JPS6037732A - 縮小投影式露光装置 - Google Patents
縮小投影式露光装置Info
- Publication number
- JPS6037732A JPS6037732A JP58146908A JP14690883A JPS6037732A JP S6037732 A JPS6037732 A JP S6037732A JP 58146908 A JP58146908 A JP 58146908A JP 14690883 A JP14690883 A JP 14690883A JP S6037732 A JPS6037732 A JP S6037732A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- positioning
- alignment
- mark
- semiconductor substrate
- mirror
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- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、スルー・ザ・レンズ式位置合わせ機構を具備
する縮小投影式露光装置に係り、特にホトレジストを被
覆した半導体基板と露光マスクとを位置合わせする際、
該スルー・ザ・レンズ式位置合わせ機構とは独立して、
これに隣接して設けられたオフ・アクシス式位置合わせ
機構全同時に実行することにより、半導体基板のＸ、Ｙ
、及び回転方向のズレを同時に補正することを可能とし
、これにより、位置合わせに要する時間を大巾に短縮し
、装置そのものの能率、即ち、処理能力の向上を画９得
る縮小投影式露光装置に関する。
する縮小投影式露光装置に係り、特にホトレジストを被
覆した半導体基板と露光マスクとを位置合わせする際、
該スルー・ザ・レンズ式位置合わせ機構とは独立して、
これに隣接して設けられたオフ・アクシス式位置合わせ
機構全同時に実行することにより、半導体基板のＸ、Ｙ
、及び回転方向のズレを同時に補正することを可能とし
、これにより、位置合わせに要する時間を大巾に短縮し
、装置そのものの能率、即ち、処理能力の向上を画９得
る縮小投影式露光装置に関する。
最近の超高集積度半導体デバイスの製造工程の如く高解
像力、高梢夏位置合わせ全要求される縮小投影式露光装
置において、処理能力の向上は非常に重要な課題となり
ておジ、特に烏精度位置合わせに要する時間は、処理能
力？左右する重要な要素となっている。
像力、高梢夏位置合わせ全要求される縮小投影式露光装
置において、処理能力の向上は非常に重要な課題となり
ておジ、特に烏精度位置合わせに要する時間は、処理能
力？左右する重要な要素となっている。
従来の縮小投影式露光装置における位置合わせは、オフ
・アクシス式位置合わせと呼ばれる。露光マスクとホト
レジスト全被覆した半導体基板とを別々の各々独立した
装置上に設けられた基準に対して位置合わせ全行ないそ
の各々の基準間の固定でれた距離を移動石ぜて、その結
果として露光マスクと該半導体基板との位置合わせ全行
なう方式と、スルー・ザ・レンズ式位置合わせと呼ばれ
る、露光を施こす縮小投影レンズ全通して直接、露光マ
スクと該半導体基板とを位置合わせする方式が実用化で
れている。しかし、前者は位置合わせに要する時間は短
いものの基準間の固定された距離（ベース・ライン）の
経時的な変化、温度の変化等により位置合わせの精度の
維持という面で多大な労力を要し、これによる能力の低
下は防ぎ得ない。これに対し、後者は露光マスクと該半
導体基板とを縮小投影レンズ葡介して直接位置合わせす
る為、精度の維持は容易ではあるが、位置合わせ全行な
う為の該半導体基板からの情報が同時には１点のみから
しか得られない為、該半導体基板のＸ、Ｙ方向のズレは
補正できるものの回転方向のズレは、半導体基板上の２
点全ステージを移動嘔せて交互に位置合わせ全行ない、
これを数回繰返すＣとによって行なわざる全得ない。
・アクシス式位置合わせと呼ばれる。露光マスクとホト
レジスト全被覆した半導体基板とを別々の各々独立した
装置上に設けられた基準に対して位置合わせ全行ないそ
の各々の基準間の固定でれた距離を移動石ぜて、その結
果として露光マスクと該半導体基板との位置合わせ全行
なう方式と、スルー・ザ・レンズ式位置合わせと呼ばれ
る、露光を施こす縮小投影レンズ全通して直接、露光マ
スクと該半導体基板とを位置合わせする方式が実用化で
れている。しかし、前者は位置合わせに要する時間は短
いものの基準間の固定された距離（ベース・ライン）の
経時的な変化、温度の変化等により位置合わせの精度の
維持という面で多大な労力を要し、これによる能力の低
下は防ぎ得ない。これに対し、後者は露光マスクと該半
導体基板とを縮小投影レンズ葡介して直接位置合わせす
る為、精度の維持は容易ではあるが、位置合わせ全行な
う為の該半導体基板からの情報が同時には１点のみから
しか得られない為、該半導体基板のＸ、Ｙ方向のズレは
補正できるものの回転方向のズレは、半導体基板上の２
点全ステージを移動嘔せて交互に位置合わせ全行ない、
これを数回繰返すＣとによって行なわざる全得ない。
これを第１図ケ用いて説明する。図中１は、露光マスク
、２はホトレジストを被覆した半導体基体、３は縮小投
影レンズ、４は、Ｘ−Ｙステージ、５はＯステージ、６
は位置合わせマーク（八及びＢ）、７は、位置合わせ用
光源、８は、ハーフミラ−１９は、位置ズレ観測機構、
全各々示すものとする。
、２はホトレジストを被覆した半導体基体、３は縮小投
影レンズ、４は、Ｘ−Ｙステージ、５はＯステージ、６
は位置合わせマーク（八及びＢ）、７は、位置合わせ用
光源、８は、ハーフミラ−１９は、位置ズレ観測機構、
全各々示すものとする。
位置合わせは、まずＸ−Ｙステージ４を移動しつつ半導
体基板２、上の位置合わ−Ｗマーク５Ａ。
体基板２、上の位置合わ−Ｗマーク５Ａ。
全位置ズレ観測機構９によって露光マスクＩ ＶＣ対し
て、縮小投影レンズ３を介してＸ−Ｙ方向の位置合わせ
全行ない、次ｖｃＸ−Ｙステージ（（Ｘ方向に移動し、
もう一つの位置合わせマーク６Ｂ、＠同様に観測しつつ
、０ステージ５によって半導体基板２を回転させること
によってこの点におをするＹ方向の位置合わせを行なう
。この動作により当然前記位置会わせマーク６Ａもズレ
全土ずる為この一連の動作を数回繰返えし谷々の方向の
ズレヶ収束さる方法を取っでいる。従ってこれに要１−
る時間は多大なものであり、処理能力を決定する大きな
要素となっている。
て、縮小投影レンズ３を介してＸ−Ｙ方向の位置合わせ
全行ない、次ｖｃＸ−Ｙステージ（（Ｘ方向に移動し、
もう一つの位置合わせマーク６Ｂ、＠同様に観測しつつ
、０ステージ５によって半導体基板２を回転させること
によってこの点におをするＹ方向の位置合わせを行なう
。この動作により当然前記位置会わせマーク６Ａもズレ
全土ずる為この一連の動作を数回繰返えし谷々の方向の
ズレヶ収束さる方法を取っでいる。従ってこれに要１−
る時間は多大なものであり、処理能力を決定する大きな
要素となっている。
本発明は、上述の従来の方法の持つ問題点を除去し、従
来の各々の方法の利点のみｆ！：有効に利用することに
より装置の能力を飛躍的に向上はぜ得得る、半導体基板
回転方向位置合わせ機構をスルー・ザ・レンズ式位置合
わせ機構と同時に機能させ得るよう具備する縮小投影式
露光装置全提供することを目的とする。
来の各々の方法の利点のみｆ！：有効に利用することに
より装置の能力を飛躍的に向上はぜ得得る、半導体基板
回転方向位置合わせ機構をスルー・ザ・レンズ式位置合
わせ機構と同時に機能させ得るよう具備する縮小投影式
露光装置全提供することを目的とする。
本発明は、前述の如く露光マスクとホトレジスト金被覆
した半導体基板とを露光を施こす為の縮小投影レンズを
介して直接位置合わせ全行ない、露光を施こす縮小投影
式露光装置において、前記位置合わせを実行する際に、
この位置合わせ機構（スルー・ザ・レンズ式位置合わせ
機構）とは独立して、これに隣接して設けられ、同時に
該半導体基板上の他の１点全観祭し該半導体基板の回転
方向の位置合わせを行なう得ることを特徴とする半導体
基板回転方向位置合わせ機構全具備する縮小投影式露光
装置である。
した半導体基板とを露光を施こす為の縮小投影レンズを
介して直接位置合わせ全行ない、露光を施こす縮小投影
式露光装置において、前記位置合わせを実行する際に、
この位置合わせ機構（スルー・ザ・レンズ式位置合わせ
機構）とは独立して、これに隣接して設けられ、同時に
該半導体基板上の他の１点全観祭し該半導体基板の回転
方向の位置合わせを行なう得ることを特徴とする半導体
基板回転方向位置合わせ機構全具備する縮小投影式露光
装置である。
以下、本発明の一実施例全図面を参照して詳細に説明す
る。第２図は、本発明の詳細な説明図であり、図中第１
図と同一部材は同−膚号紫付してあり、第１図と異なる
ものは、１０は、光軸補正機構、１１は、平面鏡、１２
は回転方向位置会わせ用顕微鏡、１３は回転方向位置ズ
レ観測機構１４は、回転方向位置合わせ基準マ・−りを
各々示すものとす、乙。
る。第２図は、本発明の詳細な説明図であり、図中第１
図と同一部材は同−膚号紫付してあり、第１図と異なる
ものは、１０は、光軸補正機構、１１は、平面鏡、１２
は回転方向位置会わせ用顕微鏡、１３は回転方向位置ズ
レ観測機構１４は、回転方向位置合わせ基準マ・−りを
各々示すものとす、乙。
本装置における位置合わせは、まず、Ｘ、Ｙ方向につい
ては、従来と同１Ｘ−Ｙステージ４全移動させ位置ズレ
観測機構９によって、半導体基板２上の位置合わせマー
ク６Ａと露光マスク１とを位置合わせを行ない１回転方
向については、半導体基板２上のもう一つの位置合わせ
マーク６Ｉ：Ｉを回転方向位置合わせ用顕微鏡１２を介
し回転方向位置合わせ基準マーク１４上に投影し、回転
方向位置ズレ観測機構１３によりそのズレ量全補正すべ
くＯ−ステージ５を回転させて行なう。
ては、従来と同１Ｘ−Ｙステージ４全移動させ位置ズレ
観測機構９によって、半導体基板２上の位置合わせマー
ク６Ａと露光マスク１とを位置合わせを行ない１回転方
向については、半導体基板２上のもう一つの位置合わせ
マーク６Ｉ：Ｉを回転方向位置合わせ用顕微鏡１２を介
し回転方向位置合わせ基準マーク１４上に投影し、回転
方向位置ズレ観測機構１３によりそのズレ量全補正すべ
くＯ−ステージ５を回転させて行なう。
以上の位置合わせ機構はＸ、Ｙ方向と回転方向が各々独
立しており同時に実行可能である。尚、回転方向位置合
わせ基準マーク】４の補正は、Ｘ。
立しており同時に実行可能である。尚、回転方向位置合
わせ基準マーク】４の補正は、Ｘ。
Ｙ方向位置合わせ後にＸ−Ｙステージ４２ｘ方回に移動
し位置合わせマーク６Ａ％−回伝方向の位置合わせ時と
同様、回転方向位置合わせ用顕微鏡１２を介して、回転
方向位置合わせ基準マーク１４上に投影し、回転方向位
置合し観測機構１３により、そのズレ量を補正すべく、
光軸補正機構１（ｌ動作させて行なえばよく、これは要
求される精度に応じて定期的に実施すればよい。
し位置合わせマーク６Ａ％−回伝方向の位置合わせ時と
同様、回転方向位置合わせ用顕微鏡１２を介して、回転
方向位置合わせ基準マーク１４上に投影し、回転方向位
置合し観測機構１３により、そのズレ量を補正すべく、
光軸補正機構１（ｌ動作させて行なえばよく、これは要
求される精度に応じて定期的に実施すればよい。
以上の様に本発明により提供される縮小投影式露光装置
は従来の２つの方式の利点金活かし合うどとにより、高
精度を維持し、しかも、位置合わせに要する時間を飛躍
的に短縮化し、装置の能力を飛躍的に向上し得ることは
明らかである。
は従来の２つの方式の利点金活かし合うどとにより、高
精度を維持し、しかも、位置合わせに要する時間を飛躍
的に短縮化し、装置の能力を飛躍的に向上し得ることは
明らかである。
第１図は、従来の縮小投影式露光装置における位置会わ
せ方式の説明図である。第２図は、本発明の詳細な説明
図である。 尚、図中、１・・・・・・露光マスク、２・・・・・・
ホトレジストヲ被覆した半導体基板、３・・・・・・縮
小投影レンズ、４・・・・・・Ｘ−Ｙステージ、５・・
・・・・０ステージ、６・・・・・・位置合わせマーク
（Ａ及びＢ）、７・・川・位置合わせ用光源、８・・・
・・・ハーフ・ミラー、９・・・・・・位置ズレ観測機
構、１０・・川・元軸補正機構、１１・・・・・・平面
鏡、１２・・・・・・回転方向位置合わせ用顕微鏡、１
３・・・・・・回転方向位置ズレ観測機構、１４・・・
回転方向位置合わせ基準マーク、全各々示す。 方ｌ閃 拓２閉
せ方式の説明図である。第２図は、本発明の詳細な説明
図である。 尚、図中、１・・・・・・露光マスク、２・・・・・・
ホトレジストヲ被覆した半導体基板、３・・・・・・縮
小投影レンズ、４・・・・・・Ｘ−Ｙステージ、５・・
・・・・０ステージ、６・・・・・・位置合わせマーク
（Ａ及びＢ）、７・・川・位置合わせ用光源、８・・・
・・・ハーフ・ミラー、９・・・・・・位置ズレ観測機
構、１０・・川・元軸補正機構、１１・・・・・・平面
鏡、１２・・・・・・回転方向位置合わせ用顕微鏡、１
３・・・・・・回転方向位置ズレ観測機構、１４・・・
回転方向位置合わせ基準マーク、全各々示す。 方ｌ閃 拓２閉
Claims (1)
- ホトレジスミ被覆した半導体基板と露光マスクとを縮小
投影レンズを介して直接位置合わせして露光を行なう縮
小投影式露光装置において、半導体基板の回転方向の位
置ズレを該位置合わせと同時に施こし得るかつ該位置合
わせと独立した手段を具備したことを特徴とする縮小投
影式露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58146908A JPS6037732A (ja) | 1983-08-11 | 1983-08-11 | 縮小投影式露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58146908A JPS6037732A (ja) | 1983-08-11 | 1983-08-11 | 縮小投影式露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6037732A true JPS6037732A (ja) | 1985-02-27 |
| JPH0458166B2 JPH0458166B2 (ja) | 1992-09-16 |
Family
ID=15418286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58146908A Granted JPS6037732A (ja) | 1983-08-11 | 1983-08-11 | 縮小投影式露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6037732A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0375717U (ja) * | 1989-11-29 | 1991-07-30 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS541553A (en) * | 1977-06-07 | 1979-01-08 | Toshiba Corp | Group management control method of elevator |
-
1983
- 1983-08-11 JP JP58146908A patent/JPS6037732A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS541553A (en) * | 1977-06-07 | 1979-01-08 | Toshiba Corp | Group management control method of elevator |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0375717U (ja) * | 1989-11-29 | 1991-07-30 | ||
| JPH066810Y2 (ja) * | 1989-11-29 | 1994-02-23 | 旭光学工業株式会社 | 椎体固定用プレート |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0458166B2 (ja) | 1992-09-16 |
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