JPS603387B2 - 新規光学活性イミダゾリジン−２−オン誘導体およびその製法 - Google Patents
新規光学活性イミダゾリジン−２−オン誘導体およびその製法Info
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- JPS603387B2 JPS603387B2 JP55095818A JP9581880A JPS603387B2 JP S603387 B2 JPS603387 B2 JP S603387B2 JP 55095818 A JP55095818 A JP 55095818A JP 9581880 A JP9581880 A JP 9581880A JP S603387 B2 JPS603387 B2 JP S603387B2
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- C07D491/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00 in which the condensed system contains two hetero rings
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- C07D233/04—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D233/28—Heterocyclic compounds containing 1,3-diazole or hydrogenated 1,3-diazole rings, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
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Description
本発明は、新規な光学活性ィミダゾリジンー２ーオン誘
導体およびその製法に関する。 さらに詳しくは、一般式（１） 〔式中、Ｒ，は低級アルキル基またはペンジル基であり
、Ｒ２は不斉炭素を有するアラルキル基であり、基中に
低級アルキル基および／または水酸基および／または低
級ァルコキシ基を有することができる。 ィミダゾリジン環の４．９立の置換基はシス配置である
。〕で示される光学活性ィミダゾリジンー２−オン譲導
体およびその製法に関するものである。 本発明の光学活性ィミダゾリジン−２ーオン誘導体（１
）は、未だ文献未記載の新規化合物であり、後述する如
く、ｄ−ビオチンおよび神経節遮断剤（トリメタフアン
・カンシレート）の新規合成中間体として極めて重要な
化合物である。 ｄ−ビオチンはビタミン日とも称され、医薬品用あるい
は飼料添加用に広く利用されている。ビオチンは分子内
に３個の不斉炭素を有しており、８種の光学異性体が存
在するが、生物にとって有用なものはｄ−ビオチンのみ
であり、他の７種は全く有用性が認められない。光学活
性ピオチンの立体選択的合成法は種々開発されている。 例えば、糖を出発原料とする方法（ＴｅｔＱｈｅｄｒｏ
ｎＬｅＭｒｓＰ．２７６５（１９７５）または、Ｌーシ
スティンを出発原料とする方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｓ．，９７５９３６（１９７５））がある。これら
は、出発原料に既に光学活性を有する化合物を選び、立
体選択的な反応により、光学活性ビオチンを得る方法で
あり、途中に分割操作を含まない点で有利であるが、工
程数が多く、速算収率が低く工業的には有用でない。又
一方、光学活性ラクトン（ロ）を経由する方法がある。
この方法は、ビオチン合成工程のうち比較的早い工程で
光学活性化しているため後半の工程で不要な対掌体を生
じない利点を有し、又立体選択的にかつ高収率でｄービ
オチンまたはトリメタフアン・カンシレートを得ること
のできる方法である。 本発明者らは、不斉合成法による光学活性ラクトン（ロ
）の製造について鋭意研究の結果、下記一般式（ｍ）で
示されるジカルボン酸または下記一般式（Ｗ）で示され
るジカルボン酸無水物と一般式Ｒ，ＮＨＲ２（式中、Ｒ
，，Ｒ２は前述のとおり）で示される光学活性二級アミ
ンとを反応させると前記一般式（１）で示される光学活
性ィミダゾリジン−２−オン誘導体（以下アミドカルボ
ン酸（１）が高い不斉収率で得られるという新知見、〔
式中、ィミダゾリジン環の４．５位置換基はシス配置で
ある。 〕およびこの光学活性アミドカルボン酸（１）を用いる
と光学性ラクトン（１）が収率よく得られるという新知
見を見出すに至った。 すなわち本発明の方法によれば、得られた光学活性アミ
ドカルポン酸（１）は、そのジアステレオマーｌａある
いはｌｂ（下式参照）のいずれか一方を他方より過剰に
含んでおりその不斉収率は〔（ｌａ）−（ｌｂ）／（ｌ
ａ）十（ｌｂ）〕×１００で表わされる。 この種の不斉合成は、泉美指ら編化学総説地．４「不斉
反応のイｂ学」（日本化学会）第１４１頁によると「メ
ソ化合物を出発原料とするェナンチオ場区別反応」とし
て分類されるが、本発明のように９０％に及び高い不斉
収率は報告されていない。 この成績は微生物や酵素を用いる生物学的不斉合成を想
起させるものである。（例えば、Ｊ．Ｂ．Ｊｏｎｅｓ，
Ｃ．Ｊ．Ｓｉｈ，Ｄ．Ｐｅｒｌｍａｎ緑Ｔｅｃｈｎｉｑ
ｕｅｓ ｏｆＣｈｅｍｉｓＶｙｖｏｌ．１０．Ｐ．１０
７〜４０１（ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ）参照）。
光学活性アミドカルボン酸（１）から光学活性ラクトン
（０）を得る方法は種々存在するがその１つとしては、
下式に示すように光学活性アミドカルボン酸（１）のカ
ルボキシル基をェステル化してアミドェステル（Ｖ）と
し金属水素化物、例えば水素化ホウ素ナトリウムで還元
して、アミドアルコール（０）とし酸により加水分解お
よびラクトン化して光学活性ラクトン（０）を得ること
ができる。（Ｙは低級アルキル基である） 上記反応中、２つの不斉炭素の立体配置は保持されるの
で、（ｌａ）／（ｌｂ）の比は、ラクトン（ロ）の両対
掌体の比と等しい。 すなわち、アミドカルボン酸（１）の不斉収率は、ラク
トン（ロ）の光学純度に等しいと考えてよい。 さらに用いた光学活性二級アミンＲ，ＮＨＲ２は、酸加
水分解の際に容易に、かつラセミ化することなく回収す
ることができ、再原料として使用することができる。 すなわち、本発明者らは、新規アミドカルボン酸（１）
を、不斉収率よく得ることに成功ししかも（１）が光学
活性ラクトン（ロ）を得るための有用な新規中間体であ
ることを見出し本発明を完成した。ラクトン（ロ）の光
学純度を高める方法として光学活性アミドカルボン酸（
１）あるいはアミドカルボン酸の塩あるいはアミドカル
ボン酸のメチルェステル（Ｖ：Ｙ＝メチル）を適当な方
法、例えば適当な充てん剤によるカラムクロマトグラフ
イーあるいは単純な再結晶などの操作によりそのジアス
テレオマーの分離を行なうことも可能である。その際不
要なジアステレオマ−は加水分解により容易に原料であ
る光学活性二級アミンＲ，ＮＨＲ２とジカルボン酸（ｍ
）とすることができる。光学活性二級アミンはそのまま
、またはさらに脱水して、ジカルボン酸無水物（Ｍ）に
して、共に再使用することができるので、全ての原料を
目的とする光学活性アミドカルポン酸（１）又はそのェ
ステル（Ｖ）の一方のジアステレオマーへと導くことが
できる。 以上述べたごとく本発明の方法は工業的にも非常に有利
な方法である。 本発明の原料であるジカルボン酸（ｍ）およびジカルポ
ン酸無水物（ｍ）は公知の物質である。 （米国特許第２４８９２３２号明細書参照）光学活性二
級ァミンＲ，ＮＨＲ２の置換基Ｒ，，Ｒ２について説明
する。Ｒ，は低級アルキル基あるいはペンジル基であり
、低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、ｎ
ープロピル、イソプロピル、ｎープチル、ィソプチル基
を挙げることができる。これらの置換基は、対応する光
学活性−級アミンＲ２−Ｎ比の低級アルキル化あるいは
ペンジル化によって導入することができる。 Ｒ２は、不斉炭素を有するアラルキル基であり、基中に
低級アルキル基および／または水酸基および／または低
級アルコキシ基を有することができる。 水酸基を有しないアラルキル基としては、例えば、１ー
フェニルェチル基、１一（ａ−ナフチル）エチル基、１
ーフェニル−２一（Ｐ−トリル）エチル基などを挙げる
ことができる。水酸基を有するアラルキル基の場合は下
記一般式（肌）〔式中、※は不斉炭素を表わす。〕で示
される基が有効である。 置換基Ｒ３は、低級アルキル基、フェニル基または、ベ
ンジル基であり、低級アルキル基としては、例えば、メ
チル、エチル、ｎ−プロピル、ィソブロピル、ｎ−プチ
ル、イソプチル、あるいはｔープチル基を挙げることが
できる。 置換基Ｒ４は、ベンジル基であるかまたは基中に低級ア
ルキルおよび／もしくは低級アルキコキシ基を有するか
有しないフェニル基であり、低級アルキル基としては、
たとえば、メチル、エチル、ｎープロピル、イソプロピ
ル、ｎプチル、イソプチル、ｔープチル基を低級アルコ
キシ基としてはたとえば、メトキシ、エトキシ、ｎープ
ロポキシ、イソプロポキシ、ｎーブトキシ、イソプトキ
シ基などを挙げることができる。 Ｒ４の具体的な例としては、ベンジル基、フェニル基、
２−メトキシフェニル基、２−インプロポキシフェニル
基、２ーイソプロポキシ−５ーメチルフヱニル基などを
挙げることができる。 光学活性二級アミンＲ，ＮＨＲ２の具体的な例を示すと
、Ｎーメチルー１−フエニルエチルアミン Ｎーベンジルー１一フエニルエチルアミンＮ−メチル一
１一（ａ−ナフチル）エチルアミンＮーベンジルー１一
（ａーナフチル）エチルアミンＮ−メチル−１ーフヱニ
ル−２−（ｐ−トリル）エチルアミンＮ−ペンジル−１
ーフエニル−２一（ｐートリル）エチルアミンＮ−メチ
ル一２−アミノ−１，１−ジフエニル−１−プロパノー
ルＮーエチルー２ーアミノー１，１−ジフエニルー１ー
プロパノールＮ−ペンジル−２−アミノ−１，１−ジフ
エニルー１ープロ／ぐノールＮーメチル−２−アミノー
１，１ージベンジルー１ープロパノールＮーメチル−２
ーアミノ−１，１ージフエニルー４ーメチルー１−ペン
タノールＮーメチルー２−アミノー１，１ージベンジル
ー４ーメチルー１−ペンタノールＮ−メチル一２−アミ
ノー１，１，２ートリフヱニルヱタノールＮ−メチル一
２−アミノー１，１−ジ（２ーイソプロポキシフエニル
）一３ーフエニル−１−プロ／ヤノー′レＮ−メチル−
２ーアミノー１，１ージ（２ーメトキシフエニル）−１
ープロパノールＮ−メチル一２ーアミ／−１，１ージ（
２ーイソプロポキシ−５‐メチルフエニル）一３−フエ
ニル−１−プロ／ぐノールＮ−メチル一２−アミノー１
，１，３−トリフエニル−１ープロ／ぐノールなどを挙
げることができ必要に応じてこれらのＲ体あるいはＳ体
いずれを用いてもよい。 本発明の方法によって得られる光学活性ァミドカルボン
酸（１）としては具体的に次のような化合物を挙げるこ
とができる。 １，３−ジベンジルー４，５ーシス−４ーカルボキシー
５−｛ＮーメチルーＮ−（１ーフエニルエチル）カルバ
モイル｝イミダゾリジン−２ーオン１，３ージベンジル
ー４，５ーシスー４ーカルボキシー５一｛Ｎーベンジル
−Ｎ一（１ーフエニルエチル）力ルバモイル｝イミダゾ
リジン−２−オン１，３−ジベンジルー４，５−シスー
４ーカルポキシー５−〔Ｎ−メチル一Ｎ一｛１−（ａー
ナフチル）エチル｝カルバモイル）イミダゾリジン−２
ーオン１，３−ジベンジルー４，５−シス−４ーカルボ
キシー５一〔Ｎ−ペンジルーＮ一｛１−（ａーナフチル
）エチル｝カルバモイル〕イミダゾ１」ジン−２−オン
１，３−ジベンジル−４，５−シスー４ーカルボキシ−
５一〔ＮーメチルーＮ一｛１−フエニル−２−（ｐ−ト
リル）エチル｝力ルバモイル〕イミダゾリジンー２ーオ
ン１，３−、ジベンジルー４，５−シスー４ーカルボキ
シ−５一〔Ｎ−ペンジルーＮ−｛１ーフエニルー２−（
ｐートリル）エチル｝カルバモイル〕イミダゾリジンー
２ーオン１，３ージベンジル−４，５ーシス−４ーカル
ボキシ−５−〔Ｎ−メチル一Ｎ−｛（１ーメチルー２，
２−ジフエニルー２−ヒドロキシ）エチル｝カルバモイ
ル〕イミダゾリジン山２ーオン１，３ージベンジルー４
，５ーシス−４ーカルボキシ−５−〔Ｎ−エチル−Ｎ一
｛（１ーメチルー２，２−ジフエニルー２ーヒドロキシ
）エチル｝カルバモイル〕イミダゾジンー２ーオン１，
３ージベンジルー４，５ーシスー４−力ルボキシー５−
〔ＮーベンジルーＮ−｛（１ーメチルー２，２−ジフエ
ニルー２ーヒドロキシ）エチル｝カルバモイル〕イミダ
ゾリジン山２ーオン１，３−ジベンジル−４，５ーシス
ー４−力ルボキシ−５−〔Ｎ−メチル−Ｎ一｛（１ーメ
チルー２，２−ジベンジル−２ーヒドロキシ）エチル｝
カルバモイル〕イミダゾｌｊジンー２−オン１，３ージ
ベンジルー４，５−シスー４ーカルボキシ−５一〔Ｎー
メチルーＮ一｛（１ーイソブチルー２，２ージフエニル
ー２−ヒドロキシ）エチル｝カルバモイル〕イミダゾリ
ジンー２−オン１，３ージベンジルー４，５ーシスー４
ーカルボキシ−５−〔ＮーメチルーＮ｛（１−イソブチ
ルー２，２−ジベンジルー２ーヒドロキシ）エチル｝カ
ルバモイル〕イミダゾリジンー２ーオン１，３ージベン
ジルー４，５−シスー４−力ルボキシー５−〔Ｎーメチ
ル−Ｎ｛（１，２，２−トリフエニル−２ーヒドロキシ
）エチル｝力ルバモイル〕イミダゾＩＪジンー２−オン
１，３−ジベンジルー４，５ーシスー４ーカルボキシー
５−（ＮーメチルーＮ〔｛１−ペンジル−２，２−ジ（
２−インプロポキシフエニル）一２−ヒドロキシ｝エチ
ル〕力ルバモイル）イミダゾリジン−２−オン１，３ー
ジベンジル−４，５ーシス−４−力ルボキシ−５一（Ｎ
ーメチルーＮ〔（１ーメチル−２，２−ジ（２ーメトキ
シフエニル）一２−ヒドロキシ｝エチル〕カルバモイル
）イミダゾリジンー２ーオン１，３ージベンジルー４，
５ーシス−４ーカルボキシー５一（ＮーメチルーＮ〔｛
１−ペンジルー２，２ージ（２ーイソプロポキシ−５ー
メチルフエニル）一２ーヒドロキシ｝エチル〕力ルバモ
イル）イミダゾリジンー２ーオン１，３−ジベンジルー
４，５−シス−４ーカルボキシー５−〔Ｎｎメチル一Ｎ
｛（１ーベンジルー２，２−ジフエニルー２ーヒドロキ
シ）エチル｝カルバモイル〕イミダゾリジンー２−オン
次に本発明を実施する方法について説明する。 ジカルボン酸（風）またはジカルボン酸無水物（Ｗ）と
光学活性二級アミンＲ，ＮＨＲ２とを反応させる場合通
常溶媒中で行う。用いる溶媒としては、各々の原料とは
直接反応しない任意の不活性有機溶媒があげられるが、
特にベンゼン、トルェン、キシレン等の芳香族炭化水素
およびェーサル、テトラヒドロフラソ、ジオキサン、１
，２ージメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルェーテル等のエーテル類が有利に用いられる。また、
ピリジン、トリエチルアミン、トリプチルアミンの如き
第三級アミン等の塩基性物質の添加も有効である。反応
温度に関しては特に制限はない。 ジカルボン酸無水物（Ｗ）を用いる場合は、一２０ｏｏ
から使用する溶媒の沸点までの間、好ましくは−２０ｑ
０から４０ｏｏの間で行われる。ジカルボン酸（ｍ）を
用いる場合は反応によって生成する水を除去するのが有
利である。 その方法としては、水と溶媒との共織蒸留あるいは適当
な脱水剤（例えばモレキュラーシーブ、ジシクロヘキシ
ルカルボジィミド）の添加があげられる。反応時間は原
料、溶媒、反応温度により影響をうけるが、ジカルボン
酸（ｍ）を用い溶媒の沸点で行うと１〜２加持間、ジカ
ルボン酸無水物（Ｗ）を用い２５ｑＣで行うと１０〜４
劉時間で反応は完結する。ジカルボン酸（ｍ）またはジ
カルボン酸無水物（Ｗ）と光学活性二級アミンＲ，ＮＨ
Ｒ２とのモル比は、等モル付近が好適であり、実際には
０．８〜１．２モルの間で用いられる。 反応後生成物の分離、精製は通常の手法がとられる。 すなわち溶媒の蟹去、適当な溶媒による抽出、洗浄およ
び各種クロマトグラフィーである。収率はほぼ定量的で
あり、反応の進行は薄層クロマトまたは高速液体クロマ
トで追跡できる。以下に実施例、参考例をあげて本発明
を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。実施例 １ Ｓ一Ｎ−メチル一１一フエニルエチルアミン１．３５夕
（ＩＱ舷ｏｌｅ）とトリエチルアミン１．０１夕（１０
脚ｏｌｅ）のテトラヒドロフラン１０私溶液をジカルポ
ン酸無水物（Ｗ）３．３６夕（ＩＱ舷ｏｌｅ）のテトラ
ヒドロフラン３０のＺ懸濁液中に２９０で擬伴下に３０
片かけて通下した。 通下終了時に反応液は均一溶液となった。さらに同温度
で４劉時間燈梓後、溶媒を蟹去し、残笹にクロロホルム
３０の
導体およびその製法に関する。 さらに詳しくは、一般式（１） 〔式中、Ｒ，は低級アルキル基またはペンジル基であり
、Ｒ２は不斉炭素を有するアラルキル基であり、基中に
低級アルキル基および／または水酸基および／または低
級ァルコキシ基を有することができる。 ィミダゾリジン環の４．９立の置換基はシス配置である
。〕で示される光学活性ィミダゾリジンー２−オン譲導
体およびその製法に関するものである。 本発明の光学活性ィミダゾリジン−２ーオン誘導体（１
）は、未だ文献未記載の新規化合物であり、後述する如
く、ｄ−ビオチンおよび神経節遮断剤（トリメタフアン
・カンシレート）の新規合成中間体として極めて重要な
化合物である。 ｄ−ビオチンはビタミン日とも称され、医薬品用あるい
は飼料添加用に広く利用されている。ビオチンは分子内
に３個の不斉炭素を有しており、８種の光学異性体が存
在するが、生物にとって有用なものはｄ−ビオチンのみ
であり、他の７種は全く有用性が認められない。光学活
性ピオチンの立体選択的合成法は種々開発されている。 例えば、糖を出発原料とする方法（ＴｅｔＱｈｅｄｒｏ
ｎＬｅＭｒｓＰ．２７６５（１９７５）または、Ｌーシ
スティンを出発原料とする方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｓ．，９７５９３６（１９７５））がある。これら
は、出発原料に既に光学活性を有する化合物を選び、立
体選択的な反応により、光学活性ビオチンを得る方法で
あり、途中に分割操作を含まない点で有利であるが、工
程数が多く、速算収率が低く工業的には有用でない。又
一方、光学活性ラクトン（ロ）を経由する方法がある。
この方法は、ビオチン合成工程のうち比較的早い工程で
光学活性化しているため後半の工程で不要な対掌体を生
じない利点を有し、又立体選択的にかつ高収率でｄービ
オチンまたはトリメタフアン・カンシレートを得ること
のできる方法である。 本発明者らは、不斉合成法による光学活性ラクトン（ロ
）の製造について鋭意研究の結果、下記一般式（ｍ）で
示されるジカルボン酸または下記一般式（Ｗ）で示され
るジカルボン酸無水物と一般式Ｒ，ＮＨＲ２（式中、Ｒ
，，Ｒ２は前述のとおり）で示される光学活性二級アミ
ンとを反応させると前記一般式（１）で示される光学活
性ィミダゾリジン−２−オン誘導体（以下アミドカルボ
ン酸（１）が高い不斉収率で得られるという新知見、〔
式中、ィミダゾリジン環の４．５位置換基はシス配置で
ある。 〕およびこの光学活性アミドカルボン酸（１）を用いる
と光学性ラクトン（１）が収率よく得られるという新知
見を見出すに至った。 すなわち本発明の方法によれば、得られた光学活性アミ
ドカルポン酸（１）は、そのジアステレオマーｌａある
いはｌｂ（下式参照）のいずれか一方を他方より過剰に
含んでおりその不斉収率は〔（ｌａ）−（ｌｂ）／（ｌ
ａ）十（ｌｂ）〕×１００で表わされる。 この種の不斉合成は、泉美指ら編化学総説地．４「不斉
反応のイｂ学」（日本化学会）第１４１頁によると「メ
ソ化合物を出発原料とするェナンチオ場区別反応」とし
て分類されるが、本発明のように９０％に及び高い不斉
収率は報告されていない。 この成績は微生物や酵素を用いる生物学的不斉合成を想
起させるものである。（例えば、Ｊ．Ｂ．Ｊｏｎｅｓ，
Ｃ．Ｊ．Ｓｉｈ，Ｄ．Ｐｅｒｌｍａｎ緑Ｔｅｃｈｎｉｑ
ｕｅｓ ｏｆＣｈｅｍｉｓＶｙｖｏｌ．１０．Ｐ．１０
７〜４０１（ＪｏｈｎＷｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ）参照）。
光学活性アミドカルボン酸（１）から光学活性ラクトン
（０）を得る方法は種々存在するがその１つとしては、
下式に示すように光学活性アミドカルボン酸（１）のカ
ルボキシル基をェステル化してアミドェステル（Ｖ）と
し金属水素化物、例えば水素化ホウ素ナトリウムで還元
して、アミドアルコール（０）とし酸により加水分解お
よびラクトン化して光学活性ラクトン（０）を得ること
ができる。（Ｙは低級アルキル基である） 上記反応中、２つの不斉炭素の立体配置は保持されるの
で、（ｌａ）／（ｌｂ）の比は、ラクトン（ロ）の両対
掌体の比と等しい。 すなわち、アミドカルボン酸（１）の不斉収率は、ラク
トン（ロ）の光学純度に等しいと考えてよい。 さらに用いた光学活性二級アミンＲ，ＮＨＲ２は、酸加
水分解の際に容易に、かつラセミ化することなく回収す
ることができ、再原料として使用することができる。 すなわち、本発明者らは、新規アミドカルボン酸（１）
を、不斉収率よく得ることに成功ししかも（１）が光学
活性ラクトン（ロ）を得るための有用な新規中間体であ
ることを見出し本発明を完成した。ラクトン（ロ）の光
学純度を高める方法として光学活性アミドカルボン酸（
１）あるいはアミドカルボン酸の塩あるいはアミドカル
ボン酸のメチルェステル（Ｖ：Ｙ＝メチル）を適当な方
法、例えば適当な充てん剤によるカラムクロマトグラフ
イーあるいは単純な再結晶などの操作によりそのジアス
テレオマーの分離を行なうことも可能である。その際不
要なジアステレオマ−は加水分解により容易に原料であ
る光学活性二級アミンＲ，ＮＨＲ２とジカルボン酸（ｍ
）とすることができる。光学活性二級アミンはそのまま
、またはさらに脱水して、ジカルボン酸無水物（Ｍ）に
して、共に再使用することができるので、全ての原料を
目的とする光学活性アミドカルポン酸（１）又はそのェ
ステル（Ｖ）の一方のジアステレオマーへと導くことが
できる。 以上述べたごとく本発明の方法は工業的にも非常に有利
な方法である。 本発明の原料であるジカルボン酸（ｍ）およびジカルポ
ン酸無水物（ｍ）は公知の物質である。 （米国特許第２４８９２３２号明細書参照）光学活性二
級ァミンＲ，ＮＨＲ２の置換基Ｒ，，Ｒ２について説明
する。Ｒ，は低級アルキル基あるいはペンジル基であり
、低級アルキル基としては、例えばメチル、エチル、ｎ
ープロピル、イソプロピル、ｎープチル、ィソプチル基
を挙げることができる。これらの置換基は、対応する光
学活性−級アミンＲ２−Ｎ比の低級アルキル化あるいは
ペンジル化によって導入することができる。 Ｒ２は、不斉炭素を有するアラルキル基であり、基中に
低級アルキル基および／または水酸基および／または低
級アルコキシ基を有することができる。 水酸基を有しないアラルキル基としては、例えば、１ー
フェニルェチル基、１一（ａ−ナフチル）エチル基、１
ーフェニル−２一（Ｐ−トリル）エチル基などを挙げる
ことができる。水酸基を有するアラルキル基の場合は下
記一般式（肌）〔式中、※は不斉炭素を表わす。〕で示
される基が有効である。 置換基Ｒ３は、低級アルキル基、フェニル基または、ベ
ンジル基であり、低級アルキル基としては、例えば、メ
チル、エチル、ｎ−プロピル、ィソブロピル、ｎ−プチ
ル、イソプチル、あるいはｔープチル基を挙げることが
できる。 置換基Ｒ４は、ベンジル基であるかまたは基中に低級ア
ルキルおよび／もしくは低級アルキコキシ基を有するか
有しないフェニル基であり、低級アルキル基としては、
たとえば、メチル、エチル、ｎープロピル、イソプロピ
ル、ｎプチル、イソプチル、ｔープチル基を低級アルコ
キシ基としてはたとえば、メトキシ、エトキシ、ｎープ
ロポキシ、イソプロポキシ、ｎーブトキシ、イソプトキ
シ基などを挙げることができる。 Ｒ４の具体的な例としては、ベンジル基、フェニル基、
２−メトキシフェニル基、２−インプロポキシフェニル
基、２ーイソプロポキシ−５ーメチルフヱニル基などを
挙げることができる。 光学活性二級アミンＲ，ＮＨＲ２の具体的な例を示すと
、Ｎーメチルー１−フエニルエチルアミン Ｎーベンジルー１一フエニルエチルアミンＮ−メチル一
１一（ａ−ナフチル）エチルアミンＮーベンジルー１一
（ａーナフチル）エチルアミンＮ−メチル−１ーフヱニ
ル−２−（ｐ−トリル）エチルアミンＮ−ペンジル−１
ーフエニル−２一（ｐートリル）エチルアミンＮ−メチ
ル一２−アミノ−１，１−ジフエニル−１−プロパノー
ルＮーエチルー２ーアミノー１，１−ジフエニルー１ー
プロパノールＮ−ペンジル−２−アミノ−１，１−ジフ
エニルー１ープロ／ぐノールＮーメチル−２−アミノー
１，１ージベンジルー１ープロパノールＮーメチル−２
ーアミノ−１，１ージフエニルー４ーメチルー１−ペン
タノールＮーメチルー２−アミノー１，１ージベンジル
ー４ーメチルー１−ペンタノールＮ−メチル一２−アミ
ノー１，１，２ートリフヱニルヱタノールＮ−メチル一
２−アミノー１，１−ジ（２ーイソプロポキシフエニル
）一３ーフエニル−１−プロ／ヤノー′レＮ−メチル−
２ーアミノー１，１ージ（２ーメトキシフエニル）−１
ープロパノールＮ−メチル一２ーアミ／−１，１ージ（
２ーイソプロポキシ−５‐メチルフエニル）一３−フエ
ニル−１−プロ／ぐノールＮ−メチル一２−アミノー１
，１，３−トリフエニル−１ープロ／ぐノールなどを挙
げることができ必要に応じてこれらのＲ体あるいはＳ体
いずれを用いてもよい。 本発明の方法によって得られる光学活性ァミドカルボン
酸（１）としては具体的に次のような化合物を挙げるこ
とができる。 １，３−ジベンジルー４，５ーシス−４ーカルボキシー
５−｛ＮーメチルーＮ−（１ーフエニルエチル）カルバ
モイル｝イミダゾリジン−２ーオン１，３ージベンジル
ー４，５ーシスー４ーカルボキシー５一｛Ｎーベンジル
−Ｎ一（１ーフエニルエチル）力ルバモイル｝イミダゾ
リジン−２−オン１，３−ジベンジルー４，５−シスー
４ーカルポキシー５−〔Ｎ−メチル一Ｎ一｛１−（ａー
ナフチル）エチル｝カルバモイル）イミダゾリジン−２
ーオン１，３−ジベンジルー４，５−シス−４ーカルボ
キシー５一〔Ｎ−ペンジルーＮ一｛１−（ａーナフチル
）エチル｝カルバモイル〕イミダゾ１」ジン−２−オン
１，３−ジベンジル−４，５−シスー４ーカルボキシ−
５一〔ＮーメチルーＮ一｛１−フエニル−２−（ｐ−ト
リル）エチル｝力ルバモイル〕イミダゾリジンー２ーオ
ン１，３−、ジベンジルー４，５−シスー４ーカルボキ
シ−５一〔Ｎ−ペンジルーＮ−｛１ーフエニルー２−（
ｐートリル）エチル｝カルバモイル〕イミダゾリジンー
２ーオン１，３ージベンジル−４，５ーシス−４ーカル
ボキシ−５−〔Ｎ−メチル一Ｎ−｛（１ーメチルー２，
２−ジフエニルー２−ヒドロキシ）エチル｝カルバモイ
ル〕イミダゾリジン山２ーオン１，３ージベンジルー４
，５ーシス−４ーカルボキシ−５−〔Ｎ−エチル−Ｎ一
｛（１ーメチルー２，２−ジフエニルー２ーヒドロキシ
）エチル｝カルバモイル〕イミダゾジンー２ーオン１，
３ージベンジルー４，５ーシスー４−力ルボキシー５−
〔ＮーベンジルーＮ−｛（１ーメチルー２，２−ジフエ
ニルー２ーヒドロキシ）エチル｝カルバモイル〕イミダ
ゾリジン山２ーオン１，３−ジベンジル−４，５ーシス
ー４−力ルボキシ−５−〔Ｎ−メチル−Ｎ一｛（１ーメ
チルー２，２−ジベンジル−２ーヒドロキシ）エチル｝
カルバモイル〕イミダゾｌｊジンー２−オン１，３ージ
ベンジルー４，５−シスー４ーカルボキシ−５一〔Ｎー
メチルーＮ一｛（１ーイソブチルー２，２ージフエニル
ー２−ヒドロキシ）エチル｝カルバモイル〕イミダゾリ
ジンー２−オン１，３ージベンジルー４，５ーシスー４
ーカルボキシ−５−〔ＮーメチルーＮ｛（１−イソブチ
ルー２，２−ジベンジルー２ーヒドロキシ）エチル｝カ
ルバモイル〕イミダゾリジンー２ーオン１，３ージベン
ジルー４，５−シスー４−力ルボキシー５−〔Ｎーメチ
ル−Ｎ｛（１，２，２−トリフエニル−２ーヒドロキシ
）エチル｝力ルバモイル〕イミダゾＩＪジンー２−オン
１，３−ジベンジルー４，５ーシスー４ーカルボキシー
５−（ＮーメチルーＮ〔｛１−ペンジル−２，２−ジ（
２−インプロポキシフエニル）一２−ヒドロキシ｝エチ
ル〕力ルバモイル）イミダゾリジン−２−オン１，３ー
ジベンジル−４，５ーシス−４−力ルボキシ−５一（Ｎ
ーメチルーＮ〔（１ーメチル−２，２−ジ（２ーメトキ
シフエニル）一２−ヒドロキシ｝エチル〕カルバモイル
）イミダゾリジンー２ーオン１，３ージベンジルー４，
５ーシス−４ーカルボキシー５一（ＮーメチルーＮ〔｛
１−ペンジルー２，２ージ（２ーイソプロポキシ−５ー
メチルフエニル）一２ーヒドロキシ｝エチル〕力ルバモ
イル）イミダゾリジンー２ーオン１，３−ジベンジルー
４，５−シス−４ーカルボキシー５−〔Ｎｎメチル一Ｎ
｛（１ーベンジルー２，２−ジフエニルー２ーヒドロキ
シ）エチル｝カルバモイル〕イミダゾリジンー２−オン
次に本発明を実施する方法について説明する。 ジカルボン酸（風）またはジカルボン酸無水物（Ｗ）と
光学活性二級アミンＲ，ＮＨＲ２とを反応させる場合通
常溶媒中で行う。用いる溶媒としては、各々の原料とは
直接反応しない任意の不活性有機溶媒があげられるが、
特にベンゼン、トルェン、キシレン等の芳香族炭化水素
およびェーサル、テトラヒドロフラソ、ジオキサン、１
，２ージメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチ
ルェーテル等のエーテル類が有利に用いられる。また、
ピリジン、トリエチルアミン、トリプチルアミンの如き
第三級アミン等の塩基性物質の添加も有効である。反応
温度に関しては特に制限はない。 ジカルボン酸無水物（Ｗ）を用いる場合は、一２０ｏｏ
から使用する溶媒の沸点までの間、好ましくは−２０ｑ
０から４０ｏｏの間で行われる。ジカルボン酸（ｍ）を
用いる場合は反応によって生成する水を除去するのが有
利である。 その方法としては、水と溶媒との共織蒸留あるいは適当
な脱水剤（例えばモレキュラーシーブ、ジシクロヘキシ
ルカルボジィミド）の添加があげられる。反応時間は原
料、溶媒、反応温度により影響をうけるが、ジカルボン
酸（ｍ）を用い溶媒の沸点で行うと１〜２加持間、ジカ
ルボン酸無水物（Ｗ）を用い２５ｑＣで行うと１０〜４
劉時間で反応は完結する。ジカルボン酸（ｍ）またはジ
カルボン酸無水物（Ｗ）と光学活性二級アミンＲ，ＮＨ
Ｒ２とのモル比は、等モル付近が好適であり、実際には
０．８〜１．２モルの間で用いられる。 反応後生成物の分離、精製は通常の手法がとられる。 すなわち溶媒の蟹去、適当な溶媒による抽出、洗浄およ
び各種クロマトグラフィーである。収率はほぼ定量的で
あり、反応の進行は薄層クロマトまたは高速液体クロマ
トで追跡できる。以下に実施例、参考例をあげて本発明
を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。実施例 １ Ｓ一Ｎ−メチル一１一フエニルエチルアミン１．３５夕
（ＩＱ舷ｏｌｅ）とトリエチルアミン１．０１夕（１０
脚ｏｌｅ）のテトラヒドロフラン１０私溶液をジカルポ
ン酸無水物（Ｗ）３．３６夕（ＩＱ舷ｏｌｅ）のテトラ
ヒドロフラン３０のＺ懸濁液中に２９０で擬伴下に３０
片かけて通下した。 通下終了時に反応液は均一溶液となった。さらに同温度
で４劉時間燈梓後、溶媒を蟹去し、残笹にクロロホルム
３０の
【とＩＮ−塩酸３０ｗ‘を加えて溶解し、クロロ
ホルム層をさらに飽和食塩水で洗浄後、三硝で乾燥し溶
媒を蟹去して１，３ージベンジル−４，５−シスー４ー
カルボキシ−５一〔メチル一Ｎ一Ｓ一（１フエニルヱチ
ル）カルバモイル〕イミダゾリジンー２−オンを４．４
８タ得た。収率９５．１％ｉｒ ｖｃ。１７４０，１７
１０，１６６０，１６４０肌‐ｌｍ．ｐ．７４．籍０〔
ａ〕。 一２６．〆（Ｃ＝１，ＣＨＣそ３ ）実施例 ２ Ｒ一Ｎーメチルー１一フエニルエチルアミン１．３５夕
（１０肌ｏｌｅ）とジカルボン酸（山）３．５４夕（１
仇岬ｏｌｅ）をキシレン５０必中共沸脱水を行いながら
４時間加熱還流した。 溶媒を蟹去して１，３ージベンジル−４，５−シスー４
−力ルボキシー５−〔Ｎ−メチル−Ｎ−Ｒ一（１ーフエ
ニルエチル）力ルバモイル〕イミダゾリジン−２−オン
を４．６６タ得た。 収率９９．０％ｍ．ｐ．７３．５℃〔ａ〕ｏ＋２９．０
０（Ｃ＝１，ＣＨＣそ３）参考例 １ （１）のメタノ
ールによるメチルェステル化による（Ｖ）の合成実施例
１で得た１，３−ジベンジル−４，５−シスー４−力ル
ボキシ−５一〔ＮーメチルーＮ−Ｓ一（１ーフエニルエ
チル）力ルバモイル〕イミダゾリジン−２ーオン４．４
８夕を２瓜れ％の塩化水素を含むメタノール５０の‘に
溶かし、２５℃で２■時間反応させた。 溶媒を留去すると１，３−ジベンジル−４，５−シス−
４ーメトキシカルポニル一５一〔Ｎメチル一Ｎ一Ｓ−（
１ーフエニルエチル）力ルバモイル〕イミダゾリジン−
２ーオンを４．５２夕を得た。収率灘．０％ｍ．ｐ．１
１３８ｑ０〔ａ〕ｏ−２１．ｙ（Ｃ＝１，ＣＨＣそ３
）ｉｒ Ｖの１７６０，１７２０，１７００，１６４０
弧‐Ｉ参考例 ２ （１）のジアゾメタンによるメチル
ェステル化による（Ｖ）の合成実施例１で得た１，３−
ジベンジルー４，５一シスー４−力ルボキシ−５−〔Ｎ
ーメチル−Ｎ−Ｓ一（１−フエニルエチル）力ルバモイ
ル〕イミダゾリジン−２−オン４．４８夕をテトラヒド
ロフラン５０の‘に溶かし、ジアゾメタン０．４２夕の
エチルエーテル５０泌溶液を滴下した。 溶媒を蟹去すると１，３ージベンジルー４，５−シスー
４ーメトキシカルポニル一５一〔Ｎ−メチル一Ｎ一Ｓ−
（１−フエニルヱチル）カルバモイル〕イミダゾリジン
ー２−オンを４．５２夕を得た。収率９８．０％物性値
は参考例１のものと同一であった。参考例 ３ （Ｖ）
の水素化ホウ素ナトリウム還元による（Ｗ）の合成 参
考例１で得た１，３−ジベンジルー４，５ーシス−４−
メトキシカルボニルー５一〔ＮーメチルーＮ一Ｓ一（１
−フエニルヱチル）カルバモイル〕イミダゾリジンー２
ーオン４．５２夕をテトラヒドロフラン４０の‘に溶か
し、水素化ホウ素ナトリウム１．１４夕の水１０の‘溶
液を加え、室温下に４細時間反応させた。 ＩＮ−塩酸３０の‘を加え、溶媒を蟹去し、残澄をクロ
ロホルムで抽出し、クロロホルム層をＩＮ−塩酸、飽和
食塩水で洗浄後、苧硝で乾燥し、溶媒を蟹去して１，３
−ジベンジル−４，５ーシス−４−ヒドロキシメチルー
５一〔ＮーメチルーＮ一Ｓ−（１ーフエニルエチル）力
ルバモイル〕イミダゾリジン−２ーオン３．８３タ得た
。収率９０．５％〔ａ〕ｏ−４４．６０（Ｃニ０．８，
ＣＨＣ〆３ ）ｉｒ ｖｏＨ３４００伽‐ｌｖｃｏ１７
００，１６００，１５５０参考例 ４ （Ｗ）の加水分
解およびラクトン化による（０）の合成参考例３で得た
１，３ージベンジルー４，５−シスー４−ヒドロキシメ
チルー５−〔Ｎーメチル−Ｎ−Ｓ一（１ーフエニルエチ
ル）力ルバモイル〕イミダゾリジン−２−オン３．８３
２をジオキサン４０の‘と２０％硫酸３０肌と共に５時
間加熱還流した。 溶媒を留去し残澄をクロロホルム３０叫で抽出し、クロ
ロホルム層をＩＮ−塩酸３０叫で２回洗浄し、飽和食塩
水で洗浄後、苧硝で乾燥後溶媒を蟹去し、残笹をシリカ
ゲルカラムクロマトで精製して、ラクトン（肌）を２．
４１タ得た。（ジカルボン酸無水物（Ｗ）から収率７５
．０％）物性値はｍ．ｐ．１０７．が○〔ａ〕。一１６
．び（Ｃ＝１，ＣＨＣ〆３ ）縛られたラクトン（０）
の光学純度（以下ｅ．ｅと略す）は、光学的純度の〔ａ
〕ｏ−６２．３０から計算して２７．０％であった。参
考例 ５ 光学活性二級ァミンの回収 参考例４のＩＮ−塩酸洗浄液を合し１０％苛性ソーダ水
溶液でｐＨを１２とした析出する油状物をエチルエーテ
ルで抽出し、エーテル層を水洗、葦硝乾燥後、溶媒を蟹
去するとＳ−Ｎーメチル−１−フェニルェチルアミンを
１．００タ回収した。 （回収率９０％）旋光度は〔ａ〕。一般．００（Ｃ＝２
．７ＥＴＯＨ）と出発原料と同一の値を示し、他のスペ
クトルデータ（ｉｒ，ｍｍｒ）も原料と一致した。参考
例 ６ 実施例２で得た１，３ージベンジル−４，５−シスー４
ーカルボキシー５一〔Ｎ−メチル−Ｎ−Ｒ−（１ーフエ
ニルエチル）力ルバモイル〕イミダゾリジン−２−オン
４．６６夕を参考例１，３，４に示したと同様にェステ
ル化、還元、加水分解、ラクトン化して、ラクトン（０
）を２．２５タ得た。 （ジカルボン酸（ｍ）から収率７０．０％）ｍ．ｐ．１
０６．９℃〔ａ〕。十１３‐４０（Ｃ＝１，ＣＨＣ夕３
）ｅ‐ｅ２１．５％実施例 ３ アミドカルボン酸（１
）の再結晶実施例１で得た１，３ージベンジル−４，５
−シス−４ーカルボキシー５−〔Ｎーメチル−Ｎ−Ｓ一
（１ーフエニルエチル）力ルバモイル〕イミダゾリジン
ー２ーオン２．２夕をクロロホルム１０叫と酢酸エチル
３０の‘およびｎ−へキサン６０の上の混合溶媒から再
結晶すると上記化合物０．９６タ得た（再結収率４３．
６％）。 ｍ．ｐ．１８９．８）○〔ａ〕ｏ−７．９０（Ｃ＝１，
ＣＨＣ夕３ ）参考例 ７ 実施例３で得た１，３ージベンジルー４，５ーシスー４
ーカルボキシー５一〔Ｎ−メチル−Ｎ−Ｓ一（１−フエ
ニルエチル）力ルバモイル〕イミダゾリジンー２−オン
０．９６９を参考例２，３，４に示したと同様にしてラ
クトン（Ｕ）を０．５３タ得た。 （カルボン酸無水物（Ｗ）より収率３５．２％）ｍ．ｐ
．１１３．２℃〔ａ〕。一弘．８０（Ｃ＝１，ＣＨＣ〆
３）ｅ．ｅ．磯．０％参考例 ８ アミドェステル（Ｖ
）の再結晶参考例１で得た１，３−ジベンジル−４，５
−シス−４ーメトキシカルボニル一５一〔Ｎ−メチル一
Ｎ一Ｓ−（１ーフエニルエチル〕力ルバモイル）イミダ
ゾリジン−２−オン４．０夕をクロロホルムｌｏｗ‘と
ｎ−へキサン４０肌の混合溶媒から再結晶して、上記化
合物１．８５タ得た。（再結収率４６．３％）ｍ．ｐ．
１４２．４００〔ａ〕。−２．６０（Ｃ＝１，ＣＨＣ〆
３）参考例 ９ 参考例８で得た１，３ージベンジルー４−メトキシカル
ボニルー５一〔ＮーメチルーＮ−Ｓ−（１ーフエニルヱ
チル）カルバモイル〕イミダゾリジンー２−オン１．８
５夕を参考例３，４に示したと同様にしてラクトン（０
）を０．９８タ得た。 （カルボン酸無水物（Ｗ）より収率３４．４％）ｍ．ｐ
．１１７．４ｑｏ〔ａ〕。−５９．１０（Ｃ＝１，ＣＨ
Ｃそ３ ）ｅ．ｅ．９４．９％実施例 ４〜１６ 実施例１と同様にして各種光学活性二級アミンＲ】ＮＨ
Ｒ２とカルボン酸無水物（Ｗ）とを反応させて、式（１
）の化合物を得た。 結果を表１にまとめて記す。参考例 １０〜２２ 実施例４〜１６により得られた式（１）の化合物を参考
例２，３，４に示したと同様にしてラクトン（１）を得
た。 結果を表１にまとめて記す。船側 鶏 二 実施例 ２０ アミドカルボン酸（１）のトリェチルアミン塩の再結晶
実施例９で得た１．３ジベンジル−４．５ーシスー４−
力ルボキシー５−〔ＮーメチルーＮ一Ｓ−｛（１ーメチ
ル−２，２ージフエニル−２ーヒドロキシ）エチル｝力
ルバモイル〕イミダゾリジン−２ーオン５．７７夕（１
０脚ｏｌｅ）とトリエチルアミン１．０１夕（１仇奴ｏ
ｌｅ）をィソプロパノ−ル３０の‘‘こ熱時溶解しｎ−
へキサン７５の‘を加えて、０℃で−晩放置した、析出
した結晶を炉取、乾燥して、４．４１夕（収率６５％）
のトリェチルアミン塩を得た。 ｍ．ｐ．１７７．４つ０〔ａ〕。‐４６．１０（Ｃ＝１
．０約ＨＣ１３）このトリヱチルアミン塩３．０夕をＩ
Ｎ−塩酸２０の【中に加え酢酸エチルで抽出して、１．
３ジベンジル一４．５ーシスー４ーカルボキシー５一〔
ＮーメチルーＮ一Ｓ一｛（１ーメチルー２，２−ジフエ
ニルー２ーヒドロキシ）エチル｝力ルバモイル〕イミダ
ゾリジン−２ーオンを２．４６タ得た。（収率９６．５
％）ｍ．ｐ．１１５．５ｑｏ〔ａ〕ｐ＋１．６ｏ（Ｃ＝
１．１にＨＣ１３）参考例 ２６ 実施例２０で得た１．３ジベンジル−４．５−シス−４
−力ルボキシ−５〔Ｎ−メチル一Ｎ−Ｓ｛（１ーメチル
−２，２−ジフエニルー２ーヒドロキシ）エチル｝カル
バモイル〕イミダゾリジンー２ーオン２．００夕を参考
例２，３，４に示したと同様にして、ラクトン（ロ）を
０．８１タ得た。
ホルム層をさらに飽和食塩水で洗浄後、三硝で乾燥し溶
媒を蟹去して１，３ージベンジル−４，５−シスー４ー
カルボキシ−５一〔メチル一Ｎ一Ｓ一（１フエニルヱチ
ル）カルバモイル〕イミダゾリジンー２−オンを４．４
８タ得た。収率９５．１％ｉｒ ｖｃ。１７４０，１７
１０，１６６０，１６４０肌‐ｌｍ．ｐ．７４．籍０〔
ａ〕。 一２６．〆（Ｃ＝１，ＣＨＣそ３ ）実施例 ２ Ｒ一Ｎーメチルー１一フエニルエチルアミン１．３５夕
（１０肌ｏｌｅ）とジカルボン酸（山）３．５４夕（１
仇岬ｏｌｅ）をキシレン５０必中共沸脱水を行いながら
４時間加熱還流した。 溶媒を蟹去して１，３ージベンジル−４，５−シスー４
−力ルボキシー５−〔Ｎ−メチル−Ｎ−Ｒ一（１ーフエ
ニルエチル）力ルバモイル〕イミダゾリジン−２−オン
を４．６６タ得た。 収率９９．０％ｍ．ｐ．７３．５℃〔ａ〕ｏ＋２９．０
０（Ｃ＝１，ＣＨＣそ３）参考例 １ （１）のメタノ
ールによるメチルェステル化による（Ｖ）の合成実施例
１で得た１，３−ジベンジル−４，５−シスー４−力ル
ボキシ−５一〔ＮーメチルーＮ−Ｓ一（１ーフエニルエ
チル）力ルバモイル〕イミダゾリジン−２ーオン４．４
８夕を２瓜れ％の塩化水素を含むメタノール５０の‘に
溶かし、２５℃で２■時間反応させた。 溶媒を留去すると１，３−ジベンジル−４，５−シス−
４ーメトキシカルポニル一５一〔Ｎメチル一Ｎ一Ｓ−（
１ーフエニルエチル）力ルバモイル〕イミダゾリジン−
２ーオンを４．５２夕を得た。収率灘．０％ｍ．ｐ．１
１３８ｑ０〔ａ〕ｏ−２１．ｙ（Ｃ＝１，ＣＨＣそ３
）ｉｒ Ｖの１７６０，１７２０，１７００，１６４０
弧‐Ｉ参考例 ２ （１）のジアゾメタンによるメチル
ェステル化による（Ｖ）の合成実施例１で得た１，３−
ジベンジルー４，５一シスー４−力ルボキシ−５−〔Ｎ
ーメチル−Ｎ−Ｓ一（１−フエニルエチル）力ルバモイ
ル〕イミダゾリジン−２−オン４．４８夕をテトラヒド
ロフラン５０の‘に溶かし、ジアゾメタン０．４２夕の
エチルエーテル５０泌溶液を滴下した。 溶媒を蟹去すると１，３ージベンジルー４，５−シスー
４ーメトキシカルポニル一５一〔Ｎ−メチル一Ｎ一Ｓ−
（１−フエニルヱチル）カルバモイル〕イミダゾリジン
ー２−オンを４．５２夕を得た。収率９８．０％物性値
は参考例１のものと同一であった。参考例 ３ （Ｖ）
の水素化ホウ素ナトリウム還元による（Ｗ）の合成 参
考例１で得た１，３−ジベンジルー４，５ーシス−４−
メトキシカルボニルー５一〔ＮーメチルーＮ一Ｓ一（１
−フエニルヱチル）カルバモイル〕イミダゾリジンー２
ーオン４．５２夕をテトラヒドロフラン４０の‘に溶か
し、水素化ホウ素ナトリウム１．１４夕の水１０の‘溶
液を加え、室温下に４細時間反応させた。 ＩＮ−塩酸３０の‘を加え、溶媒を蟹去し、残澄をクロ
ロホルムで抽出し、クロロホルム層をＩＮ−塩酸、飽和
食塩水で洗浄後、苧硝で乾燥し、溶媒を蟹去して１，３
−ジベンジル−４，５ーシス−４−ヒドロキシメチルー
５一〔ＮーメチルーＮ一Ｓ−（１ーフエニルエチル）力
ルバモイル〕イミダゾリジン−２ーオン３．８３タ得た
。収率９０．５％〔ａ〕ｏ−４４．６０（Ｃニ０．８，
ＣＨＣ〆３ ）ｉｒ ｖｏＨ３４００伽‐ｌｖｃｏ１７
００，１６００，１５５０参考例 ４ （Ｗ）の加水分
解およびラクトン化による（０）の合成参考例３で得た
１，３ージベンジルー４，５−シスー４−ヒドロキシメ
チルー５−〔Ｎーメチル−Ｎ−Ｓ一（１ーフエニルエチ
ル）力ルバモイル〕イミダゾリジン−２−オン３．８３
２をジオキサン４０の‘と２０％硫酸３０肌と共に５時
間加熱還流した。 溶媒を留去し残澄をクロロホルム３０叫で抽出し、クロ
ロホルム層をＩＮ−塩酸３０叫で２回洗浄し、飽和食塩
水で洗浄後、苧硝で乾燥後溶媒を蟹去し、残笹をシリカ
ゲルカラムクロマトで精製して、ラクトン（肌）を２．
４１タ得た。（ジカルボン酸無水物（Ｗ）から収率７５
．０％）物性値はｍ．ｐ．１０７．が○〔ａ〕。一１６
．び（Ｃ＝１，ＣＨＣ〆３ ）縛られたラクトン（０）
の光学純度（以下ｅ．ｅと略す）は、光学的純度の〔ａ
〕ｏ−６２．３０から計算して２７．０％であった。参
考例 ５ 光学活性二級ァミンの回収 参考例４のＩＮ−塩酸洗浄液を合し１０％苛性ソーダ水
溶液でｐＨを１２とした析出する油状物をエチルエーテ
ルで抽出し、エーテル層を水洗、葦硝乾燥後、溶媒を蟹
去するとＳ−Ｎーメチル−１−フェニルェチルアミンを
１．００タ回収した。 （回収率９０％）旋光度は〔ａ〕。一般．００（Ｃ＝２
．７ＥＴＯＨ）と出発原料と同一の値を示し、他のスペ
クトルデータ（ｉｒ，ｍｍｒ）も原料と一致した。参考
例 ６ 実施例２で得た１，３ージベンジル−４，５−シスー４
ーカルボキシー５一〔Ｎ−メチル−Ｎ−Ｒ−（１ーフエ
ニルエチル）力ルバモイル〕イミダゾリジン−２−オン
４．６６夕を参考例１，３，４に示したと同様にェステ
ル化、還元、加水分解、ラクトン化して、ラクトン（０
）を２．２５タ得た。 （ジカルボン酸（ｍ）から収率７０．０％）ｍ．ｐ．１
０６．９℃〔ａ〕。十１３‐４０（Ｃ＝１，ＣＨＣ夕３
）ｅ‐ｅ２１．５％実施例 ３ アミドカルボン酸（１
）の再結晶実施例１で得た１，３ージベンジル−４，５
−シス−４ーカルボキシー５−〔Ｎーメチル−Ｎ−Ｓ一
（１ーフエニルエチル）力ルバモイル〕イミダゾリジン
ー２ーオン２．２夕をクロロホルム１０叫と酢酸エチル
３０の‘およびｎ−へキサン６０の上の混合溶媒から再
結晶すると上記化合物０．９６タ得た（再結収率４３．
６％）。 ｍ．ｐ．１８９．８）○〔ａ〕ｏ−７．９０（Ｃ＝１，
ＣＨＣ夕３ ）参考例 ７ 実施例３で得た１，３ージベンジルー４，５ーシスー４
ーカルボキシー５一〔Ｎ−メチル−Ｎ−Ｓ一（１−フエ
ニルエチル）力ルバモイル〕イミダゾリジンー２−オン
０．９６９を参考例２，３，４に示したと同様にしてラ
クトン（Ｕ）を０．５３タ得た。 （カルボン酸無水物（Ｗ）より収率３５．２％）ｍ．ｐ
．１１３．２℃〔ａ〕。一弘．８０（Ｃ＝１，ＣＨＣ〆
３）ｅ．ｅ．磯．０％参考例 ８ アミドェステル（Ｖ
）の再結晶参考例１で得た１，３−ジベンジル−４，５
−シス−４ーメトキシカルボニル一５一〔Ｎ−メチル一
Ｎ一Ｓ−（１ーフエニルエチル〕力ルバモイル）イミダ
ゾリジン−２−オン４．０夕をクロロホルムｌｏｗ‘と
ｎ−へキサン４０肌の混合溶媒から再結晶して、上記化
合物１．８５タ得た。（再結収率４６．３％）ｍ．ｐ．
１４２．４００〔ａ〕。−２．６０（Ｃ＝１，ＣＨＣ〆
３）参考例 ９ 参考例８で得た１，３ージベンジルー４−メトキシカル
ボニルー５一〔ＮーメチルーＮ−Ｓ−（１ーフエニルヱ
チル）カルバモイル〕イミダゾリジンー２−オン１．８
５夕を参考例３，４に示したと同様にしてラクトン（０
）を０．９８タ得た。 （カルボン酸無水物（Ｗ）より収率３４．４％）ｍ．ｐ
．１１７．４ｑｏ〔ａ〕。−５９．１０（Ｃ＝１，ＣＨ
Ｃそ３ ）ｅ．ｅ．９４．９％実施例 ４〜１６ 実施例１と同様にして各種光学活性二級アミンＲ】ＮＨ
Ｒ２とカルボン酸無水物（Ｗ）とを反応させて、式（１
）の化合物を得た。 結果を表１にまとめて記す。参考例 １０〜２２ 実施例４〜１６により得られた式（１）の化合物を参考
例２，３，４に示したと同様にしてラクトン（１）を得
た。 結果を表１にまとめて記す。船側 鶏 二 実施例 ２０ アミドカルボン酸（１）のトリェチルアミン塩の再結晶
実施例９で得た１．３ジベンジル−４．５ーシスー４−
力ルボキシー５−〔ＮーメチルーＮ一Ｓ−｛（１ーメチ
ル−２，２ージフエニル−２ーヒドロキシ）エチル｝力
ルバモイル〕イミダゾリジン−２ーオン５．７７夕（１
０脚ｏｌｅ）とトリエチルアミン１．０１夕（１仇奴ｏ
ｌｅ）をィソプロパノ−ル３０の‘‘こ熱時溶解しｎ−
へキサン７５の‘を加えて、０℃で−晩放置した、析出
した結晶を炉取、乾燥して、４．４１夕（収率６５％）
のトリェチルアミン塩を得た。 ｍ．ｐ．１７７．４つ０〔ａ〕。‐４６．１０（Ｃ＝１
．０約ＨＣ１３）このトリヱチルアミン塩３．０夕をＩ
Ｎ−塩酸２０の【中に加え酢酸エチルで抽出して、１．
３ジベンジル一４．５ーシスー４ーカルボキシー５一〔
ＮーメチルーＮ一Ｓ一｛（１ーメチルー２，２−ジフエ
ニルー２ーヒドロキシ）エチル｝力ルバモイル〕イミダ
ゾリジン−２ーオンを２．４６タ得た。（収率９６．５
％）ｍ．ｐ．１１５．５ｑｏ〔ａ〕ｐ＋１．６ｏ（Ｃ＝
１．１にＨＣ１３）参考例 ２６ 実施例２０で得た１．３ジベンジル−４．５−シス−４
−力ルボキシ−５〔Ｎ−メチル一Ｎ−Ｓ｛（１ーメチル
−２，２−ジフエニルー２ーヒドロキシ）エチル｝カル
バモイル〕イミダゾリジンー２ーオン２．００夕を参考
例２，３，４に示したと同様にして、ラクトン（ロ）を
０．８１タ得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１は低級アルキル基またはベンジル基で
あり、Ｒ＿２は不斉炭素を有するアラルキル基であり、
基中に低級アルキル基および／または水酸基および／ま
たは低級アルコキシ基を有することができる。 イミダゾリジン環の４．５位の置換基はシス配置である
。〕で示される新規光学活性イミダゾリジン−２−オン
誘導体。 ２ Ｒ＿２が１−フエニルエチル基、１−（ａ−ナフチ
ル）エチル基、または１−フエニル−２−（ｐ−トリル
）エチル基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ３ Ｒ＿２が式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、※は不斉炭素を表わす、Ｒ＿３は低級アルキ
ル基、フエニル基またはベンジル基である。 Ｒ＿４はベンジル基または基中に低級アルキル基および
／または低級アルコキシ基を有するか有しないフエニル
基である。〕である特許請求の範囲第１項記載の化合物
。 ４ 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、イミダゾリジン環の４．５位の置換基はシス
配置である。 〕で示されるジカルボン酸または 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、イミダゾリジン環の４．５位の置換基はシス
配置である。 〕で示されるジカルボン酸無水物と 式 Ｒ＿１ＮＨＲ＿２ 〔式中、Ｒ＿１は低級アルキル基またはベンジル基で
あり、Ｒ＿２は不斉炭素を有するアラルキル基であり、
基中に低級アルキル基および／または水酸基および／ま
たは低級アルコキシ基を有することができる。 〕で示される光学活性アミンとを反応させることを特徴
とする式▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＿１は低級アルキル基またはベンジル基で
あり、Ｒ＿２は不斉炭素を有するアラルキル基であり、
基中に低級アルキル基および／または水酸基および／ま
たは低級アルコキシ基を有することができる。 イミダゾリジン環の４，５位の置換基はシス配置である
。〕で示される新規光学活性イミダゾリジン−２−オン
誘導体の製法。
Priority Applications (6)
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| JP55095818A JPS603387B2 (ja) | 1980-07-10 | 1980-07-10 | 新規光学活性イミダゾリジン−２−オン誘導体およびその製法 |
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| ES503878A ES503878A0 (es) | 1980-07-10 | 1981-07-10 | Un procedimiento para la preparacion de un derivado cis-4,5-disustituidos de imidazolidin-2-ona opticamente activo. |
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| JP55095818A JPS603387B2 (ja) | 1980-07-10 | 1980-07-10 | 新規光学活性イミダゾリジン−２−オン誘導体およびその製法 |
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