JPS60255366A - ダイヤモンド研磨紙の製造法 - Google Patents
ダイヤモンド研磨紙の製造法Info
- Publication number
- JPS60255366A JPS60255366A JP11057084A JP11057084A JPS60255366A JP S60255366 A JPS60255366 A JP S60255366A JP 11057084 A JP11057084 A JP 11057084A JP 11057084 A JP11057084 A JP 11057084A JP S60255366 A JPS60255366 A JP S60255366A
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- paper
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- grinding
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）技術分野
本発明は特に研磨特性に優れた研磨紙の製造法に関する
。
。
（■）技術背景
研磨紙はガラスやＳｉＣ粉末を砥粒として作られており
、高硬度材やセラミックス等の硬い材料の研磨は不可能
である。
、高硬度材やセラミックス等の硬い材料の研磨は不可能
である。
ダイヤモンドを砥粒として用いれば高硬度材用の研磨紙
が作られるものの原石の単価が高く、通常は使用されな
い。しかし焼入れや表面処理により高硬度の表面を持つ
金属材料が数多く使用されるようになり、高硬度の研磨
紙が必要となっている。さらに高密度のセラミックス部
材も多く使用されるようになったが、これ等は従来の研
磨紙では全く歯が立たない。
が作られるものの原石の単価が高く、通常は使用されな
い。しかし焼入れや表面処理により高硬度の表面を持つ
金属材料が数多く使用されるようになり、高硬度の研磨
紙が必要となっている。さらに高密度のセラミックス部
材も多く使用されるようになったが、これ等は従来の研
磨紙では全く歯が立たない。
これらに対する砥粒に要求される特性としては耐摩耗性
、低摩擦係数等が挙げられるが、ダイヤモンドはこれら
の観点からも優れた材料として注目を浴びている。
、低摩擦係数等が挙げられるが、ダイヤモンドはこれら
の観点からも優れた材料として注目を浴びている。
例えば、ビン−円板型華粒摩耗実験で円板材質を焼入鋼
（ＳＵＪ２）を例にとった場合５ ｍ ／ ｓｅｃの回
転速度では、ダイヤモンドの摩擦係数（η）はぼ０．３
であるのに対し、従来より使用されているＡｌ２Ｏ３、
やＳｉＣ砥粒では摩擦係数（η）０．４５〜０．５０を
示すこと、又ηの回転速度依存性について言及した場合
、ＳｉＣやＡｌ２Ｏ３砥粒では回転数の増加に伴いηは
低下するのに対し、ｄｉａｍｏｎｄのそれは回転速度に
拘らず一定値を示すことが知られている。
（ＳＵＪ２）を例にとった場合５ ｍ ／ ｓｅｃの回
転速度では、ダイヤモンドの摩擦係数（η）はぼ０．３
であるのに対し、従来より使用されているＡｌ２Ｏ３、
やＳｉＣ砥粒では摩擦係数（η）０．４５〜０．５０を
示すこと、又ηの回転速度依存性について言及した場合
、ＳｉＣやＡｌ２Ｏ３砥粒では回転数の増加に伴いηは
低下するのに対し、ｄｉａｍｏｎｄのそれは回転速度に
拘らず一定値を示すことが知られている。
（ハ）発明の開示
本発明は連続的に安価なダイヤモンド粒子を、シート上
に生成させることによりダイヤモンドを砥粒とする研磨
紙を製造する方法に関する。
に生成させることによりダイヤモンドを砥粒とする研磨
紙を製造する方法に関する。
気相合成によりダイヤモンドを得る技（ネテは既に数多
く提案されているが、粒子状もしくは膜状に生成される
ことが知られている。この粒状ダイヤモンドをはがして
砥粒とすることはやはり高価であって、研磨紙を目的と
した製造法としては適していない。
く提案されているが、粒子状もしくは膜状に生成される
ことが知られている。この粒状ダイヤモンドをはがして
砥粒とすることはやはり高価であって、研磨紙を目的と
した製造法としては適していない。
発明者は、気相より生成した粒状ダイヤモンドを直接研
磨紙として利用する方法を考えるに至った。
磨紙として利用する方法を考えるに至った。
本発明を工業的に実現させる為には下記の要点が必要で
ある。
ある。
■ダイヤモンド気相合成温度に耐え得る基板上にダイヤ
モンド粒子を生成させる。
モンド粒子を生成させる。
■上記基板を連続的に移動させる。
基板は通常７００℃以上のダイヤモンドの合成温度に耐
える物質である必要がある。従ってＭ。
える物質である必要がある。従ってＭ。
Ｔｉ、Ｗ等の耐熱金属が適するが、研磨紙自体を屈曲さ
せて用いる場合が多いので、該金属は０、１ ｆｆｌ″
以下の厚さであることが好ましい。上述の金属をｏ、
ｉ ″ｆｆｌ以下の薄板としたものは高価であるが、ス
テンレスや鋼等の安価な金属によっても実現は可能であ
るが、ステンレスや綱は７００℃以上の高温とすれば、
相変態が起りダイヤモンド粒子の密着性が下がる場合も
あり考慮が必要である。
せて用いる場合が多いので、該金属は０、１ ｆｆｌ″
以下の厚さであることが好ましい。上述の金属をｏ、
ｉ ″ｆｆｌ以下の薄板としたものは高価であるが、ス
テンレスや鋼等の安価な金属によっても実現は可能であ
るが、ステンレスや綱は７００℃以上の高温とすれば、
相変態が起りダイヤモンド粒子の密着性が下がる場合も
あり考慮が必要である。
ダイヤモンドの気相合成法はＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ
法、イオンビーム蒸着法等の種々の手段が知られている
が粒子状のダイヤモンドの析出の為には、ＣＶＤ法やプ
ラズマＣＶＤ法が有効である。
法、イオンビーム蒸着法等の種々の手段が知られている
が粒子状のダイヤモンドの析出の為には、ＣＶＤ法やプ
ラズマＣＶＤ法が有効である。
ダイヤモンド粒子が研磨中に、はがれ落ちない為には、
粒子の間隙を、樹脂等で埋めることが効果を持つ。
粒子の間隙を、樹脂等で埋めることが効果を持つ。
第１図は本発明を実現する装置の一例である。
■は金属薄板の供給源。
■はダイヤモンドの合成管である。
■はダイヤモンドを合成するためのガスをプラズマ化す
るコイルである。
るコイルである。
金属薄板にこの反応管でプラズマ化したＣＨ４とＨ２ガ
スからダイヤモンドが析出蒸着される。
スからダイヤモンドが析出蒸着される。
この後■により樹脂をかふせ■から供給される紙で裏打
ちし［相］で巻きとられる。
ちし［相］で巻きとられる。
実施例１
第１図に示す装置により、０，５−のＭ０板に粒径２０
μｍのダイヤモンド粒子を一面に析出させた。ダイヤモ
ンドは１％ＣＨ４を含むＨ２ガスを１３．５６ＭＨ２の
高周波でプラズマ化し、プラズマゾーンを約１時間で通
過して得られた。
μｍのダイヤモンド粒子を一面に析出させた。ダイヤモ
ンドは１％ＣＨ４を含むＨ２ガスを１３．５６ＭＨ２の
高周波でプラズマ化し、プラズマゾーンを約１時間で通
過して得られた。
ダイヤモンドの密度は、１龍２に約１２００ケ程度であ
り互いに接している粒子はほとんど見られなかった。こ
れをエポキシ樹脂で固めｌＮ１１厚の祇で裏打ちした。
り互いに接している粒子はほとんど見られなかった。こ
れをエポキシ樹脂で固めｌＮ１１厚の祇で裏打ちした。
この研磨紙は、アルミナ（相対布置９８％）の高質アル
ミナの研磨が可能であった。
ミナの研磨が可能であった。
第１図は本願発明を実現すル装置の１例である。
に金属薄板の供給源 ２：反応室
Claims (2)
- （１）ダイヤモンドを砥粒とする研磨紙を製造す祇の製
造法。 - （２）薄板が、金属の薄板であることを特徴とする特許
請求の範囲第（１）項記載のダイヤモンド研磨紙の製造
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11057084A JPS60255366A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | ダイヤモンド研磨紙の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11057084A JPS60255366A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | ダイヤモンド研磨紙の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60255366A true JPS60255366A (ja) | 1985-12-17 |
| JPH0436833B2 JPH0436833B2 (ja) | 1992-06-17 |
Family
ID=14539177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11057084A Granted JPS60255366A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | ダイヤモンド研磨紙の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60255366A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6316977A (ja) * | 1986-07-04 | 1988-01-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テ−プ |
| JPH0187865U (ja) * | 1987-12-02 | 1989-06-09 | ||
| WO1995014553A1 (en) * | 1993-11-23 | 1995-06-01 | Plasmoteg Engineering Center | An abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof |
| US5643343A (en) * | 1993-11-23 | 1997-07-01 | Selifanov; Oleg Vladimirovich | Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof |
| US5711773A (en) * | 1994-11-17 | 1998-01-27 | Plasmoteg Engineering Center | Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60201877A (ja) * | 1984-03-28 | 1985-10-12 | Mitsubishi Metal Corp | 析出生成人工ダイヤモンド粒で構成されたダイヤモンド研磨砥石 |
-
1984
- 1984-05-29 JP JP11057084A patent/JPS60255366A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60201877A (ja) * | 1984-03-28 | 1985-10-12 | Mitsubishi Metal Corp | 析出生成人工ダイヤモンド粒で構成されたダイヤモンド研磨砥石 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6316977A (ja) * | 1986-07-04 | 1988-01-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | 研磨テ−プ |
| JPH0187865U (ja) * | 1987-12-02 | 1989-06-09 | ||
| WO1995014553A1 (en) * | 1993-11-23 | 1995-06-01 | Plasmoteg Engineering Center | An abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof |
| US5643343A (en) * | 1993-11-23 | 1997-07-01 | Selifanov; Oleg Vladimirovich | Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof |
| CN1090552C (zh) * | 1993-11-23 | 2002-09-11 | 普莱斯墨泰格工程中心 | 用于精密表面处理的磨料及其制造方法 |
| US5711773A (en) * | 1994-11-17 | 1998-01-27 | Plasmoteg Engineering Center | Abrasive material for precision surface treatment and a method for the manufacturing thereof |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0436833B2 (ja) | 1992-06-17 |
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