JPS60255647A - 表示装置用透明導電膜形成法 - Google Patents
表示装置用透明導電膜形成法Info
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- JPS60255647A JPS60255647A JP11060684A JP11060684A JPS60255647A JP S60255647 A JPS60255647 A JP S60255647A JP 11060684 A JP11060684 A JP 11060684A JP 11060684 A JP11060684 A JP 11060684A JP S60255647 A JPS60255647 A JP S60255647A
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- Japan
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- paste
- transparent conductive
- conductive film
- roll coater
- compound
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- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、蛍光表示管や液晶表示素子等の表示装置の
外囲器内面に被着された透明導電膜の形成法に関するも
のである。
外囲器内面に被着された透明導電膜の形成法に関するも
のである。
一般に平形蛍光表示管においては、蛍光体層を被着した
陽極基板と陽極基板の周囲に立設された側面板と、側面
板の上端で陽極基板と対面するように配設された平面板
とで偏平箱形のガラス外囲器が形成されている。
陽極基板と陽極基板の周囲に立設された側面板と、側面
板の上端で陽極基板と対面するように配設された平面板
とで偏平箱形のガラス外囲器が形成されている。
この外囲器は絶縁性であるので、外囲器の内面、特に平
面板の内面には、静電防止及び外部電界の悪影響を防ぐ
ために透明導電膜が塗布形成されている。この透明導電
膜は、金属の酸化物、例えば５ｎ０２、Ｉｎ、Ｏｊ、
Ｃｄ０１ＺｎＯや金属の硫化物、例えばＣｄＳ、 Ｚｎ
Ｓ等各種知られているが、透明導電膜の強度や透明性の
点から実際に多く使用されているのは５ｎ０１とＩｎ２
０Ｂである。
面板の内面には、静電防止及び外部電界の悪影響を防ぐ
ために透明導電膜が塗布形成されている。この透明導電
膜は、金属の酸化物、例えば５ｎ０２、Ｉｎ、Ｏｊ、
Ｃｄ０１ＺｎＯや金属の硫化物、例えばＣｄＳ、 Ｚｎ
Ｓ等各種知られているが、透明導電膜の強度や透明性の
点から実際に多く使用されているのは５ｎ０１とＩｎ２
０Ｂである。
以下５ｎ０２の透明導電膜について説明する。
従来の５ｎ０２の透明導電膜の原料は５ｎＣ１４をアル
コール系溶媒で溶解した液である。
コール系溶媒で溶解した液である。
被着方法は、デツピング法、スプレー法、ＣｖＤ法、Ｐ
ＶＤ法と各種の方法があるが、スプレー法が多く使用さ
れている。
ＶＤ法と各種の方法があるが、スプレー法が多く使用さ
れている。
従来の透明導電膜の形成法は、５ｎＣ１４をアルコール
系有機溶剤に溶解した液を、約４５０〜５５０℃に加熱
させたガラス平面板上にスプレーして皮膜を形成させる
方法であった。しかしながら従来の方法には次のような
問題点を有していた。
系有機溶剤に溶解した液を、約４５０〜５５０℃に加熱
させたガラス平面板上にスプレーして皮膜を形成させる
方法であった。しかしながら従来の方法には次のような
問題点を有していた。
（１）透明導電膜の原料が塩化物であるためと、平面板
がソーダガラスであり、被着温度が４５０〜５５０℃と
高温のために、ガラスのアルカリ成分と５ｎＣ１４のＣ
１成分が反応してＮａＣ１やにＣ１等ができ透明膜が白
濁するという白化現象が起き透明性を悪くしていた。
がソーダガラスであり、被着温度が４５０〜５５０℃と
高温のために、ガラスのアルカリ成分と５ｎＣ１４のＣ
１成分が反応してＮａＣ１やにＣ１等ができ透明膜が白
濁するという白化現象が起き透明性を悪くしていた。
（２） ソーダガラス中のＮａ“が、温度が高い為に移
動し、５ｎＯｚ膜に入り込み、Ｓｎ０ｗ膜の導電性を悪
くし、皮膜の抵抗値を高くしていた。
動し、５ｎＯｚ膜に入り込み、Ｓｎ０ｗ膜の導電性を悪
くし、皮膜の抵抗値を高くしていた。
（３） ５ｎＣ１４を被着するときに、塩素ガスが発生
しＨＣｌが生成されるために金属で作った装置の腐食に
よる消耗が激しかった。
しＨＣｌが生成されるために金属で作った装置の腐食に
よる消耗が激しかった。
（４）透明導電膜の形成装置は、ガラス平面板の予備加
熱炉と５ｎＣ１ｑ液のスプレー部と、加熱焼成炉とが一
連に配設されている為に、装置全体の長さが非常に長く
なり、装置占有面積が大きくなる。また前記予備加熱炉
は、ガラス平面板を常温から４５０〜５５０℃まで除々
に加熱させる為に長く、コンベアー速度もあまり早くで
きず、形成させるまでの時間が長くかかった。また高温
加熱のため半面板にクラックが生じたり、割れてしまう
こともあった。
熱炉と５ｎＣ１ｑ液のスプレー部と、加熱焼成炉とが一
連に配設されている為に、装置全体の長さが非常に長く
なり、装置占有面積が大きくなる。また前記予備加熱炉
は、ガラス平面板を常温から４５０〜５５０℃まで除々
に加熱させる為に長く、コンベアー速度もあまり早くで
きず、形成させるまでの時間が長くかかった。また高温
加熱のため半面板にクラックが生じたり、割れてしまう
こともあった。
（５） ガラス平面板は、大きさがいろいろあり、大き
さが変るたびに、平均に被着されるように、ノズル構造
の選定、吹き付は圧、排ガス吸引速度の各種条件を決め
なければならず、メインテナンスがたいへんであった。
さが変るたびに、平均に被着されるように、ノズル構造
の選定、吹き付は圧、排ガス吸引速度の各種条件を決め
なければならず、メインテナンスがたいへんであった。
（６）特に大形基板（１辺が３００＋ｍ＋以上）の場合
は。
は。
膜厚にばらつきがでて、均一にすることは容易ではなか
った。
った。
本発明は、前述の事情に鑑みてなさ九たものであり、装
置の腐食が生じないように塩素成分の含まないＳｎ化合
物の被着原料を使用して、被着方法は膜厚の均一化に条
件設定等で容易でなく、かつ予備加熱炉の必要な吹き付
は法をやめ、常温で均一に被着できる方法で、大形基板
でも均一に形成され、装置がコンパクトになり、工程が
短縮化できる表示用透明導電膜形成法を提供することを
目的とするものである。
置の腐食が生じないように塩素成分の含まないＳｎ化合
物の被着原料を使用して、被着方法は膜厚の均一化に条
件設定等で容易でなく、かつ予備加熱炉の必要な吹き付
は法をやめ、常温で均一に被着できる方法で、大形基板
でも均一に形成され、装置がコンパクトになり、工程が
短縮化できる表示用透明導電膜形成法を提供することを
目的とするものである。
前述の目的を達成させるため本発明は、５ｎＸ２〔式中
Ｘは、β−ジケトン、β−ケトエステル、Ｎ−アルキル
、Ｎ−アルキル基置換アミノアルコール〕で示される２
細組アセチルアセトンとアンチモン化合物、例えばアン
チモントリエトキシドとアンチモントリイソプロポキサ
イドと、流動性調整剤、例えばエチルセルロースやニト
ロセルロース等と、有機溶剤、例えばジエチルグリコー
ル。
Ｘは、β−ジケトン、β−ケトエステル、Ｎ−アルキル
、Ｎ−アルキル基置換アミノアルコール〕で示される２
細組アセチルアセトンとアンチモン化合物、例えばアン
チモントリエトキシドとアンチモントリイソプロポキサ
イドと、流動性調整剤、例えばエチルセルロースやニト
ロセルロース等と、有機溶剤、例えばジエチルグリコー
ル。
カルピトール、ピリジン、アセチルアセトン等から選ば
れた１種又は２種以上の溶剤とからなる透明導電膜形成
用ペーストを、ロールコータによりガラス平面板上に均
一に被着した後加熱炉中で乾燥工程、焼付工程を経て表
示管用透明導電膜をガラス平面板上に形成させる方法で
ある。
れた１種又は２種以上の溶剤とからなる透明導電膜形成
用ペーストを、ロールコータによりガラス平面板上に均
一に被着した後加熱炉中で乾燥工程、焼付工程を経て表
示管用透明導電膜をガラス平面板上に形成させる方法で
ある。
〔実施例１〕
透明導電膜形成用ペーストは、２偏部キレート化合物と
して２細組アセチルアセトンを使用し、アンチモン化合
物としてアンチモントリエトキシドを使用し、流動性調
整剤としては、ニトロセルロースとジベンジリデンソル
ビトール（商品名、ゲルオールＤ、新日本理化）の２種
を使用し、溶剤として、カルピトールとピリジンを使用
していた。カルピトールは沸点が２０２℃、ピリジンの
沸点が１１５．６℃であり、常温では安定な液体である
。
して２細組アセチルアセトンを使用し、アンチモン化合
物としてアンチモントリエトキシドを使用し、流動性調
整剤としては、ニトロセルロースとジベンジリデンソル
ビトール（商品名、ゲルオールＤ、新日本理化）の２種
を使用し、溶剤として、カルピトールとピリジンを使用
していた。カルピトールは沸点が２０２℃、ピリジンの
沸点が１１５．６℃であり、常温では安定な液体である
。
各成分の配合割合の一例を示すと下記のとおりになる。
２細組アセチルアセトン ２０ 部
アンチモントリエトキシド ０．１部
ニトロセルロース ５ 部
ジベンジリデンソルビトール ２ 部
（ゲルオール）
カルピトール（沸点２０２℃）６８ 部ピリジン（沸点
１１５．６℃） ５ 部前記配合例により配合し混合し
たものは、常温で安定したペースト状になり、粘度は約
１０００ｃｐになる。したがって、公知のロールコータ
によりソーダガラス板（サイズ３００ Ｘ ３００ ｗ
、、厚さ２圃）からなる平面板上に１．５μ厚で均一に
塗布した。塗布した平面板は加熱炉に入れ、大気中で７
０〜１２０℃で１０分間の乾燥工程と、次に同じく大気
中で温度を上げて４５０〜６００℃で数分間の焼成工程
を経て、ガラス平面板上に均一の透明導電膜が形成され
た。
１１５．６℃） ５ 部前記配合例により配合し混合し
たものは、常温で安定したペースト状になり、粘度は約
１０００ｃｐになる。したがって、公知のロールコータ
によりソーダガラス板（サイズ３００ Ｘ ３００ ｗ
、、厚さ２圃）からなる平面板上に１．５μ厚で均一に
塗布した。塗布した平面板は加熱炉に入れ、大気中で７
０〜１２０℃で１０分間の乾燥工程と、次に同じく大気
中で温度を上げて４５０〜６００℃で数分間の焼成工程
を経て、ガラス平面板上に均一の透明導電膜が形成され
た。
３００ ｍｍ角の平面板に均一に形成された透明導電膜
の透明率を３点ａ点（右上）ｂ点（中心）Ｃ点（左下）
と測定したら、ａ点が９０％、ｂ点が８９％、Ｃ点が９
２％とバラツキが少なく、透明性も優れている値であっ
た。また透明導電膜の抵抗値は１８にΩ１口であった。
の透明率を３点ａ点（右上）ｂ点（中心）Ｃ点（左下）
と測定したら、ａ点が９０％、ｂ点が８９％、Ｃ点が９
２％とバラツキが少なく、透明性も優れている値であっ
た。また透明導電膜の抵抗値は１８にΩ１口であった。
〔実施例２〕
透明導電膜形成用ペーストは、２偏組キレート化合物と
して２細組アセチルアセトン、アンチモン化合物として
アンチモントリイソプロポキサイドと、流動性調整剤と
してニトロセルロース及びエチルセルロースと、溶剤と
してジエチレングリコール及びアセチルアセトン等の比
較的沸点の高い溶剤を使用し混合した。各成分の配合例
の一例を示すと下記のとおりである。
して２細組アセチルアセトン、アンチモン化合物として
アンチモントリイソプロポキサイドと、流動性調整剤と
してニトロセルロース及びエチルセルロースと、溶剤と
してジエチレングリコール及びアセチルアセトン等の比
較的沸点の高い溶剤を使用し混合した。各成分の配合例
の一例を示すと下記のとおりである。
２細組アセチルアセトン ２０ 部
アンチモントリイソプロポキサイド ０．１部ニトロセ
ルロース ４ 部 エチルセルロース ６ 部 ジエチレンゲルコール（沸点２４５℃）６２ 部アセチ
ルアセトン（沸点１３９℃） ８ 部前記配合例により
秤量し、混合したものはペースト状になり、粘度は常温
で約７００ｃｐを有していた。一般にロールコータには
５００〜５０００ｃｐ程度の粘度であれば塗布できるの
で、公知のロールコータによりソーダガラス（３００Ｘ
３００＋ｎｍ、厚さ２ｍｍ）からなる平面板に１．５
μ厚に均一に塗布できる。塗布後の乾燥工程（７０〜１
２０℃１０分）と焼付工程（４５０〜６００℃数分）は
第１実施例と同様である。
ルロース ４ 部 エチルセルロース ６ 部 ジエチレンゲルコール（沸点２４５℃）６２ 部アセチ
ルアセトン（沸点１３９℃） ８ 部前記配合例により
秤量し、混合したものはペースト状になり、粘度は常温
で約７００ｃｐを有していた。一般にロールコータには
５００〜５０００ｃｐ程度の粘度であれば塗布できるの
で、公知のロールコータによりソーダガラス（３００Ｘ
３００＋ｎｍ、厚さ２ｍｍ）からなる平面板に１．５
μ厚に均一に塗布できる。塗布後の乾燥工程（７０〜１
２０℃１０分）と焼付工程（４５０〜６００℃数分）は
第１実施例と同様である。
３００ ｍｍ角のガラス平面板に均一に形成された透−
明導電膜の透過率を第１実施例と同様に測定したらａ点
が８５％、ｂ点が８６％、Ｃ点が８５％とバラツキが少
ない値であり、透明性も優れていた。また透明導電膜の
抵抗値は４．２にΩ／口であった。
明導電膜の透過率を第１実施例と同様に測定したらａ点
が８５％、ｂ点が８６％、Ｃ点が８５％とバラツキが少
ない値であり、透明性も優れていた。また透明導電膜の
抵抗値は４．２にΩ／口であった。
以上説明したように本発明のＳｎ原料は、Ｓｎ成分を有
機錫にし、流動性調整剤を加えさらに沸点が比較的高い
溶剤を混合したものにより構成されているので常温で安
定したペースト状に保つことができる。したがって、ロ
ールコータ法によりガラス平面板に常温で均一に被着す
ることが可能にな。
機錫にし、流動性調整剤を加えさらに沸点が比較的高い
溶剤を混合したものにより構成されているので常温で安
定したペースト状に保つことができる。したがって、ロ
ールコータ法によりガラス平面板に常温で均一に被着す
ることが可能にな。
た。しかして高温でなく常温で被着することができるた
めに従来の予備加熱炉が必要なくなり省略できるため、
透明導電膜形成装置をコンパクトにすることができる。
めに従来の予備加熱炉が必要なくなり省略できるため、
透明導電膜形成装置をコンパクトにすることができる。
さらに予備加熱工程がなくなるので、その全工程時間も
短縮される効果も有している。またコーテング原料が塩
素を含有していないので、ソーダガラスのＮａ＋がＣ１
−と反応することはない。その結果ＮａＣ１やＫＣＩ等
が生成されず、白化現象を起す要因を除去でき、透明性
を向上させるという効果を有する。
短縮される効果も有している。またコーテング原料が塩
素を含有していないので、ソーダガラスのＮａ＋がＣ１
−と反応することはない。その結果ＮａＣ１やＫＣＩ等
が生成されず、白化現象を起す要因を除去でき、透明性
を向上させるという効果を有する。
またガラスの平面板の大きさが異なっている基板を連続
して流してもロールコータで被着するので均一に塗布す
ることが可能である。さらに塗布膜厚の調整や、ガラス
平面板の厚さ調整等は、きわめて容易に行えるので、メ
インテナンスが非常に容易である等得られる効果は大で
ある。
して流してもロールコータで被着するので均一に塗布す
ることが可能である。さらに塗布膜厚の調整や、ガラス
平面板の厚さ調整等は、きわめて容易に行えるので、メ
インテナンスが非常に容易である等得られる効果は大で
ある。
特許出願人 双葉電子工業株式会社
Claims (2)
- （１） ５ｎＸ２［式中Ｘは、β−ジケトン、β−ケト
エステル、Ｎ−アルキル、Ｎ−アルキル基置換アミノア
ルコール］で示される２価錫キレート化合物又はその加
水分解縮合物と、アンチモン化合物と、流動性調整剤と
、有機溶剤とからなる透明導電膜形成用ペーストをロー
ルコータによりガラス平面板上に被着した後、乾燥、焼
付することを特徴とする表示装置用透明導電膜形成法。 - （２）前記透明導電膜形成用ペーストの粘度が５００〜
５０００ｃｐになるよう流動性調整剤を加えたことを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の表示装置用透明導
電膜形成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11060684A JPS60255647A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 表示装置用透明導電膜形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11060684A JPS60255647A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 表示装置用透明導電膜形成法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60255647A true JPS60255647A (ja) | 1985-12-17 |
Family
ID=14540097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11060684A Pending JPS60255647A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 表示装置用透明導電膜形成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60255647A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61253724A (ja) * | 1985-05-02 | 1986-11-11 | 日産化学工業株式会社 | 透明導電膜形成用組成物 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4980119A (ja) * | 1972-12-06 | 1974-08-02 | ||
| JPS51112823A (en) * | 1975-03-29 | 1976-10-05 | Central Glass Co Ltd | Method and apparatus for production of glass which reflects heat rays |
| JPS5319313A (en) * | 1976-06-17 | 1978-02-22 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Method of covering support* especially glass* with thin layer of metallic oxide |
| JPS5473818A (en) * | 1977-11-24 | 1979-06-13 | Tokyo Denshi Kagaku Kk | Coating solution for forming transparent electric conductive layer and method of coating same |
| JPS565354A (en) * | 1979-06-21 | 1981-01-20 | Alps Electric Co Ltd | Paste for forming transparent conductive film |
| JPS57212268A (en) * | 1981-06-24 | 1982-12-27 | Hitachi Ltd | Pasty composition for forming transparent electrically conductive film and forming method of said film |
| JPS59195504A (ja) * | 1983-04-15 | 1984-11-06 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 複合材料用複合金属溶液 |
-
1984
- 1984-05-29 JP JP11060684A patent/JPS60255647A/ja active Pending
Patent Citations (7)
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| JPH0421285B2 (ja) * | 1985-05-02 | 1992-04-09 | Nissan Chemical Ind Ltd |
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