとき、ブルツクフイール
ド粘度は20℃で28■pである。
ド粘度は20℃で28■pである。
この粉末の残存アクリルアミド単量体を定量すると0.
22%である。
22%である。
例3(実施例)
本例は前例と同一であるが、ただし、細断、乾燥、粉砕
に先立ち、ゴム状層に対して0.5ないし0.踵量%の
亜硫酸ナトリウムでゴム状層の両面を処理することによ
り、単量体の含有率を0.015%より低い値まで低下
する。
に先立ち、ゴム状層に対して0.5ないし0.踵量%の
亜硫酸ナトリウムでゴム状層の両面を処理することによ
り、単量体の含有率を0.015%より低い値まで低下
する。
最終的な粉末は例2におけるそれと同じ特性をもつが、
残存単量体の割合は低下している。例4(実施例) 例1と同じであるがグルコン酸ナトリウム0.5ζ9は
アジピン酸0.5k9でおきかえる。
残存単量体の割合は低下している。例4(実施例) 例1と同じであるがグルコン酸ナトリウム0.5ζ9は
アジピン酸0.5k9でおきかえる。
操作の進行の様子を表にすると以下のようになる:最終
的な粉末、5y/′に濃度として1時間30分で完全に
溶解し、不溶分を残さない。
的な粉末、5y/′に濃度として1時間30分で完全に
溶解し、不溶分を残さない。
ブルツクフイールド粘度は、5%の塩化ナトリウムの存
在で200Cで450Cpである。
在で200Cで450Cpである。
この粉末の残在アクリルアミド単量体を定量すると0.
59%である。例5(実施例) 下記の点は別として例1と同じである: ー グルコン酸ナトリウム0.5k9をアジピン酸0.
5k9におきかえる。
59%である。例5(実施例) 下記の点は別として例1と同じである: ー グルコン酸ナトリウム0.5k9をアジピン酸0.
5k9におきかえる。
− アクリル酸1リットルあたりベンゾインイソプロピ
ルエーテル34yの溶液をアクリル酸1リットルあたり
ベンジルジメチルケタール12yの溶液におきかえる。
ルエーテル34yの溶液をアクリル酸1リットルあたり
ベンジルジメチルケタール12yの溶液におきかえる。
操作の進行の様子を表にすると以下にようになる:最終
的な粉末は、5f/eの濃度として1時間で水中に完全
に溶解し、不溶分を残さない。
的な粉末は、5f/eの濃度として1時間で水中に完全
に溶解し、不溶分を残さない。
ブルツクフイールド粘度は、5%の塩化ナトリウムの存
在下で20℃において420CPである。この粉末の残
存アクリルアミド単量体を定量すると0.20%である
。以上により、これらの例は溶解速度および残存単量体
の割合の両方の見地からの本発明の利点を例証するもの
であり、ベンゾインイソプロピルエーテルについての場
合より少い光開始剤が用いられる。
在下で20℃において420CPである。この粉末の残
存アクリルアミド単量体を定量すると0.20%である
。以上により、これらの例は溶解速度および残存単量体
の割合の両方の見地からの本発明の利点を例証するもの
であり、ベンゾインイソプロピルエーテルについての場
合より少い光開始剤が用いられる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 移動する支持物上に連続的に載積された、重合のた
めの光−開始剤を含有するオレフィン不飽和単量体の脱
酸素された水溶液の薄層を、150ないし500ナノメ
ートル(望ましくは300ないし450ナノメートル)
の波長の輻射線を用いて照射することにより、凝集剤と
して特に有用であり残存する1つもしくはそれより多い
単量体の含有率が低い高分子量の水溶性重合体を製造す
る方法であつて、光−開始剤がベンジメチルケタールを
含有することを特徴とする方法。 2 ベンジルジメチルケタールが一つもしくはそれより
多い単量体の重量に対して0.001ないし0.5%、
望ましくは0.003ないし0.3%含まれることを特
徴とする上記第1項の方法。 3 単量体の水溶液が溶液1lあたり1mgより少ない
酸素を含有し、また酸素含有率が5容積%より低い湿つ
た雰囲気内で、波長300ないし450ナノメートルの
輻射線の作用下に5ないし20分おかれ、有効輻射線の
適用強度が20ワット/m^2から2000ワット/m
^2まで漸増されることを特徴とする上記第1項および
第2項のいずれかの方法。 4 単量体がアクリルアミド、メタクリアミド、アクリ
ロニトリル、メタクリルニトリル、アクリルおよびメタ
クリル酸、メタリルフオン酸ビニルベンゼンスルフォン
酸ならびにこれらの塩およびエステル、N−ビニルピロ
リドン、メチル−2ビニル−5ピリジン、ならびに場合
によつては4級化されたアミノアルキルアクリレートお
よびメタクリレートおよびこれらの混合物からなる群か
ら選択されることを特徴とする上記第1項ないし第3項
のいづれかの方法。 5 単量体の水溶液の薄層の厚さが2ないし20ミリ、
望ましくは3ないし8ミリであり、かつ移動する支持物
が冷却され、また非イオン性もしくは陰イオン性の重合
体を得るためにはpHが8ないし14であり、かつ陽イ
オン性重合体を得るためにはpHが2ないし8であるこ
とを特徴とする上記第1項ないし第4項のいづれかの方
法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8019100 | 1980-09-04 | ||
FR8019100A FR2489336B1 (fr) | 1980-09-04 | 1980-09-04 | Procede de preparation de polymeres ou copolymeres hydrosolubles a poids moleculaire eleve et a faible teneur en monomere(s) residuel(s), a partir de monomeres olefiniquement insatures |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS57115409A JPS57115409A (en) | 1982-07-17 |
JPS6043362B2 true JPS6043362B2 (ja) | 1985-09-27 |
Family
ID=9245654
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56137684A Expired JPS6043362B2 (ja) | 1980-09-04 | 1981-09-01 | 水溶性の高分子量重合体の製造方法 |
Country Status (14)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4404073A (ja) |
EP (1) | EP0049647A1 (ja) |
JP (1) | JPS6043362B2 (ja) |
AT (1) | AT370743B (ja) |
AU (1) | AU544414B2 (ja) |
BE (1) | BE890203A (ja) |
CA (1) | CA1142881A (ja) |
CH (1) | CH650789A5 (ja) |
DK (1) | DK385081A (ja) |
FI (1) | FI69478C (ja) |
FR (1) | FR2489336B1 (ja) |
GB (1) | GB2083052B (ja) |
IT (1) | IT1167490B (ja) |
NO (1) | NO812973L (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4466931A (en) * | 1982-08-05 | 1984-08-21 | Gelman Sciences Inc. | Method for manufacturing microporous membrane |
DE3246905A1 (de) * | 1982-12-18 | 1984-06-20 | Röhm GmbH, 6100 Darmstadt | Verfahren zur herstellung von polymethacrylamid und copolymerisaten desselben |
AU568652B2 (en) * | 1983-06-27 | 1988-01-07 | Stauffer Chemical Company | Photopolymerizable composition |
CA1268732A (en) * | 1984-12-27 | 1990-05-08 | Akira Yada | Radiation-polymerizing water-soluble cast vinyl monomer layer and forming particles |
JPS61155406A (ja) * | 1984-12-27 | 1986-07-15 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 高分子量アクリル係重合体の製法 |
IL79884A (en) * | 1985-09-23 | 1990-11-05 | Gelman Sciences Inc | Microporous membrane laminate |
JPS62235305A (ja) * | 1986-04-04 | 1987-10-15 | Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd | 高分子量アクリル系重合体の製法 |
EP0274189B1 (en) * | 1986-11-07 | 1990-12-27 | Calgon Corporation | Riboflavin/fluorescent light-initiated polymerization of water-soluble monomers |
US5126189A (en) * | 1987-04-21 | 1992-06-30 | Gelman Sciences, Inc. | Hydrophobic microporous membrane |
WO1992015651A1 (en) | 1991-02-28 | 1992-09-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Multi-stage irradiation process for production of acrylic based adhesives and adhesives made thereby |
US6174931B1 (en) | 1991-02-28 | 2001-01-16 | 3M Innovative Properties Company | Multi-stage irradiation process for production of acrylic based compositions and compositions made thereby |
US6436532B1 (en) | 1991-02-28 | 2002-08-20 | 3M Innovative Properties Company | Multi-stage irradiation process for production of acrylic based adhesives and adhesives made thereby |
US5244934A (en) * | 1991-06-07 | 1993-09-14 | Takai Rubber Industries, Ltd. | Irradiation or thermal treatment of water-impregnated cross-linked poly-acrylic acid metal salt resin particles |
CN1239519C (zh) | 2000-04-21 | 2006-02-01 | 东亚合成株式会社 | 用于生产水溶性聚合物的方法 |
CN115430392B (zh) * | 2022-08-31 | 2024-04-16 | 江苏诺盟化工有限公司 | 一种苯偶酰的制备方法及专用文丘里喷射器 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2064729A5 (ja) | 1969-10-22 | 1971-07-23 | Progil | |
DE2009748A1 (de) * | 1970-03-03 | 1971-09-16 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von wasser löslichen Polymerisaten |
FI60194C (fi) * | 1972-07-28 | 1981-12-10 | Ciba Geigy Ag | Foerfarande foer framstaellning av bensil-monoketaler |
US3916776A (en) | 1972-07-31 | 1975-11-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Juicer |
FR2348227A1 (fr) * | 1976-04-14 | 1977-11-10 | Rhone Poulenc Ind | Perfectionnement aux procedes de preparation de polymeres acryliques hydrosolubles par photopolymerisation |
US4131529A (en) * | 1976-06-05 | 1978-12-26 | Basf Aktiengesellschaft | Photoinitiators for photopolymerizable coating compositions |
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