JPS6032785A - ピペリジルカルビノ−ル誘導体の4級塩 - Google Patents

ピペリジルカルビノ−ル誘導体の4級塩

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JPS6032785A
JPS6032785A JP13877283A JP13877283A JPS6032785A JP S6032785 A JPS6032785 A JP S6032785A JP 13877283 A JP13877283 A JP 13877283A JP 13877283 A JP13877283 A JP 13877283A JP S6032785 A JPS6032785 A JP S6032785A
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JP
Japan
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compound
compound shown
acid
alkyl ester
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Pending
Application number
JP13877283A
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English (en)
Inventor
Kosuke Yamauchi
孝介 山内
Kaneaki Hattori
服部 兼明
Kentaro Tamaoki
玉置 健太郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KH Neochem Co Ltd
Original Assignee
Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は一般式(1) (但し、R1およびR2は低級アルキル基、R3は水素
原子、低級アルキル基または低級脂肪族アシル基、Aは
チェニル基またはフェニル基、Xは無機酸アルキルエス
テルの酸残基または有機強酸アルキルエステルの酸残基
を表す)で表されるピペリジルカルビノール誘導体の4
級塩に関する。
前記R++ R2,R3の定義中のアルキル基としては
炭素数1〜5のアルキルを包含し、メチル。
エチル、プロピル、ブチル、ペンチルが例示される。ア
シル基としてはホルミル、アセチル、プロピオニル、ブ
チリル等の炭素数1〜5のアシルを包含する。
又、Xの無機酸アルキルエステルの酸残基としては、た
とえばハロゲン原子が挙げられる。また、有機強酸アル
キルエステルの酸残基としては、たとLgip−トルエ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等が挙げることがで
きる。
前記一般式(りで表される化合物〔以下化合物(I)と
いう〕は新規化合物である。これを、たとえば氷酢酸中
で加熱するか、または臭化水素酸水中で加熱することに
より、一般式(II)きわめて容易に導くことができる
(後記参考側参照)。前記一般式(IF)で表される化
合物〔以下化合物(II)という〕は鎮圧作用や消化液
分泌抑制作用を有する有用な医薬品として知られている
〔特公昭48−31886号公報〕号 公報上り、化合物(II)の製法としては一般式() (但し、式中のRj、R3+ Aは前記と同義を表す)
で示されビベリジリデンメタン誘導体を一般式(IV) R2X (IV) (但し、式中R2は前記と同義を表す)で示される無機
酸のアルキルエステルと反応させる方法が知られている
〔特公昭4日−31886号公報〕号 公報上ながら、この方法では化合物1)は通常高沸点を
有する油状の物質である。したがって、化合物(I[I
)を合成してくるまでの過程で混入してくる種々の夾雑
物を除き、高品質の化合物(I[I)をえるためには工
業的に繁雑な操作を加えなければならない。また、この
ために収率の大きな低下がみられる。しかるに、化合物
(II)は通常の溶媒で結晶化しやすい物質である。こ
のことから、(3) この段階での精製が行われているのが一般的である。し
かしながら、化合物(IT)は最終製品であることから
、この段階での収率の低下は工業的に有利な方法とはい
いがたい。
このように化合物(II)の製法として公知の方法は種
々の欠点を有していることから、工業的に安価で、かつ
容易な方法で高品質の化合物(n)の製法の開発が望ま
れている。
以上の点に鑑みて、本発明者らは高品質の化合物(II
)を安価に、また容易に製造すべく鋭意研究した。その
結果、化合物(1)は溶媒を選択することにより、極め
て結晶性が容易であり、高純度のものが得られること、
また化合物(I)を脱水反応に附すことによって、副反
応を併発することなく、容易に化合物(n)に導くこと
ができることを見出し、本発明を完成した。
本発明の化合物を製造する容易な方法としてはつぎの方
法がある。
(式中R,,R3,Aは前記と同義を表す)を原料とし
て、化合物(mV)を反応させることによって、容易に
高品質で通常結晶性の化合物(1)(4) を得ることができる。
すなわち、化合物(V)を適当な有機溶媒に溶解して、
化合物(rV)を反応させる。
本反応において使用される有機溶媒としてはトルエン、
酢酸エチルエステル、アセトン、エタノール等が用いら
れることができる。なかでもトルエン、酢酸エチルエス
テル等は結晶性のよい目的物が得られるので工業的に有
利に使用することができる。反応温度は一10〜80℃
の範囲で選ぶことができる。好ましくは0〜50℃であ
る。反応時間は反応温度によって異なるが、1〜24時
間である。また、使用する化合物(TV)の原料に対す
るモル比は1〜3倍モルで十分である。
このようにして得られた反応生成物は常法により単離、
精製される。たとえば、反応液をそのまま濾過するだけ
で高品質の化合物(1)を高収率で得ることができる。
以下、実施例及び参考例について示す。
実施例1゜ ジー(2−チェニル)−(N−メチル−5−メトキシ−
3−ピペリジル)カルビノール]、Ogをテトラヒドロ
フラン20m1に溶解し、臭化メチル0.77gを水冷
下漬下する。室温で1時間攪拌し析出する結晶を濾取し
て、ジー(2−チェニル)−(N−メチル−5−メトキ
シ−3−ピペリジル)カルビノールメトブロマイド1.
20gを得る。
m、p、133〜135℃(分解) 元素分析 C,7H,、N0232Br (%)計算値
 C48,80i H5,78、N 3.35実測値 
C48,67i H5,93i N 3.29NMRス
ペクトル(90Ml(z DMSO−d6中)3.23
 ppm (3H,シングレット、−0CH3)、6.
69 ppm (I H,シングレット、−0H)、6
.90〜7.40 ppm (6H、7pvチプL/7
ト、−2−チェニル基) 実施例2゜ ジー(2−チェニル)−(N−メチル−5−メトキシ−
3−ピペリジル)カルビノール1.0gをトルエン30
1および酢酸エチル5mlの混合溶媒に溶解し、ヨウ化
メチル800■を加える。室温下4時間攪拌し、析出す
る結晶を濾取して、ジー(2−チェニル)=(N−メチ
ル−5−メトキシ−3−ピペリジル)カルビノールメト
ヨウダイト1.32gt−得る。 m、p、120〜1
22℃元素分析 C,ヮHユN02S21(%)計算値
 C43,87i H5,20i N 3.01実測値
 C43,61i H5,30i N 2.85NMR
スペクトル(90MHz DMSO−d6中)3.23
 ppm (3H、シングレット、−0CI(3)、6
.71 ppm (l H,シングレット、−0H)、
6.91〜7.40 ppm (6H,マルチプレット
、−2−チェニル基) 実施例3゜ ジー(2−チェニル)−(N−メチル−5−メトキシ−
3−ピペリジル)カルビノール1.0gをエタノール2
0m1に溶解し、p−トルエンスルホン酸メチル560
■を加える。室温下、4時間攪拌し、同温度で一夜放置
する。析出する結晶を濾取して、ジー(2−チェニル)
−(N−メチル−5−メトキシ−3−ピペリジ)カルビ
ノールメト−p−トルエンスルホネート1.05gt−
得る。
m、p、197.5〜199.5℃ 元素分析 C糾H,、N05S4う (%)計算値 C
56,55; H6,13i N 2.75実測値 C
56,46i H6,19i N 2.6ONMRスペ
クトル(90MHz DMSO−ds中)2.27 p
pm (3H,シングレット、−CI+3)、3.22
 ppm (3H,シングレット、−0(J13)、6
.73 ppm (I H,シングレット、−0H)、
(7) 6.9(1−7,57ppm (IOH,?ルチブレソ
ト、−2−チェニル基および一□303−) 参考例1゜ ジー(2−チェニル)−(N−メチル−5−メトキシ−
3−ピペリジル)カルビノールメトブロマイド500■
を氷酢酸5mlに溶解し、4時間還流する。反応終了後
、溶媒を留去し、アセトン5mlを加える。析出する結
晶を濾取して、ジー(2−チェニル)=(N−メチル−
5−メトキシ−3−ピペリジリデン)メタンメトブロマ
イド320■を得る。 m、p、195〜197℃元素
分析 CI7 H:、x N OS 2 B r (%
)計算値 C51,01i H5,54、N 3.49
実測値 C50,90; H5,64i N 3.41
NMRスペクトル(90MHz DMSO−d6中)3
.16 pp□(3H,、>グL’yF+”Nゴ1H・
)、3.18 ppm (3H,シングレット、辺でC
H2,3,32ppm (3H,シングレット、−0C
H3)、7.00〜7.66 ppm (6H,?ルチ
プレソト、−2−チェニル基)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 (但し、R+およびR2は低級アルキル基、R3は水素
    原子、低級アルキル基または低級脂肪族アシル基、Aは
    チェニル基またはフェニル基、Xは無機酸アルキルエス
    テルの酸残基または有機強酸アルキルエステルの酸残基
    を表す)で表されるピペリジルカルビノール誘導体の4
    級塩
JP13877283A 1983-07-29 1983-07-29 ピペリジルカルビノ−ル誘導体の4級塩 Pending JPS6032785A (ja)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6011486A (ja) * 1983-06-30 1985-01-21 Sanyo Kagaku Kenkyusho:Kk ピペリジリデンメタン第4級塩の製法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6011486A (ja) * 1983-06-30 1985-01-21 Sanyo Kagaku Kenkyusho:Kk ピペリジリデンメタン第4級塩の製法

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