JPS604256A - 光機能回路素子の製造方法 - Google Patents

光機能回路素子の製造方法

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JPS604256A
JPS604256A JP58110841A JP11084183A JPS604256A JP S604256 A JPS604256 A JP S604256A JP 58110841 A JP58110841 A JP 58110841A JP 11084183 A JP11084183 A JP 11084183A JP S604256 A JPS604256 A JP S604256A
Authority
JP
Japan
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optical
optical path
substrate
light
resin
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Pending
Application number
JP58110841A
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English (en)
Inventor
Tamio Saito
斎藤 民雄
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPS604256A publication Critical patent/JPS604256A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、イσ数個の光学素子を備え、光によフ情報処
理等を行なう光機能回路素子の製造方法に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
近年光学素子、例えば半導体レーザ、LEDフォトダイ
オード、フォか、トランジスタ、光スイッチ菓子等の開
発が進み、これら光学素子全基板上に複数個実装し、光
路によ、ジ各素子間を結合することによシ、光を用いて
信号処理を行なう光機能回路素子の研死が各所で行なわ
れている。
従来はこのような光路として、元ファイバー等を用いて
いた。この場合、ファイバーの接続を行なう必ヅがあり
、光学−包子の実装雷度があがるにつれ、光路形成が困
建となる。また不透明な基板上に5ioz膜全形成し、
フッ・kjl昇愛用いて光路パターン形成全行なう方法
もあるが、フッi′1鮒等の薬品を用いるためパターン
形成が危i途であるのに加え、光学素子実装後は、光路
形成ができず、興造上大きな制限がある。
従ってあらブ1じめ形成された光路にi’Z 、i′売
するように光学素子全実装することになるため、光路と
光学素子との接合が位陽合わせ等の間:jjlから非7
ぽに困難であり、この接合部における光損失は大きなも
のであった。
〔発明の目的〕
本発明は以上の点全考慮してなされたもので、光学素子
間全接続する光路の形成が容易かつ光学素子と光路との
接合部における光損失を低減することが可能な光機能回
路素子の製造方法を提供すること全目的とする。
〔発明の概要〕
基板と、前記基板上に配置された複数個の光学索子と、
前記光学素子間全結合する光路とを有する光(・効能回
路素子の製造方法において、前記)&板上に、光学、)
*子全配置した後、少な(とも前記光路を形成する部分
に光硬化性透光性樹脂を充填し、選択的に前記光路を形
成する部分に光音照射することにより前記光硬化性透光
性樹脂全硬化させ、光路を形成する工程を具備したこと
を特徴とする光機能回路素子の製造方法である。
基板としては例えばアルミナ等のセラミックス基板、ガ
ラス基板等の不透光性のものを用いることができる。光
学素子としては発光、受光機能を有する、例えばL 、
g D 、半導体レーザ、フォトダイオード、フォトト
ランジスタ、光スイツチ素子等が挙げられる。
本発明においては紫外再硬化型のエポキシ樹脂。
アクリル樹脂、ウレタン、シリコン専の光硬化性透光性
樹脂を用いて光路形成全行なう。すなわち光路を形成す
る部分に硬化前の)し硬化性ぜダ光性樹脂を充填し、そ
の後、所望部分に例えば望外線等の光照射を行ない硬化
させ、この硬化部分全党路として用いる。
不要部分、すなわち未硬化部分は[91Jえばキシレン
等の有機溶剤により除去可能である。このように形成さ
れた光路は光照射の幅に応じて、その幅をかえることが
できる。
例えば基板上に受光素子2発光素子、光スイツチ素子を
実装した後、樹脂kf&子と同等の厚さまで充てんし、
乾燥した後、ガラスマスク金あて、選択的Cハ光路全形
成する部分にのみ紫外イ4が照射される様に、マスクを
合せた後、階外腺を照射し、然る後、溶剤にて、非硬化
部分全除去する。
又、チップ間の配置に誤差がある場合を考慮し、マスク
全使用せず、よりフレキシブルな露光+ 選択的に行っ
た後、浴剤にて、非硬化部分を除去してもよい。
また、光学索子を実装したのちに光路形成全行なうため
、光学素子と光路との接合状態が良好であり、接合部で
の光損失が低減さイする。すなわち未硬化の状態で光学
素子間に樹脂全充填するため、光学素子と樹脂との成金
は非常に良好となる。その後所要部分に光を照射し硬化
するため、硬化した樹脂も光学素子との接合状態が良好
となり1接合部における光1μ失が低蝕1される。
このような光硬化憔透明41 )It’dの充填は、基
板上全面に未11y!化樹脂層全形成するように行なっ
てもよいし、光路形成に必要な部分のみに行なってもよ
い。光路以外の部分の樹脂は有機溶剤等で除去すること
が可能である。
また光学索子の1↓L気的接1;光は、例えば基板上に
形成された配諌バ/J−ンにボンディングワイヤー全接
続することにより行なうことができる。
〔発明の効果〕
以上硯明したように本発明によれば、光学素子間を接続
する光路の形成が容易てあり、かつ)lIl、学素子と
光路との接合部における光損失を低減することのできる
光機能回路素子の斃造方法を得ることができる。
〔発明の実施1りU〕 本発明の実施例全以下に1祝明する。
第1図は本発明の詳細な説明するための)′C1幾能回
路素子の断面図である。
基板(1)上に例えばスクリーン印刷法、蒸着等の手段
により導体路(2)全形成する。必要ならば絶縁体層(
3)全形成し、この絶縁体!・治(3)上に2層目の導
体f!!?CI+41全形成する。
次に光学素子(5)全基板fxl上に配置し、ボンディ
ングワイヤ(6)により導体路(2)との′C・¥気的
接続を行なう。
次に、例えば紫外線硬化型のエポキシ樹脂等の未硬化の
光硬化性透明樹脂(7)ケ洗板(1)全面に塗布する。
この際所望の部分のみにイカ1脂全充填するために例え
ば基板(11工ツジ部に樹脂の流れ止め(8)を形成す
ることが好ましい。
次に、所望の、バ九パターン(9)ヲ有するガラスマス
ク(10)を介して基板(1)表1Miに例えば紫外線
等の元を照射する(第1図(a))。
このようにして4択的に光合1fi’を射することによ
り、光被照射部分のみの樹脂が硬化され、所望の光路(
1,1) を形成することができる。
未4J史北部分は例えはキシレン2アセトン、1゜1、
 、 ] ]llクリロルエタンの有1幾高剤により除
去する。流れ1]−め(8)は必要なくなるため、除去
してもかまわない(第1図(b))。
このように光照射によ、り直Iip形状2曲線形状等の
所定の光路パターン全形成することができる。
また光学素子と光路との髪今に、ツQllえば光ファイ
バーを用いた場合のように何ら機械的手段を用いること
がないため、製造が容易である。
f: fCF310□膜全用いた場合のように劇薬を用
いることがないため、非常に安全である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の夷/IOi例全説明するための光機能
回路素子の断面図。 1・・・基板、5・・・光学素子、7・・・光硬化性透
光性樹脂、11・・・光路。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 基板と、前記基板上に配置された複数個の光学素子と、
    前記光学素子間を結合する光路とを有する光1効能回路
    素子の製造方法において、前記基板上に、光学素子を配
    置した後、少なくとも前記光路を形成する部分に光硬化
    性透ツ0性樹脂を光項し、前記光路全形成する部分に光
    音照射することにより前記光硬化性透光性樹脂全硬化さ
    せ、1)1■記光路を形成する工程全具備したことを特
    徴とする光眠能回ト;6素子の製造方法。
JP58110841A 1983-06-22 1983-06-22 光機能回路素子の製造方法 Pending JPS604256A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03274781A (ja) * 1990-03-23 1991-12-05 Rohm Co Ltd レーザダイオード
WO1997008757A1 (en) * 1995-08-29 1997-03-06 The Furukawa Electric Co., Ltd. Waveguide type photodetector

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