JPS6042428B2 - ガスフロ−カウンタ - Google Patents

ガスフロ−カウンタ

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Publication number
JPS6042428B2
JPS6042428B2 JP7543279A JP7543279A JPS6042428B2 JP S6042428 B2 JPS6042428 B2 JP S6042428B2 JP 7543279 A JP7543279 A JP 7543279A JP 7543279 A JP7543279 A JP 7543279A JP S6042428 B2 JPS6042428 B2 JP S6042428B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
gas flow
thin film
container
flow counter
Prior art date
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Expired
Application number
JP7543279A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS56668A (en
Inventor
幹彦 松田
孝一 原嶋
俊明 武智
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Electric Co Ltd filed Critical Fuji Electric Co Ltd
Priority to JP7543279A priority Critical patent/JPS6042428B2/ja
Publication of JPS56668A publication Critical patent/JPS56668A/ja
Publication of JPS6042428B2 publication Critical patent/JPS6042428B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Electron Tubes For Measurement (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、放射線入射窓を有する金属製容器内に陽極
線を絶縁して張り、この容器内に計数用ガスを流通させ
、その容器本体を陰極としてこの容器と陽極線との間に
高電圧を印加し、入射窓を介して容器内に入射する放射
線を計数するようにしたガスフローカウンタに関する。
この種の従来のガスフローカウンタにおいては通常、
容器はアルミニウムより成り、また陽極線は金メッキが
施されたタングステン線より成り、この容器を陰極とし
てこの容器と陽極線との間に例えば1000〜2000
Vの高電圧が印加される。その場合容器内には計数用ガ
スが流通させられ、陰極用薄膜を張りわたした放射線入
射窓を介して容器内に入射した放射線が陽極線によつて
パルスの形で検出される。計数用ガスとしては、たとえ
ばPRガス(アルゴンガス+メタンガス)、Qガス(ヘ
リウムガス+イソプタンガス)、プロパンガス、メタン
ガスなどが使用されている。 第1図は、上記のような
構造及び作用を有する従来のガスフローカウンタの縦断
面図、第2図はその横断面図である。
このガスフローカウンタにおいて容器は金属製の環状枠
体4によつて枠構造が作られこの中には複数本の陽極線
1が絶縁して張られる。容器本体はアルミニウムより成
つていて、陰極として使用される。またその際には容器
はアース12によつて接地される。陽極線1は通常金メ
ッキが施こされたタングステン線より成り、この陽極線
1と容器との間には高電圧が印加される。容器上部では
陰極用薄膜2が取付板6によつて環状枠体4に取付けら
れて放射線入射窓を形成している。そして陽極線1と容
器本体との間は絶縁体5によつて絶縁されている。環状
枠体4の互いに対向する枠辺にはガス導入口7とガス導
出口8とが設けられておりこれらの口を経由してガスを
流しつつ放射線の測定が行われる。この時放射線の入射
窓を介して容器内に入射する放射線は、容器内で放電を
生じ、陽極線1から電気パルスの形で検出されるのであ
る。このようなガスフローカウンタの従来例について、
その陰極用薄膜2の構造を更に詳細に検討すると、この
陰極用薄膜(即ち放射線入射窓)2はポリエチレンテレ
フタレートの薄膜に金又はクロムを唯一層のみ蒸着によ
り付着させて作るのが一般的であつた。
また、遮光する必要上かなり厚く付着させなければなら
ない。しかしこのようにして作られた陰極用薄膜に関し
ては少なくとも以下の如き欠点が技術上の問題として指
摘されていた。先ず第1に薄膜に蒸着せしめる材料とし
て金を利用すると製作上の経費が非常に高くなり商業上
、不利となることである。
第2に蒸着材料としてクロムを使うとなるとこの材料は
材料費が安いという点では秀れているが、陰極用薄膜は
使用時にあつては外部から動的な応力を受ける上、クロ
ム層の蒸着時に生じた残留応力の影響によりクロム層,
に細かな亀列が入るため、電気伝導度が経時変化によつ
て低下し陰極として使用できなくなることてある。本発
明は上記のような問題を解決するためになされたもので
あり、その目的は比較的安価な費用!で製作することが
てき、しかも経時的に電気伝導度が低下することのない
陰極用薄膜を有するガスフローカウンタを提供すること
である。
本発明を添付の図面を参照して説明すると、第3図は本
発明のガスフローカウンタの一実施例に・使用される陰
極用薄膜2″を示す側方断面図である。
この実施例においては、有機材料て出来た薄膜9の表面
のうち容器内を流れる計数用ガスに接する側の面上に二
種類又はそれ以上の金属層を重ねて形成した陰極用薄膜
2″が使用されている。第3図に示された陰極用薄膜2
″では薄膜9はポリエチレンテレフタレートから作られ
ており、この薄膜9の計数用ガスに接する側の面上に先
ず第1金属層10を蒸着形成せしめ、次いでその上に第
2金属層11が重ねて蒸着形成されている。第1金属層
10を形成する金属としては展延性のある金属が用いら
れ一方第2金属層11を形成する金属としてはガスフロ
ーカウンタの電極材に・使用できる金属が用いられる。
本発明においては、第1金属10の金属としては、アル
ミニウム、亜鉛、スズのうちいずれか1つの金属が選択
され、一方第2金属11の金属としてはクロム、金、ニ
ッケルのうちいずれか1つの金属が選択される。アルミ
ニウムおよび亜鉛の展延率(伸び率)は約40〜50%
であり、スズの展延率は約50%である。このように展
延性のある金属を第1金属層として用いることにより、
応力が作用してもすぐに亀列が入ることがなくなる。こ
うして作られた陰極用薄膜2″には以下の様な利点があ
る。
(1)亜鉛、スズ、アルミニウムは材料費は安価である
が、これを唯一層蒸着して陰極用薄膜とし使用してもガ
スフローカウンタとしての性能を得ることはできない。
しかし、これらの金属で第1層を形成して遮光性を与え
、次いでその上に第2層として金を蒸着形成すると、金
属を格段に薄くする事が可能となり、総合的に材料費を
安価に抑えることが可能となる。(2)クロム、ニッケ
ルはそれを唯一層蒸着して陰極用薄膜とした場合前述の
通り電気伝導度等の経時変化がある。
そこでアルミニウム、亜鉛、スズで第1層を蒸着形成し
て遮光性を得、次いでその上にこれらクロム、ニッケル
を第二層として薄く蒸着形成すると材料費を安価にし、
かつ電気伝導度の経時変化も無くすことが可能となる。
しかして、この陰極用薄膜2″を第1図に示された従来
の陰極用薄膜2と同様にして容器の上部に取付けて使用
したところ、この陰極用薄膜2″においては金属蒸着層
に細かな亀列が入ることはなくなつた。
このような事は上記薄膜2″に三種類の他の金属層を蒸
着形成せしめた場合にも同様な結果が得られた。以上説
明して来たように本発明によれば、比較的製作費が安価
に出来る上金属層の剥離による経時的な性能低下を起さ
ない陰極用薄膜を有するガスフローカウンタを実現する
ことが出来、当該ガスフローカウンタの寿命を大きく引
延ばすことが可能となつたのである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来からのガスフローカウンタ、そして基本
的には本発明が適用されるガスフローカウンタの構造を
示す側方断面図である。 第2図は、第1図のガスフローカウンタを上方から示し
た断面図である。第3図は、本発明のガスフローカウン
タに使用される陰極用薄膜の一例を示す側方断面図てあ
る。符号の説明:1:陽極線材、2,2″:陰極用薄膜
、3:陰極板、4:環状枠体、5:絶縁物、7:ガス導
入口、8:ガス導出口、9:薄膜、10:第1金属層、
11:第2金属層、6:取付板、12:アース。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 陰極用薄膜が張りわたされた放射線入射窓を有する
    金属製容器内に陽極線を絶縁して張り、この容器内に計
    数用ガスを流通させ、前記容器の本体を陰極としてこの
    容器と前記陽極線との間に高電圧を印加し、前記放射線
    入射窓を介して前記容器内に入射する放射線を計数する
    ようにしたカウンタにおいて、前記入射窓に張りわたさ
    れた陰極用薄膜は、有機材料から成る薄膜の計数用ガス
    側の面上に二種類以上の金属層を重ね合わせて構成され
    ていることを特徴とするガスフローカウンタ。 2 特許請求の範囲第1項記載のガスフローカウンタに
    おいて、有機材料から成る薄膜の面上には第1金属層と
    して展延性のある金属より成る金属層が形成され、この
    第1金属層の面上には第2金属層として電極材に使用で
    きる金属より成る金属層が形成されることにより、二種
    類の金属層が重ね合わせられていることを特徴とするガ
    スフローカウンタ。 3 特許請求の範囲第2項記載のガスフローカウンタに
    おいて、第1金属層を形成する金属はアルミニウム、亜
    鉛、スズのうちいずれか一つの金属であり、第2金属層
    を形成する金属はクロム、金、ニッケルのうちいずれか
    一つの金層であることを特徴とするガスフローカウンタ
JP7543279A 1979-06-15 1979-06-15 ガスフロ−カウンタ Expired JPS6042428B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7543279A JPS6042428B2 (ja) 1979-06-15 1979-06-15 ガスフロ−カウンタ

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JP7543279A JPS6042428B2 (ja) 1979-06-15 1979-06-15 ガスフロ−カウンタ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS56668A JPS56668A (en) 1981-01-07
JPS6042428B2 true JPS6042428B2 (ja) 1985-09-21

Family

ID=13576047

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6166356A (ja) * 1984-09-07 1986-04-05 Riken Keiki Kk 放射線検知装置用電離箱
JPS61126184U (ja) * 1985-01-28 1986-08-08
US8399850B2 (en) * 2010-08-09 2013-03-19 General Electric Company Systems, methods, and apparatus for anode and cathode electrical separation in detectors

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JPS56668A (en) 1981-01-07

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