JPS6042884B2 - Icリ−ド曲り検査装置 - Google Patents

Icリ−ド曲り検査装置

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JPS6042884B2
JPS6042884B2 JP53059578A JP5957878A JPS6042884B2 JP S6042884 B2 JPS6042884 B2 JP S6042884B2 JP 53059578 A JP53059578 A JP 53059578A JP 5957878 A JP5957878 A JP 5957878A JP S6042884 B2 JPS6042884 B2 JP S6042884B2
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JP
Japan
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circuit
lead
signal
mask
area
Prior art date
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Expired
Application number
JP53059578A
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English (en)
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JPS54150088A (en
Inventor
樹 山田
正之 成瀬
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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Priority to JP53059578A priority Critical patent/JPS6042884B2/ja
Publication of JPS54150088A publication Critical patent/JPS54150088A/ja
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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はICのリードの曲りを検査する装置、さらに詳
しく言えば主にDIPプラスチックモールドICの外部
リードの先端がプリント板等への自動挿入が可能な範囲
の曲りに入つているか否かを検査する装置に関する。
従来ICの外部リードの曲り検査は、機械的なゲージを
各各のリードの隙間に通しリードの曲りを検査する限界
ゲージ方式が考えられるが、ICI個単位の処理のため
検査時間が長いこと、あるいはICの位値決めを正確に
しなければならないことなどの理由から、作業者の目視
検査による場合が多かつた。
近年IC製造工程の自動化、省力化への技術の発展目覚
しく、拡散工程、組立工程、選別工程など無人化工場に
なりつつある中で、最終工程である出荷前のICリード
曲り検査のみが人手に頼る目視検査を行なつておりライ
ン全体の完全自動化のネックになつていた。
本発明の目的はICIJ領域の先端の位置を迅速に検査
することができるICリード曲り検査装置を提供するこ
とにある。
前記目的を達成するために本発明によるICリード曲り
検査装置は、ICI個を保持し半透明ガラス面にICリ
ード先端を軽く押し当てる接触機構と、半透明ガラス面
に投影されたリード先端像を検査撮像する撮像装置と、
前記撮像装置の出力中の前記リード先端像を抽出するた
めのマスク設定回路と、前記撮像管出力とマスク設定回
路出力とをモニタするモニタと、前記マスク設定回路に
よ”りマスクされた部分から抽出された信号を積算する
面積計算回路と、前記接触機構を駆動する信号とマスク
設定回路駆動用同期信号および基準面積信号を送出する
制御回路と、前記基準面積信号と前記面積計算回路出力
信号とを比較する判定回路、とから構成されている。
上記構成によれば、半透明ガラス面には曲りのないリー
ド先端のみの像が写し出され、その投影像に対しリード
先端本来のピッチごとにマスクを設定し情報を抽出、評
価することにより全リードの曲りをチェックできる。
しかも処理すべき情報量は比較的少なくてすみ迅速な処
理が可能となると共にモニタによりマスクとリードとの
関係を確認することができ、初期状態の設定およびその
後の調整等が容易となる。以下図面を参照して本発明を
さらに詳しく説明する。
第1図は被検査対象のICのリード曲り状態を示す図で
、aはICを側面からみて一列状のリードに対し直角方
向の曲り方を示し、bは一列状のリードに対し同方向の
曲り方を示す図である。
ICリードの曲り形態はA,bの他AI:.bが複合し
た形状のもの、極端な場合は完全に押しつぶされたり切
断されてリードの欠けているものもある。これらのIC
リードの曲りの一般的な許容寸は使用するプリント板の
穴径により異なるが、インサーシヨンマシン等により自
動供給、自動挿入するには規定の寸法に対し約0.2〜
0.3wn程度と言われている。第2図はIClを半透
明ガラス板4に平に押し上げリード2の先端を接触させ
たときの半透明ガラス板に写し出されるリード2の先端
の像を示すもので、曲りのないものは3のようにリード
先端のみの像が忠実に結像するが、規定のピッチP2に
対し内側または外側に曲つているものは3″のようにや
や小さな点として写る。
同様に規定のピッチP1に対し曲つたりねじれているも
のは3″に示すようにやや小さな点としてそれぞれの先
端の位置で結像する。さらに極端に曲つたリードは半透
明ガラス板4には写し出されない。第3図はICリード
先端とマスクとの関係を示す図である。
ICリード先端が本来あるべき所定ピッチP1ごとにマ
スク領域を二列設定する。
このマスク領域.は走査線の選択と走査線上の決定によ
り規定される。マスク領域はリード先端の許容寸法範囲
の大きさに四辺形にし、すべてのリードに対応して1個
づつ設けてある。そしてリード先端が正常な位置にあれ
ばマスク領域には通常多数ビットの情報一が含まれるよ
うにしてある。このようにマスク領域を設定しておいて
、そのマスク領域におけるリード先端の映像信号を抽出
してビット数を評価するようにすれば、目視によれずリ
ード先端の当否が簡単に判断できる。第4図は本発明に
よる装置の一実施例の構成を示すブロック図である。
IClは制御回路20からの信号により接触機構10で
半透明ガラス板4の面にIClJ−ド先端が軽く押し当
てられる。半透明ガラス板4のリード2と反対側の面に
はリード2の先端が接触している部分のみが明確に結像
し、この像がITVなどの撮像装置11により撮像され
る。必要に応じて適当な照明手段を設ければ゛より鮮明
な像が得られる。マスクを設定するためのマスク設定回
路12は制御回路20からの信号によりリード2の先端
位置情報を抽出すべき位置を設定する。撮像装置11か
ら直列的に送出されてくる信号は信号2値化回路14に
より適当なレベルで′6r3または″0″に2値化され
る。さらに制御回路20からの同期信号13によりマス
ク領域内のみ前記2値化信号を抽出し、切替回路15に
より面積計算回路17に分配される。面積計算回路17
は走査線方向にあるリード本数に対応した数を設けてお
き、マスク設定回路12からの出力にしたがつて動作領
域の信号のビット数、すなわち面積を計算する。この面
積計算回路17の出力は、そのマスク領域内で規定の面
積を有するものであるか否かを面積2値化回路18で評
価される。制御回路20はICを半透明ガラス板に押し
つける接触機構10を駆動する信号とマスク設定回路1
2を動作させる同期信号およびリード2の先端形状の場
合にパターンに対応する基準面積信号を送出している。
この基準面積信号と、先に述べた各各の面積2値化回路
18の出力信号が判定回路19に加えられ、ここで比較
される。この判定回路19で各リード2について基準面
積信号と面積2値化信号がすべて比較され、各結果がす
べて一致するか否かによつて被検査対象の合否がただち
に判定される。一方モニタ16に対しては撮像装置11
の出力とマスク設定回路12の出力を加えられICリー
ド先端マスクが重畳されて表示されるとともに、リード
先端像については撮像装置11からのアナログ映像の他
、2値化回路14によつて2値化された後のディジタル
映像も表示できる。
本発明による装置は以上のように構成されているから、
マスクによりICリード先端情報を抽出し、その情報の
すべてが一致するか否かを判別することにより被検査対
象の良否の判定を迅速に行なうことができ、ICなどの
多量生産品の足曲り検査に適している。
またモニタを設けてマスク領域とリード先端の関連を直
視できるようにしてあるので、初期マスクの設定、マス
ク位置の修正が容易となる。
したがつて作業開始時点の確認、長時間使用後のドリフ
トの修正を簡単に行なうことができ、量産品の検査を正
確に行なうことができる。さらに映像信号の2値化の像
もモニタに表示することができ、初期の2値化レベルの
設定が容易となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は被検査対象のICのリード曲り状態を説明する
ための図、第2図は半透明ガラス板に投影されたICリ
ード先端の投影像を示す図、第3図はリード先端とマス
クの関連を説明するための図、第4図は本発明による装
置の一実施例を示すブロック図である。 1・・・・・・ICl2・・・・・・リード、3・・・
・・・リード先端の投影像、4・・・・・・半透明ガラ
ス板、10・・・・・・接触機構、11・・・・・・撮
像装置、12・・・・・・マスク設定回路、13・・・
・・同期信号、14・・・・・映像2値化回路、15・
・・・・・切替回路、16・・・・・・モニタ、17・
・・・・面積計算回路、18・・・・・・面積2値化回
路、19・・・・判定回路、20・・・・・・制御回路

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 被検査対象であるICを保持し半透明ガラス板にI
    Cリード先端を軽く押し当てる接触機構と、前記半透明
    ガラス板を透してリード先端像を走査撮像する撮像装置
    と、前記撮像装置の出力中のリード先端像を抽出するた
    めにあらかじめICリード先端の位置に合せて部分的に
    信号を取り出すマスク設定回路と、前記撮像装置の出力
    とその2値化後の出力および前記マスク設定回路の出力
    を表示するモニタと、前記マスク設定回路によりマスク
    された領域から抽出された信号を積算する面積計算回路
    と、前記接触機構を駆動する信号と前記マスク設定回路
    の駆動用同期信号および基準面積信号を送出する制御回
    路と、前記基準面積信号と面積計算回路出力信号を比較
    する判定回路とから構成したことを特徴とするICリー
    ド曲り検査装置。
JP53059578A 1978-05-18 1978-05-18 Icリ−ド曲り検査装置 Expired JPS6042884B2 (ja)

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JP53059578A JPS6042884B2 (ja) 1978-05-18 1978-05-18 Icリ−ド曲り検査装置

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JPS54150088A JPS54150088A (en) 1979-11-24
JPS6042884B2 true JPS6042884B2 (ja) 1985-09-25

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ID=13117244

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JPS54150088A (en) 1979-11-24

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