JPS6039530A - 圧電汚染検出器 - Google Patents

圧電汚染検出器

Info

Publication number
JPS6039530A
JPS6039530A JP59140436A JP14043684A JPS6039530A JP S6039530 A JPS6039530 A JP S6039530A JP 59140436 A JP59140436 A JP 59140436A JP 14043684 A JP14043684 A JP 14043684A JP S6039530 A JPS6039530 A JP S6039530A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
piezoelectric
temperature sensor
detector according
contamination
cooling
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59140436A
Other languages
English (en)
Inventor
ヨルグ・セクラー
アルフオンス・ズムステーク
ハンス・エリツク・ヘインターマン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Centre Suisse dElectronique et Microtechnique SA CSEM
Original Assignee
Laboratoire Suisse de Recherches Horlogeres
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Laboratoire Suisse de Recherches Horlogeres filed Critical Laboratoire Suisse de Recherches Horlogeres
Publication of JPS6039530A publication Critical patent/JPS6039530A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B7/00—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques
    • G01B7/02—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B7/06—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness
    • G01B7/063—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness using piezoelectric resonators
    • G01B7/066—Measuring arrangements characterised by the use of electric or magnetic techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness using piezoelectric resonators for measuring thickness of coating
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N2291/00—Indexing codes associated with group G01N29/00
    • G01N2291/02—Indexing codes associated with the analysed material
    • G01N2291/028—Material parameters
    • G01N2291/02881—Temperature

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Radiation Pyrometers (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials Using Thermal Means (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Testing Or Calibration Of Command Recording Devices (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Geophysics And Detection Of Objects (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明ｒよ、圧電振動子の表面に吸着された、ないしは
凝縮したガス状、液状または固体の物質の質量または膜
厚を測定するための圧電汚染検出器に関する。
ロケット、衛星、その他の飛行体のポート°では、使用
される構造材料、その皮膜および潤滑剤のガス放出およ
び蒸発による重要部材の汚染を厳密な材料選択によって
制限し、かつ重要部材の残存する汚染を制御しなければ
ならない。
特に危険に・ノ嬶される部材は光学素子、例えば赤外線
光学素子、太陽エネルギー捕集器、または機械部品、例
えば弁、または特定の熱光学的挙動（放射能および反射
能）を得るために用いられる熱的塗料′または熱的皮膜
が設りられた構造である。
低温冷却された光学素子によびセンサの使用増加ととも
に、そして金属材料に代わる有機成分の使用によって問
題性が先鋭化し、こルによって連続的なボード汚染監視
が必要となった。
（従来技術） 大抵の場合に使用さｔ’Ｌる測定方法の１つは、ガス放
出源が向き合っている結晶表面に吸着ないしは凝縮され
た物質の刊加的なλ黛による圧電振ｒｔｂ子の振動数の
変化に基づいている。
従来の形式の検出器では測定水晶訃よび、ｉｊ４水晶の
２つの振動水晶が使用される。これらの水晶は晋通は上
下に、しかも測定水晶が基準水晶を覆って基準水晶の汚
染を阻止するように配置さｆｌ−る。
種々の物質の吸着ないしは凝縮を選択的（（ｄｉ１１定
するためには測定結晶の温度ｆ（ましい範囲内で沿１１
岬可能に変更できなけれはならない。測定技術上の理由
から基準水晶は同じ温ｅ老受けなけｉＬばならない。そ
れというのも振動数は質量によるのみならず、離数温度
センナを用いて大抵は２つの結晶の間で測定される結晶
温度によっても左右されるからである。温度制御は組込
まれた熱電気的モジュールによって、外部から送られ、
冷却もしくは加熱されるガスまたは液体を用いての熱交
換によって、または他の適切な方法によって行なうこと
ができる。
コンパクトな構成にもかかわらず２つの水晶の間に著し
い温度の相違が生じ、この温度差が制御率ｏＪの、した
がって補正不可の測定誤差をもたらすことが種々の著者
によって記載されている。更に２つの水晶の間に取付け
られた離散温度センサによって測定結晶の真の温度では
なく、およそ水晶ホルダーの温度が測定されることが確
認された。
更にこのような検出器の配置では基準水晶の汚染を完全
には排除し得ない。
この種の検出器の概念では基準振動水晶は第一に温度基
準として用いられる、それというのも理想的な検出器は
温度係数のない測定振動水晶を備えなければならないか
らである。予定される検出器Ｖこ好適な、かかる石英結
晶は存在しないので、第２の理想的には同一の振動水晶
が温度基準として利用される。しかし結晶カット角度の
不可避な裏作誤差が実地では２つの振動水晶の間に異な
る温度係数をもたらし、これが測定値の誤差を招く。
クラス（Ｄ、ＡＪａｌｌａｃｅ　）によッテガス放出検
出器が提案された（“ジャーナル・オプ・スペースク・
う７　）　（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　８ｐａｃｅｃｒａ
ｆｔ　）　’″、第１７巻、第２号（１９８０年）、１
５３頁。〕。該検出器では二重−石英結晶（“ｄｏｕｂ
ｌｅｔ　ｃｒｙｓｔａｌ　”　）の使用によって測定−
および基準結晶の間の温度差を縮めることができる。し
かしこの構成では、異なる測定振動と基準振動との間で
起シ得る結合によって惹き起される共鳴ゾーン間の誘導
妨害が欠点である。この結合は振動数不安定と干渉現象
をもたらす。
吸着され、かつ凝縮された物質を再蒸発させるためには
、一般には測定結晶を加熱する。前記の概念の検出器で
はそのために付加的な離数加熱索子または一定の構成の
前記の＊ａ温度センサが使用されている。伝熱が主とし
て放射交換によって間接的に行なわれるので、熱効率が
小さく、そのために電気出力の要求が重要になる。
（発明が解決しようとする問題点） 本発明の課題は、圧電汚染検出器における不精確な温度
検出および温度制御という前記の欠点を回避し得る検出
器を見い出すことである。
ｃ問題点を解決するための手段） 前記のａ題會解決するための本発明の手段は、少なくと
も圧電測定振動子に少なくとも１つの統合された薄膜温
度センサが設けられていることである。
（実施態様） 本発明の実施態様によれば、統合された温度センナが結
晶を直接加熱するためにも使用できるように構成される
。これによって熱効率が改善され、かつ消費される加熱
電力が減少せしめられる。更に本発明による実施態様で
ある、抵抗を増加する幾何形状、例えばメアンダ形に似
た薄膜構造が有利である。更に本発明に↓る実施態様に
よれば少なくとも１つの電極が温度センサおよび／また
は加熱素子として構成されている。
測定振動子および基準振動子としてはすべての好適な材
料およびカットを使用することができるが、経済的な製
造方法および使用拡大からもＡＴカットまたはＢＴカッ
トの水晶共振子が優れている。
本発明の実施態様によれば統合された薄膜ぬ度センサと
しては抵抗センナ、熱電対、半導体センナを利用するこ
とができるが、金属性薄膜を使用するのが優れている。
これらの薄膜は電極と同様に、物理的、化学的および電
気化学的なガス、液体または固体反応によって設けるこ
とができ、有利な方法は特にカソードスパッタリング、
蒸着または１！気気化学的蓋である。
本発明による圧電汚染検出器は唯一の圧電振動子として
測定振動子を備えた１結晶検出器として、測定振動子と
基準振動子を備えた２結晶検出器とし℃並びに特別な目
的に合わせた多結晶検出器として製作することができる
。更に種々の構成が可能である。
（実施例］ 第１図には測定水晶１および基準水晶２が示されておシ
、これらは冷却／加熱室４のベースプレート３に取り付
けられている。冷却／加熱室４は検出器ケーシング５に
よって包囲されている。基準水晶２は汚染防止板として
働く分離ａ６によって測定水晶１から、かつ熱を通す光
学窓７によって汚染僚から分離されている。汚染防止板
が基準水晶を汚染から保循するのに十分であれば、光学
窓７を検出器ケーシングの開口にも設けてよい。
測定水晶と基準水晶の視角は冷却／加熱室４内および検
出器ケーシング５内の絞シ孔８，９によって決めら７Ｌ
る。冷却／加熱室４は熱電気素子１゜によって作業温度
にもたらされる。取付はフランジ１１が冷却時の熱排除
導体として４・４成されている。水晶発振器−エレクト
ロニクス１２が取付けフランジ１１０ドの熱的に分離可
能なケーシング１３内で２つの振動水晶の近くに組込ま
れている。
電気信号が通過プラグ１４　を介して測定系に送られる
。
第２図には振動水晶の１実施例が示されている。
この構成では電極１５に加えて統合されたメアンダ形状
の温度センサ１６が設けられている。
第３図には冷却／加熱室４内部の振動水晶の構成が示さ
れている。２つの水晶はそれぞれ電気的に絶縁された引
込み線１７　を介してベースプレート３に取付けられて
おル、水晶自体は弾性的な懸吊部材１８ｉ介して引込み
線１７に固定されている。
冷却／加熱室４と検出器ケーシング５との間のあシ倚る
温度差によって惹き起される熱損失を小さく保つために
は、適切な面１９に当該温度範囲内で小さな熱光学的放
射および高い反射を持つ熱的塗料または燕的被Ｉを設り
るようにする。同様の手段は、直接的な熱源、例えば太
陽に（暴される面にも適用される。
低い出力需要を達成するためには冷却／加熱室４と２つ
の振動水晶１および２との間の伝熱をできる限９高くす
べきなので、冷却／加熱室４の内面２０　を熱的塗料ま
たは熱的被覆ｔ−施して、内面２０の放射能と吸収能と
ができる限り黒体の値に近いようにしである。
本発明による検出器および個々の部品は、宇宙で使用さ
れる他にも通常用途の検出器、例えば被覆技術のための
成長度モニタ、環境保護のためのアエロゾル−粒子分析
器および早期地震善報のための地涛検知器の改善に使用
することができる。
Ｃ発明の効果） 冒頭に記載の圧電汚染検出器を本発明のように構成した
ことによって、結晶温度を精確に検知し、それによつ゛
Ｃ振動数に対する温度の影響を電子的または数量的に補
正することが可能になった。したがって原則的には基準
振動子を省略する可能性も生じる。しかし基準振動子の
省略は絶対振動数測定を必要とし、この要求は大抵は実
験室条件下での＋満たされるにすぎない。その後の信号
処理の簡単さの点で基準振動子を省略できない場合には
、本発明による温度検出によって測定振動子と基準振動
子との間のカット角度の相違および温度差の作用を補正
する可能性が与えられる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明による圧電汚染検出器の１実施例の断面
図、第２図は振動水晶センサの１実施例の平面図、第３
図は振動水晶の構成を示した図である。 １・、・測定水晶　、２・・・基準水晶　、３・・、ベ
ースプレート、　４・・・冷却／加熱室、５・・・　検
出器ケーシング、　６・・・　分離壁　、７・・・光学
窓　、８，９・・・絞シ孔　、１０・・・熱電気素子　
、１１・・・取付けフランジ、１２・・・水晶発振器エ
レクトロニクス　、１３・・・ケーシング　、１４・・
・通過プラグ　、１５・・・電　極　、１６・・・温度
センサ　、１７・・・引込み線　、１８・・・懸吊部材
　、１９・・・面　２０・・・面　。 ほか１名 第１図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 ｒｌｌ　少なくとも圧電測定振動子に少なくとも１つの
    統合された薄膜温度センサが設けられていることを特徴
    とする、圧電汚染検出器。 １２１　少なくとも１つの統合された薄膜温度センサが
    抵抗素子から成っている、特許請求の範囲第１項記載の
    圧電汚染検出器。 （３）　少なくとも１つの統合された薄膜温度センサが
    半導体材料から成る。特許請求の範囲第１項記載の圧電
    汚染検出器。 ＋４１　少なくとも１つの統合された薄膜温度センナが
    熱電対である。特許請求の範囲第１項記載の圧電汚染検
    出器。 （５）少なくとも１つの電極が同様に薄膜抵抗温度セン
    サとして構成されてｈる、特許請求の範囲第１項記載の
    圧電汚染検出器。 （６１ｆｆ１ｌ定振動子を加熱するためにはｎｌｌｌｌ
    励振動子別個に抵抗ヒータが組込まれている、特許請求
    の範囲第１項から第５項までのい）２れか１つの項に記
    載の圧電汚染検出器。 Ｖ）測定振動子全加熱するために該ｆｆ１Ｑ定振動子の
    表面に薄膜温度センナとは別個の統合された抵抗ヒータ
    が取付けられている、特許請求の範囲第１項から第５項
    までのいずれか１つの項に記載の圧電汚染検出器。 （８）薄膜温度センサが同様に測定振動子を加熱するた
    めの加熱素子として構成さ１ｔている、特許請求の範囲
    第１項から第５項までのいｒれか１つの項に記載の圧電
    汚染検出器。 ＋９１　測定振動子の成極が同様に薄膜温度センサとし
    て並びに測定振動子を加熱するための加熱素子として構
    成されている、特許請求の範囲第１項記載の圧は汚染検
    出器。 （１０）　統合された薄膜温度センサおよび加熱素子が
    抵抗増加性の幾何形状、特にメアンダ形状またはメアン
    ダ形に類似した構造から成っている、特許請求の範囲第
    ２項、第５項から第９項までのいずれか１つの項に記載
    の圧電汚染検出器。 （１１）測定振動子１に加えて、この測定振動子１とは
    汚染防止板６によって分離されていて、しかも光学窓７
    によって汚染からは保護されているが、熱放射からは保
    護されていない基準振動子２が冷却／加熱室４の中に組
    込まれている、特許請求の範囲第１項から第１０項まで
    のいずれか１つの項に記載の圧電汚染検出器。 （１２）基準振動子２に統合された薄膜温度センナが少
    なくとも１つ設けられているかまたは１つも設けられて
    いない、特許請求の範囲第１１項記載の圧電汚染検出器
    。 （１３）光学窓７が冷却／加熱室４に取付けられている
    。特許請求の範囲第１２項記載の圧電汚染検出器。 （１４）光学、δ７が検出器ケーシング５に取付けられ
    ている、特許請求の範囲ｍ１２項記載の圧電汚染検出器
    。 （１５）冷却／加熱室４の冷却／加熱が熱電気素子によ
    って行なわれるようになっている、特許請求の範囲一１
    １１項または第１２Ｊ４記載の圧電汚染検出器。 （１６）冷却／加熱室４の外壁から検出器ケーシング５
    への熱放出を減少せしめるためには冷却／加熱室４の外
    面１９と検出器ケーシング５の内面１９に少なくとも部
    分的に、僅かな熱光学的放射および高い反射を持つ熱的
    塗料または熱的被覆が設けられている、特許請求の範囲
    第１項または甫１２項記載の圧電汚染穐１軸１・５・ミ
    出（，１シ。 （１７］冷却／加熱室４と２つの圧電振動子である測定
    振動子１と基準振動子２との間の伝熱性を有利にするた
    めには冷却／加熱室４の内面２０に少なくとも部分的に
    、熱的塗料または熱的被覆が設けられ′Ｃおり、内面２
    ０の熱光学的放射能と吸収能とができる限シ黒体の値に
    近くなっている、特許請求の範囲第１２項記載の圧電汚
    染検出器。 （１８）電極１５と統合された薄Ｂｇ、温度センサと加
    熱素子とが物理的、化学的および電気化学的なガス、液
    体または固体反応によって、１１♀にカソードスパッタ
    リング、蒸着または電気化学的方法によって設けられて
    いる、特許請求の範囲第１項から第１７項までのいずれ
    か１つの項に記載の圧電汚染検出器。 （１９）％に宇宙技術において真空中での物質のガス放
    出による沈着物を測定するために使用される、特許請求
    の範囲第１項から第１８項までのいずれか１つの項に記
    載の圧電汚染検出器。
JP59140436A 1983-07-13 1984-07-06 圧電汚染検出器 Pending JPS6039530A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH3826/83A CH662421A5 (de) 1983-07-13 1983-07-13 Piezoelektrischer kontaminationsdetektor.
CH3826/83-3 1983-07-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6039530A true JPS6039530A (ja) 1985-03-01

Family

ID=4264296

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59140436A Pending JPS6039530A (ja) 1983-07-13 1984-07-06 圧電汚染検出器

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4561286A (ja)
JP (1) JPS6039530A (ja)
CH (1) CH662421A5 (ja)
DE (1) DE3422741A1 (ja)
FR (1) FR2549219B1 (ja)
GB (1) GB2149109B (ja)
NL (1) NL191803C (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61231419A (ja) * 1985-04-08 1986-10-15 Nok Corp 有機物質の微量測定法
JPS6216455U (ja) * 1985-07-12 1987-01-31
JPH0665978B2 (ja) * 1986-10-03 1994-08-24 ヒュ−ズ・エアクラフト・カンパニ− 汚染分析装置
JP2005172831A (ja) * 2003-12-10 2005-06-30 Robert Bosch Gmbh 排気ガス内の粒子の検出装置
JP2008082984A (ja) * 2006-09-28 2008-04-10 Toppan Printing Co Ltd 球状弾性表面波素子及びその駆動方法、温度計測装置
JP2010258601A (ja) * 2009-04-22 2010-11-11 Fujitsu Ltd 温度補償型水晶発振器、温度補償型水晶発振器を実装したプリント基板、及び温度補償型水晶発振器を搭載した電子機器
JP2012124549A (ja) * 2010-12-06 2012-06-28 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 温度制御型水晶振動子及び水晶発振器
JP2013076644A (ja) * 2011-09-30 2013-04-25 Kyocera Crystal Device Corp 微少質量測定用センサ素子
WO2018087957A1 (ja) * 2016-11-14 2018-05-17 日本電波工業株式会社 物質検出システム及び物質検出方法

Families Citing this family (96)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1227357A (en) * 1985-02-12 1987-09-29 Minister Of National Defence Method and apparatus for detecting presence and concentration of vapours in gaseous fluids
DE3724966C3 (de) * 1986-07-29 1996-03-21 Sharp Kk Sensor
DE3644821A1 (de) * 1986-12-31 1988-11-17 Gyulai Maria Dobosne Anordnung und verfahren fuer den einbau und den austausch von sensoren in geraeten aller art
US4801837A (en) * 1987-01-09 1989-01-31 Tello Adams Piezoelectric load measurement apparatus and circuits
US4905701A (en) * 1988-06-15 1990-03-06 National Research Development Corporation Apparatus and method for detecting small changes in attached mass of piezoelectric devices used as sensors
GB8828277D0 (en) * 1988-12-03 1989-01-05 Glasgow College Enterprises Lt Dust monitors & dust monitoring
GB8922601D0 (en) * 1989-10-06 1989-11-22 Rolls Royce Plc Thermal piezoelectric microbalance and method of using the same
FR2656925B1 (fr) * 1990-01-08 1992-05-15 Eg G Capteur d'humidite et installation de mesure comportant une pluralite de tels capteurs.
US5112642A (en) * 1990-03-30 1992-05-12 Leybold Inficon, Inc. Measuring and controlling deposition on a piezoelectric monitor crystal
US5004914A (en) * 1990-04-20 1991-04-02 Hughes Aircraft Company Fiber-optic interferometric chemical sensor
JPH08505466A (ja) * 1990-08-24 1996-06-11 ヴセソジュズニー ナウチノ・イスレドヴァテルスキー インスティチュート プリロドニハ ガゾフ （ヴニイガズ） 媒体の物理的状態パラメーター決定のための方法及びその方法を実施するための装置
US5542298A (en) * 1990-08-24 1996-08-06 Sarvazian; Armen P. Method for determining physical stage parameters of a medium and an apparatus for carrying out same
US5201215A (en) * 1991-10-17 1993-04-13 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Method for simultaneous measurement of mass loading and fluid property changes using a quartz crystal microbalance
DE4218926A1 (de) * 1992-06-10 1993-12-16 Asea Brown Boveri Vorrichtung zur Messung einer Gasdichte
AU4657193A (en) * 1992-07-02 1994-01-31 Purafil, Inc. Corrosion profiling and diagnostic system
AT399052B (de) * 1992-07-21 1995-03-27 Avl Verbrennungskraft Messtech Sensoreinrichtung zur bestimmung der masse eines flüssigkeitsfilmes
JP3094190B2 (ja) * 1993-03-17 2000-10-03 セイコーインスツルメンツ株式会社 化学計測装置
AU6770394A (en) * 1993-05-25 1994-12-20 Rosemount Inc. Organic chemical sensor
JP3239542B2 (ja) * 1993-06-21 2001-12-17 株式会社村田製作所 振動ジャイロの調整装置
US5476002A (en) * 1993-07-22 1995-12-19 Femtometrics, Inc. High sensitivity real-time NVR monitor
DE4332944A1 (de) * 1993-09-28 1995-03-30 Bosch Gmbh Robert Sensor mit einer Quarz-Stimmgabel
DE4424422C2 (de) * 1994-07-12 1996-08-01 Lies Hans Dieter Prof Dr Vorrichtung zum Bestimmen der Konzentration einer Flüssigkeitsmischung
DE9416564U1 (de) * 1994-10-14 1996-02-15 Pector Gmbh Vorrichtung zur Bestimmung der Zusammensetzung von Gasmischungen
SE504199C2 (sv) * 1995-05-04 1996-12-02 Bengt Kasemo Anordning vid mätning av resonansfrekvens och/eller dissipationsfaktor hos en piezoelektrisk kristallmikrovåg
GB9523812D0 (en) * 1995-11-21 1996-01-24 Sun Electric Uk Ltd Method and apparatus for analysis of particulate content of gases
US5852229A (en) * 1996-05-29 1998-12-22 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Piezoelectric resonator chemical sensing device
US5918258A (en) 1996-07-11 1999-06-29 Bowers; William D. High-sensitivity instrument to measure NVR in fluids
US6020047A (en) * 1996-09-04 2000-02-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Polymer films having a printed self-assembling monolayer
JP4278181B2 (ja) 1996-11-01 2009-06-10 ビーピー オイル インターナショナル リミテッド 検査装置と使用方法
RU2094804C1 (ru) * 1997-01-16 1997-10-27 Виталий Васильевич Баранов Химический сенсор для определения пропанона-2 в воздухе, устройство для определения пропанона-2 в выдыхаемом воздухе и способ диагностики гиперкетонемии
US6180288B1 (en) 1997-03-21 2001-01-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Gel sensors and method of use thereof
DE69841480D1 (de) * 1997-12-02 2010-03-18 Allan L Smith Sensor zur messung von mass und wärmefluss
US6060256A (en) 1997-12-16 2000-05-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Optical diffraction biosensor
US6167747B1 (en) 1998-08-14 2001-01-02 Tokheim Corporation Apparatus for detecting hydrocarbon using crystal oscillators within fuel dispensers
US6125687A (en) * 1998-08-20 2000-10-03 International Business Machines Corporation Apparatus for measuring outgassing of volatile materials from an object
US6221579B1 (en) 1998-12-11 2001-04-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Patterned binding of functionalized microspheres for optical diffraction-based biosensors
US6579673B2 (en) 1998-12-17 2003-06-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Patterned deposition of antibody binding protein for optical diffraction-based biosensors
DE19914109C2 (de) 1999-03-23 2001-10-11 Atotech Deutschland Gmbh Halterung für einen Schwingquarz
US6250140B1 (en) 1999-06-22 2001-06-26 Nalco Chemical Company Method for measuring the rate of a fouling reaction induced by heat transfer using a piezoelectric microbalance
US6223789B1 (en) * 1999-06-24 2001-05-01 Tokheim Corporation Regulation of vapor pump valve
ATE356441T1 (de) * 1999-06-29 2007-03-15 Siemens Ag Piezoaktor mit einer elektrisch leitenden mehrschichtfolie
AU1456801A (en) * 1999-11-01 2001-05-14 Johns Hopkins University, The Self-monitoring controller for quartz crystal microbalance sensors
US7167615B1 (en) 1999-11-05 2007-01-23 Board Of Regents, The University Of Texas System Resonant waveguide-grating filters and sensors and methods for making and using same
US6399295B1 (en) 1999-12-17 2002-06-04 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Use of wicking agent to eliminate wash steps for optical diffraction-based biosensors
AU2001283977B2 (en) * 2000-08-08 2005-03-10 Inverness Medical Switzerland Gmbh Quartz crystal microbalance
US6448697B1 (en) * 2000-12-28 2002-09-10 Cts Corporation Piezoelectric device having increased mechanical compliance
US6668618B2 (en) 2001-04-23 2003-12-30 Agilent Technologies, Inc. Systems and methods of monitoring thin film deposition
US7098041B2 (en) 2001-12-11 2006-08-29 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Methods to view and analyze the results from diffraction-based diagnostics
US7102752B2 (en) 2001-12-11 2006-09-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Systems to view and analyze the results from diffraction-based diagnostics
US8367013B2 (en) 2001-12-24 2013-02-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Reading device, method, and system for conducting lateral flow assays
US20030119203A1 (en) 2001-12-24 2003-06-26 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Lateral flow assay devices and methods for conducting assays
US7771922B2 (en) 2002-05-03 2010-08-10 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Biomolecule diagnostic device
US7223534B2 (en) 2002-05-03 2007-05-29 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Diffraction-based diagnostic devices
US7223368B2 (en) 2002-05-03 2007-05-29 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Diffraction-based diagnostic devices
US7485453B2 (en) 2002-05-03 2009-02-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Diffraction-based diagnostic devices
US7118855B2 (en) * 2002-05-03 2006-10-10 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Diffraction-based diagnostic devices
US7214530B2 (en) 2002-05-03 2007-05-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Biomolecule diagnostic devices and method for producing biomolecule diagnostic devices
US7091049B2 (en) 2002-06-26 2006-08-15 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Enhanced diffraction-based biosensor devices
US7432105B2 (en) 2002-08-27 2008-10-07 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Self-calibration system for a magnetic binding assay
US7285424B2 (en) 2002-08-27 2007-10-23 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Membrane-based assay devices
US7314763B2 (en) 2002-08-27 2008-01-01 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Fluidics-based assay devices
US7169550B2 (en) * 2002-09-26 2007-01-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Diffraction-based diagnostic devices
US6922118B2 (en) * 2002-11-01 2005-07-26 Hrl Laboratories, Llc Micro electrical mechanical system (MEMS) tuning using focused ion beams
EP1418424A1 (en) * 2002-11-05 2004-05-12 Hok Instrument AB Gas content microsensor
US7781172B2 (en) 2003-11-21 2010-08-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for extending the dynamic detection range of assay devices
US20040141541A1 (en) * 2002-12-02 2004-07-22 John Williams MEMS-based thermogravimetric analyzer
US7247500B2 (en) 2002-12-19 2007-07-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Reduction of the hook effect in membrane-based assay devices
US7030982B1 (en) 2002-12-31 2006-04-18 J.A. Woollam Co., Inc. Combined use of oscillating means and ellipsometry to determine uncorrelated effective thickness and optical constants of accumulated material
US7209234B2 (en) * 2002-12-31 2007-04-24 J.A. Woollam Co., Inc. Combined use of oscillating means and ellipsometry to determine uncorrelated effective thickness and optical constants of material deposited from a fluid
US7091427B2 (en) * 2003-01-28 2006-08-15 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Apparatus using resonance of a cavity to determine mass of a load
US7851209B2 (en) 2003-04-03 2010-12-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Reduction of the hook effect in assay devices
US20040197819A1 (en) 2003-04-03 2004-10-07 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Assay devices that utilize hollow particles
US6820485B2 (en) * 2003-04-21 2004-11-23 Tangidyne Corporation Method and apparatus for measuring film thickness and film thickness growth
US7275436B2 (en) * 2003-04-21 2007-10-02 Tangidyne Corporation Method and apparatus for measuring film thickness and film thickness growth
JP4329492B2 (ja) * 2003-10-28 2009-09-09 セイコーエプソン株式会社 圧電振動片と圧電デバイスおよびこれらの製造方法、ならびに圧電デバイスを利用した携帯電話装置および圧電デバイスを利用した電子機器
US7943395B2 (en) 2003-11-21 2011-05-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Extension of the dynamic detection range of assay devices
US7713748B2 (en) 2003-11-21 2010-05-11 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of reducing the sensitivity of assay devices
US20050112703A1 (en) 2003-11-21 2005-05-26 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Membrane-based lateral flow assay devices that utilize phosphorescent detection
US7943089B2 (en) 2003-12-19 2011-05-17 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Laminated assay devices
US7521226B2 (en) 2004-06-30 2009-04-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. One-step enzymatic and amine detection technique
ITVR20040149A1 (it) * 2004-09-22 2004-12-22 Sanitaria Scaligera Spa Sistema di monitoraggio rapido del gruppo sanguigno e per la rivelazione di reazioni immunoematologiche
EP1891405A4 (en) * 2005-06-17 2014-01-22 Tangidyne Corp METHOD AND DEVICE FOR MEASURING THE LAYER THICKNESS AND THE GROWTH OF THE LAYER THICKNESS
US20080236481A1 (en) * 2007-03-29 2008-10-02 Intevac Corporation Method of and apparatus for monitoring mass flow rate of lubricant vapor forming lubricant coatings of magnetic disks
US20090047417A1 (en) * 2007-03-30 2009-02-19 Barnes Michael S Method and system for vapor phase application of lubricant in disk media manufacturing process
US8109161B2 (en) * 2008-02-27 2012-02-07 Baker Hughes Incorporated Methods and apparatus for monitoring deposit formation in gas systems
DE102008050266A1 (de) * 2008-10-07 2010-04-08 Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg Vorrichtung zur Bestimmung und/oder Überwachung einer Prozessgröße eines Mediums
WO2014003726A1 (en) * 2012-06-26 2014-01-03 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Geological seismic sensing apparatus temperature control
CN102818815B (zh) * 2012-08-16 2014-06-18 安徽万瑞冷电科技有限公司 热真空释气试验装置
US8945371B2 (en) 2013-03-14 2015-02-03 Ecolab Usa Inc. Device and methods of using a piezoelectric microbalance sensor
US9128010B2 (en) * 2013-03-14 2015-09-08 Ecolab Usa Inc. Device and methods of using a piezoelectric microbalance sensor
US9971341B2 (en) 2014-01-06 2018-05-15 Globalfoundries Inc. Crystal oscillator and the use thereof in semiconductor fabrication
US10048059B1 (en) 2015-08-21 2018-08-14 J. A. Woollam Co., Inc Combined use of oscillating means and ellipsometry to determine uncorrelated effective thickness and optical constants of material deposited at or etched from a working electrode that preferrably comprises non-normal oriented nanofibers
JP6502528B2 (ja) * 2015-09-22 2019-04-17 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ 発振水晶のための拡散バリア、堆積速度を測定するための測定アセンブリ及びその方法
CN106370570B (zh) * 2016-08-25 2020-07-10 北京小米移动软件有限公司 颗粒物测量值的校准方法及装置
IT201900006274A1 (it) * 2019-04-23 2020-10-23 Nuovo Pignone Tecnologie Srl Disposizione con sensore e metodo per misurare sporcamento o erosione o corrosione, nonché macchina che monitorizza sporcamento o erosione o corrosione
FR3142006A1 (fr) * 2022-11-10 2024-05-17 Centre National d'Études Spatiales Appareil pour mesurer un taux d’humidité dans l’air

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5360293A (en) * 1976-11-10 1978-05-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Frost detector
JPS5611340A (en) * 1979-07-04 1981-02-04 Graviner Ltd Detector for particles in gaseous medium
JPS5649299A (en) * 1980-04-24 1981-05-02 Iwasaki Kosei Extrusion type note

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1094677A (en) * 1961-05-15 1967-12-13 Exxon Research Engineering Co Integral heater piezoelectric devices
US3329004A (en) * 1963-09-23 1967-07-04 Exxon Research Engineering Co Coated piezoelectric analyzer
GB1062059A (en) * 1964-07-08 1967-03-15 Ultra Electronics Ltd Quartz crystal temperature control
US3478573A (en) * 1965-07-29 1969-11-18 Exxon Research Engineering Co Integral heater piezoelectric devices
DE1548215A1 (de) * 1966-05-04 1969-05-14 Feinpruef Gmbh Verfahren und Schaltungsanordnung zur Messung der relativen Abweichungen von Laengen bezogen auf eine Sollaenge
CH440731A (de) * 1966-11-24 1967-07-31 Balzers Patent Beteilig Ag Verfahren und Anordnung zur Messung der Dicke von Aufdampfschichten
US3879992A (en) * 1970-05-12 1975-04-29 California Inst Of Techn Multiple crystal oscillator measuring apparatus
US3856466A (en) * 1971-01-04 1974-12-24 Exxon Research Engineering Co Fluid impurity analyzer
US3715563A (en) * 1971-04-19 1973-02-06 Frequency Electronics Inc Contact heaters for quartz crystals in evacuated enclosures
US3886785A (en) * 1971-11-15 1975-06-03 Ford Motor Co Gas sensor and method of manufacture
US3818254A (en) * 1973-01-18 1974-06-18 Quality Corp Thermally compensated crystal unit
US3828607A (en) * 1973-01-24 1974-08-13 Du Pont Phase lock detection and control for piezoelectric fluid analyzers
US3953844A (en) * 1973-04-11 1976-04-27 Celesco Industries Inc. Incipient fire detector
HU167641B (ja) * 1974-02-07 1975-11-28
FR2298099A1 (fr) * 1975-01-15 1976-08-13 Aquitaine Petrole Dispositif pour la mesure de la masse des particules d'un aerosol par unite de volume
US4091303A (en) * 1975-08-21 1978-05-23 Chiba Tadataka Piezoelectric quartz vibrator with heating electrode means
JPS55113904A (en) * 1979-02-26 1980-09-02 Hitachi Ltd Method of zero point temperature compensation for strain-electric signal transducer
DE2916427C2 (de) * 1979-04-23 1987-02-12 Hottinger Baldwin Messtechnik Gmbh, 6100 Darmstadt Meßumformer mit einer Feder und einer darauf applizierten Dehnungsmeßstreifenanordnung
US4259606A (en) * 1979-05-25 1981-03-31 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Fast warm-up oven controlled piezoelectric oscillator
DE3007747A1 (de) * 1980-02-29 1981-09-24 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Sensor fuer eine physikalische groesse
FI60079C (fi) * 1980-02-29 1981-11-10 Vaisala Oy Foerfarande och anordning foer angivande av daggpunkt eller liknande
GB2076151B (en) * 1980-04-18 1984-05-02 Secr Social Service Brit Method and apparatus for detecting the presence of a contaminant in a gaseous carrier
CH644722A5 (de) * 1980-07-21 1984-08-15 Balzers Hochvakuum Schwingquarzmesskopf.

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5360293A (en) * 1976-11-10 1978-05-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd Frost detector
JPS5611340A (en) * 1979-07-04 1981-02-04 Graviner Ltd Detector for particles in gaseous medium
JPS5649299A (en) * 1980-04-24 1981-05-02 Iwasaki Kosei Extrusion type note

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61231419A (ja) * 1985-04-08 1986-10-15 Nok Corp 有機物質の微量測定法
JPS6216455U (ja) * 1985-07-12 1987-01-31
JPH0446202Y2 (ja) * 1985-07-12 1992-10-29
JPH0665978B2 (ja) * 1986-10-03 1994-08-24 ヒュ−ズ・エアクラフト・カンパニ− 汚染分析装置
JP2005172831A (ja) * 2003-12-10 2005-06-30 Robert Bosch Gmbh 排気ガス内の粒子の検出装置
JP2008082984A (ja) * 2006-09-28 2008-04-10 Toppan Printing Co Ltd 球状弾性表面波素子及びその駆動方法、温度計測装置
JP2010258601A (ja) * 2009-04-22 2010-11-11 Fujitsu Ltd 温度補償型水晶発振器、温度補償型水晶発振器を実装したプリント基板、及び温度補償型水晶発振器を搭載した電子機器
JP2012124549A (ja) * 2010-12-06 2012-06-28 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd 温度制御型水晶振動子及び水晶発振器
JP2013076644A (ja) * 2011-09-30 2013-04-25 Kyocera Crystal Device Corp 微少質量測定用センサ素子
WO2018087957A1 (ja) * 2016-11-14 2018-05-17 日本電波工業株式会社 物質検出システム及び物質検出方法
US11156571B2 (en) 2016-11-14 2021-10-26 Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. Substance detection system and substance detection method

Also Published As

Publication number Publication date
NL191803C (nl) 1996-08-02
FR2549219A1 (fr) 1985-01-18
GB2149109A (en) 1985-06-05
DE3422741A1 (de) 1985-02-14
CH662421A5 (de) 1987-09-30
GB2149109B (en) 1986-12-17
DE3422741C2 (ja) 1993-07-29
FR2549219B1 (fr) 1989-12-22
US4561286A (en) 1985-12-31
GB8416481D0 (en) 1984-08-01
NL8402080A (nl) 1985-02-01
NL191803B (nl) 1996-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS6039530A (ja) 圧電汚染検出器
US7000479B1 (en) Heated pressure transducer
US7124640B1 (en) Thermal mounting plate for heated pressure transducer
US6189367B1 (en) Apparatus and method for simultaneous measurement of mass and heat flow changes
US7275436B2 (en) Method and apparatus for measuring film thickness and film thickness growth
JP2013531248A (ja) 赤外線温度測定、及び、その安定化
US3604933A (en) Electromagnetic radiation-detection device comprising ferroelectric sensing, reference and temperature-stabilizing components
Behrndt et al. Automatic control of film-deposition rate with the crystal oscillator for preparation of alloy films
US9939366B2 (en) Spectrometer insert for measuring temperature-dependent optical properties
WO1988002480A1 (en) Apparatus for analyzing contamination
JPH0749270A (ja) 温度センサ
US6820485B2 (en) Method and apparatus for measuring film thickness and film thickness growth
Baliga et al. Sputtered film thermistor IR detectors
JPS60235026A (ja) 赤外線検出器の製造方法
Abramson OCXO design using composite-heating of the crystal resonator
JP2000321161A (ja) 静電容量型真空センサ
Balasubramaniyam High detectivity pyroelectric infrared sensor
JP2008164541A (ja) 水晶式気体圧力計及びそれを用いた真空装置
EP1891405A2 (en) Method and apparatus for measuring film thickness and film thickness growth
JPH04127012A (ja) 厚さセンサ及び付着層の厚さ測定方法
Gupta Techniques for the measurement of small amounts of heat released on planar surfaces.