JPS60261105A - 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 - Google Patents
厚膜型正特性半導体素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS60261105A JPS60261105A JP59117019A JP11701984A JPS60261105A JP S60261105 A JPS60261105 A JP S60261105A JP 59117019 A JP59117019 A JP 59117019A JP 11701984 A JP11701984 A JP 11701984A JP S60261105 A JPS60261105 A JP S60261105A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thick film
- positive temperature
- semiconductor element
- batio3
- temperature coefficient
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Thermistors And Varistors (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59117019A JPS60261105A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59117019A JPS60261105A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60261105A true JPS60261105A (ja) | 1985-12-24 |
| JPH0534804B2 JPH0534804B2 (enrdf_load_html_response) | 1993-05-25 |
Family
ID=14701429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59117019A Granted JPS60261105A (ja) | 1984-06-07 | 1984-06-07 | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60261105A (enrdf_load_html_response) |
-
1984
- 1984-06-07 JP JP59117019A patent/JPS60261105A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0534804B2 (enrdf_load_html_response) | 1993-05-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS60261105A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS61101008A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS6012702A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS6158209A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS60261109A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS6012701A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS6158208A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS60260103A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS60260102A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS60206103A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPH0534807B2 (enrdf_load_html_response) | ||
| JPS6158204A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS6158207A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS6158210A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS61101007A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS60206102A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS61101004A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS6158211A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS60206105A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS59111302A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS61101003A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPS60261107A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 | |
| JPH04565B2 (enrdf_load_html_response) | ||
| JPH0534802B2 (enrdf_load_html_response) | ||
| JPS61101009A (ja) | 厚膜型正特性半導体素子の製造方法 |