JPS618923A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JPS618923A JPS618923A JP59130434A JP13043484A JPS618923A JP S618923 A JPS618923 A JP S618923A JP 59130434 A JP59130434 A JP 59130434A JP 13043484 A JP13043484 A JP 13043484A JP S618923 A JPS618923 A JP S618923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- stage
- chip
- exposed
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は露光装置、詳しくはステッパー装置により露光
するに際し、ウェハを回転させることによりウェハステ
ージの移動距離を少なくし、ウェハステージの小型化と
その動きの精度向上が実現されるステッパー装置に関す
る。
するに際し、ウェハを回転させることによりウェハステ
ージの移動距離を少なくし、ウェハステージの小型化と
その動きの精度向上が実現されるステッパー装置に関す
る。
レンズを用いるパターンのウェハ上への転写技術は、ウ
ェハサイズが５０Ｉ１１程度（２￥）のときには一括露
光が可能でマスクからウェハへ１対１で転写露光してい
た。
ェハサイズが５０Ｉ１１程度（２￥）のときには一括露
光が可能でマスクからウェハへ１対１で転写露光してい
た。
しかし、ウェハサイズの大型化とパターンの微細化要求
にともない一括露光は不可能となり、ウェハ全面をいく
つかに分割してステップ状に露光する方式が開発され、
現在では１チツプずつ露光する方式がとられている。
にともない一括露光は不可能となり、ウェハ全面をいく
つかに分割してステップ状に露光する方式が開発され、
現在では１チツプずつ露光する方式がとられている。
（従来の技術〕
上記したステップ状露光には第４図に示される縮小投影
型露光装置が用いられ、同図において、２１は照明光学
系、２２はレチクル、２３はコンデンサレンズ、２４は
ステップモニタ光学系、２５はレチクルアラインメント
光学系、２６はＩＴＶカメラ、２７は縮小投影レンズ、
２８はオートフォーカス検出系、２９はＸ軸干渉針、３
０はＹ軸干渉針、３１はウェハ、３２はウェハアライン
メント光学系、３３はＸＹステージ、３４は基準マーク
、３５はＩＴＶカメラ、３６はＨｅ−Ｎｅレーザ光源を
示す。ＸＹステージ３３はＸ方向とＹ方向に移動可能な
公知のステージである。
型露光装置が用いられ、同図において、２１は照明光学
系、２２はレチクル、２３はコンデンサレンズ、２４は
ステップモニタ光学系、２５はレチクルアラインメント
光学系、２６はＩＴＶカメラ、２７は縮小投影レンズ、
２８はオートフォーカス検出系、２９はＸ軸干渉針、３
０はＹ軸干渉針、３１はウェハ、３２はウェハアライン
メント光学系、３３はＸＹステージ、３４は基準マーク
、３５はＩＴＶカメラ、３６はＨｅ−Ｎｅレーザ光源を
示す。ＸＹステージ３３はＸ方向とＹ方向に移動可能な
公知のステージである。
縮小投影型露光装置のアラインメント方式は２つに大別
され、１つはオフ・アクシス方式であり、それは第２図
を参照すると、レチクルの位置決めは上側に設けられた
Ｒｘｙ、 Ｒσで示された２本のアラインメント光学系
で行い、ウェハの方は、レチクル側とは独立し・たＨｘ
、 Ｗｙ、 Ｈσの３本の顕微鏡で位置決めを行う。し
かる後に、ウェハをのせたステージを移動させ、その移
動量はレーザ干渉計によって測定しながら定められた露
光位置へ送り込む。
され、１つはオフ・アクシス方式であり、それは第２図
を参照すると、レチクルの位置決めは上側に設けられた
Ｒｘｙ、 Ｒσで示された２本のアラインメント光学系
で行い、ウェハの方は、レチクル側とは独立し・たＨｘ
、 Ｗｙ、 Ｈσの３本の顕微鏡で位置決めを行う。し
かる後に、ウェハをのせたステージを移動させ、その移
動量はレーザ干渉計によって測定しながら定められた露
光位置へ送り込む。
オフ・アクシス方式は専用の顕微鏡を用いて良好なＳＮ
の信号を得ることができるが、２つの問題がある。１つ
は、アラインメント完了後ウェハを露光位置すなわち投
影レンズの光軸の位置へ移動させなければならない。そ
の間の移動量はレーザ干渉針で測定されてはいるものの
、ウェハ３１をのせたＸＹステージ３３にヨーイングが
あると無視できない誤差が出る。これを避けるためにＷ
ｘ、’Ｗｙ、Ｗ＆の３本の顕微鏡をそれぞれ光軸を通る
Ｘ軸、Ｙ軸上に配置し、いわゆるアツベの誤差を除去す
る構ｊ 造となっている。
の信号を得ることができるが、２つの問題がある。１つ
は、アラインメント完了後ウェハを露光位置すなわち投
影レンズの光軸の位置へ移動させなければならない。そ
の間の移動量はレーザ干渉針で測定されてはいるものの
、ウェハ３１をのせたＸＹステージ３３にヨーイングが
あると無視できない誤差が出る。これを避けるためにＷ
ｘ、’Ｗｙ、Ｗ＆の３本の顕微鏡をそれぞれ光軸を通る
Ｘ軸、Ｙ軸上に配置し、いわゆるアツベの誤差を除去す
る構ｊ 造となっている。
現在の露光装置、特にステッパー装置はウェハの直径骨
の移動距離が必要であるので、ウェハの大口径化にとも
なって移動ステージ（ＸＹステージ）も大になり、精度
が悪くなり、露光装置全体が大型化する問題がある。
の移動距離が必要であるので、ウェハの大口径化にとも
なって移動ステージ（ＸＹステージ）も大になり、精度
が悪くなり、露光装置全体が大型化する問題がある。
本発明は、上記問題点を解消した露光装置を提供するも
ので、その手段は、ステッパー装置による露光において
、ウェハが載置されたウェハステージのＸＹ方向移動に
よりウェハの １／２．１／４．、。
ので、その手段は、ステッパー装置による露光において
、ウェハが載置されたウェハステージのＸＹ方向移動に
よりウェハの １／２．１／４．、。
１／ｎ（ただしｎは正の整数）部分を露光した後に、当
該ウェハステージを操作してウェハをそれぞれ１／ ２
．１／ ４．．． ’１／ ｎ回転させ前記した露光を
行い、以下かかる操作を繰り返しウェハ全面を露光する
構成としたことを特徴とする露光装置によってなされる
。
該ウェハステージを操作してウェハをそれぞれ１／ ２
．１／ ４．．． ’１／ ｎ回転させ前記した露光を
行い、以下かかる操作を繰り返しウェハ全面を露光する
構成としたことを特徴とする露光装置によってなされる
。
上記露光装置特にステッパー装置は、露光をなすときに
試料例えばウェハを１／ ２．１／ ４．．．１／ ｎ
ル 回転させ、例えばＸ方向のステージの動きを減すること
によりうエバステージの移動距離をすくなくし、ＸＹス
テージの小型化と高精度化を実現するものである。
試料例えばウェハを１／ ２．１／ ４．．．１／ ｎ
ル 回転させ、例えばＸ方向のステージの動きを減すること
によりうエバステージの移動距離をすくなくし、ＸＹス
テージの小型化と高精度化を実現するものである。
以下図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する。
本発明は、ステッパー装置がチップを１個ずつ露光して
行くことを利用して、露光の際に、ウェハを１／２．１
／、４．．．回転させて、ウェハステージの移動距離を
少なくしようとするものであり、その目的Ｔ：ＸＹスー
ｊ−−ジ３３を１／２．１．／４．．．回転させる。
行くことを利用して、露光の際に、ウェハを１／２．１
／、４．．．回転させて、ウェハステージの移動距離を
少なくしようとするものであり、その目的Ｔ：ＸＹスー
ｊ−−ジ３３を１／２．１．／４．．．回転させる。
ウェハを１／２回転する実施例を第１図を参照して説明
する。
する。
先ず第１図（ａ）に示される如く、ウェハ３１の上半部
分を露光する。そのために、ウェハステージは図の最上
列左端にあるチップ３１ａに始まり１チップ分ずつＸ方
向に移動して最右端のチップ３１ｍを露光する。なお、
図においては簡略化のためチップは模式的に犬なる寸法
で示す。
分を露光する。そのために、ウェハステージは図の最上
列左端にあるチップ３１ａに始まり１チップ分ずつＸ方
向に移動して最右端のチップ３１ｍを露光する。なお、
図においては簡略化のためチップは模式的に犬なる寸法
で示す。
次いで、チップ３１ｍからＹ方向に１チップ分移動し、
前とは逆のＸ方向に移動する。またはそれに代えて、チ
ップ３１ａの下のチップのところに、移動し、Ｘ方向に
最初に述べたと同様に移動してもよい。
前とは逆のＸ方向に移動する。またはそれに代えて、チ
ップ３１ａの下のチップのところに、移動し、Ｘ方向に
最初に述べたと同様に移動してもよい。
上記の如くにしてウェハの上半部分の露光がすべて終る
と、ウェハ３１を１／２回転し、第３図（ト））に示さ
れる如く残りの手部分を露光する。かかる露光方法によ
ると、ウェハステージは、Ｘ方向にウェハの直径骨だけ
移動するが、Ｙ方向にはウェハの直径の半分の距離を移
動するだけでよい。
と、ウェハ３１を１／２回転し、第３図（ト））に示さ
れる如く残りの手部分を露光する。かかる露光方法によ
ると、ウェハステージは、Ｘ方向にウェハの直径骨だけ
移動するが、Ｙ方向にはウェハの直径の半分の距離を移
動するだけでよい。
ウェハを１／４回転させる実施例は第２図に示され、先
ず同図（ａｌに示される如くウェハの左上１／４部分を
チップ４１ａから４１ｎまで露光し、次いでウェハを１
／４回転し同図（ｂ）に示される如く第４図（ａｌで露
光された部分の下の１／４部分を前と同様に露光し、次
いで同図（Ｃ）に示される如く次の１／４部分を露光し
、最後に同図ｆｄｌに示される如（残りの１／４部分を
露光する。この例において、ウェハステージは、Ｘ方向
とＹ方向にウェハの直径の半分の距離だけ移動すればよ
い。なお第２図においても、チップは模式的に大なる寸
法で図示した。
ず同図（ａｌに示される如くウェハの左上１／４部分を
チップ４１ａから４１ｎまで露光し、次いでウェハを１
／４回転し同図（ｂ）に示される如く第４図（ａｌで露
光された部分の下の１／４部分を前と同様に露光し、次
いで同図（Ｃ）に示される如く次の１／４部分を露光し
、最後に同図ｆｄｌに示される如（残りの１／４部分を
露光する。この例において、ウェハステージは、Ｘ方向
とＹ方向にウェハの直径の半分の距離だけ移動すればよ
い。なお第２図においても、チップは模式的に大なる寸
法で図示した。
第３図に示される実施例においては、先ず同図ｆａ）に
示される如くウェハの半径方向の最外側のチップ５１ａ
を露光する。次にウェハを１／ｎ回転し同図ｆｂ）に示
される如くウェハの半径方向最外側のチップ５２ａを露
光し、順次この操作を繰り返してチップ５１ａに戻ると
、ウェハの半径方向にチップ５１ａの真直ぐ下に位置す
るチップ５１ｂを露光し、順次前述した露光をウェハの
中心部分の近くまで繰り返す。
示される如くウェハの半径方向の最外側のチップ５１ａ
を露光する。次にウェハを１／ｎ回転し同図ｆｂ）に示
される如くウェハの半径方向最外側のチップ５２ａを露
光し、順次この操作を繰り返してチップ５１ａに戻ると
、ウェハの半径方向にチップ５１ａの真直ぐ下に位置す
るチップ５１ｂを露光し、順次前述した露光をウェハの
中心部分の近くまで繰り返す。
または上記に代えて、ウェハの半径方向にウェハの中心
に最も近いチップから露光を始め、上記したと同じ操作
を繰り返してもよい。露光を外側から始めるか中心近く
から始めるかは適宜選択するが、ウェハの中心近くでは
ウェハの回転を適宜変更するとよい。
に最も近いチップから露光を始め、上記したと同じ操作
を繰り返してもよい。露光を外側から始めるか中心近く
から始めるかは適宜選択するが、ウェハの中心近くでは
ウェハの回転を適宜変更するとよい。
Ｉ かくすることによって、ウェハステ
ージのＸ方向の移動はウェハ直径の半分かまたはＯとな
り、Ｙ方向の移動はウェハ直径の半分に減少されるので
、装置の小型化が実現され、コストが低減され、精度が
高められる。
ージのＸ方向の移動はウェハ直径の半分かまたはＯとな
り、Ｙ方向の移動はウェハ直径の半分に減少されるので
、装置の小型化が実現され、コストが低減され、精度が
高められる。
上記はウェハの露光についての例であったが、本発明の
適用範囲はその場合に限定されるものではなく、検査装
置等にも通用可能である。
適用範囲はその場合に限定されるものではなく、検査装
置等にも通用可能である。
以上説明したように本発明によれば、露光または検査目
的等のためのウェハステージの操作において、ウェハを
１／２．１／ ４．．．１／ ｎ回転させることにより
同ステージのＸ方向移動はウェハ直径の１／２かまたは
０に、またＹ方向移動はウェハ直径の１／２に減少され
るので、装置の小型化と精度を高めるに効果大である。
的等のためのウェハステージの操作において、ウェハを
１／２．１／ ４．．．１／ ｎ回転させることにより
同ステージのＸ方向移動はウェハ直径の１／２かまたは
０に、またＹ方向移動はウェハ直径の１／２に減少され
るので、装置の小型化と精度を高めるに効果大である。
第１図（ａ） 、 （ｂｌ、第２図＋ａｌないしくｄｌ
、第３図（ａ）。 ［ｂ）は本発明によるウェハの回転を示す平面図、第４
図は従来の縮小露光装置の配置図である。 図において、３１はウェハ、３３はＸＹステージ、
□“１３１ａ 、、、３１ｍ、
４１ａ、、、４１ｎ 、 ５１ａ、 ５１ｂ、 ５
２ａ、 ５２ｂはチップをそれぞれ示す。 代理人 弁理士 松 岡 宏四部＼；二ｊ−，，，−
，ｊ第１図 第２図 第３図 ■
、第３図（ａ）。 ［ｂ）は本発明によるウェハの回転を示す平面図、第４
図は従来の縮小露光装置の配置図である。 図において、３１はウェハ、３３はＸＹステージ、
□“１３１ａ 、、、３１ｍ、
４１ａ、、、４１ｎ 、 ５１ａ、 ５１ｂ、 ５
２ａ、 ５２ｂはチップをそれぞれ示す。 代理人 弁理士 松 岡 宏四部＼；二ｊ−，，，−
，ｊ第１図 第２図 第３図 ■
Claims (1)
- ウェハが載置されたウェハステージのＸＹ方向移動によ
りウェハの１／２、１／４．．．１／ｎ（ただしｎは正
の整数）部分を露光した後に、当該ウェハステージを操
作してウェハをそれぞれ１／２、１／４．．．．１／ｎ
回転させ前記した露光を行い、以下かかる操作を繰り返
しウェハ全面を露光する構成としたことを特徴とする露
光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59130434A JPS618923A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59130434A JPS618923A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS618923A true JPS618923A (ja) | 1986-01-16 |
| JPH0469408B2 JPH0469408B2 (ja) | 1992-11-06 |
Family
ID=15034142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59130434A Granted JPS618923A (ja) | 1984-06-25 | 1984-06-25 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS618923A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62102522A (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-13 | Canon Inc | 露光方法および装置 |
| JPH04105069U (ja) * | 1991-02-18 | 1992-09-10 | 株式会社東芝 | エレベータ |
| JPH04127781U (ja) * | 1991-05-13 | 1992-11-20 | フジテツク株式会社 | エレベータかご室の芳香装置 |
-
1984
- 1984-06-25 JP JP59130434A patent/JPS618923A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62102522A (ja) * | 1985-10-29 | 1987-05-13 | Canon Inc | 露光方法および装置 |
| JPH04105069U (ja) * | 1991-02-18 | 1992-09-10 | 株式会社東芝 | エレベータ |
| JPH04127781U (ja) * | 1991-05-13 | 1992-11-20 | フジテツク株式会社 | エレベータかご室の芳香装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0469408B2 (ja) | 1992-11-06 |
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