JPS60244054A - ボンデイングワイヤ用銅素材の製造方法 - Google Patents
ボンデイングワイヤ用銅素材の製造方法Info
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- H01L2924/012—Semiconductor purity grades
- H01L2924/01205—5N purity grades, i.e. 99.999%
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
本発明はIC、トランジスタ等半導体装置の結線に使用
されるボンディングワイヤ用銅素材の製造方法に関する
。
されるボンディングワイヤ用銅素材の製造方法に関する
。
[従来の技術]
一般に半導体装置の結線に使用されるボンディングワイ
ヤとしては金線やアルミニウム線が使用されるが、最近
はこの金線やアルミニウム線に替わる安価なボンディン
グワイヤとして銅線の適用が検討されている。この銅線
はワイヤボンディング上十分軟質である必要があること
から、これまでは従来存在する99.99〜99.99
9%程度の高純度の銅素材から製造した銅線を使用して
ボンディングワイヤとしての検討を行なってきた。しか
しながらこの銅線は、金線やアルミニウム線と比較する
と硬さを有するために、結線の際に半導体素子に割れな
どのボンディングダメージを与えることがある。
ヤとしては金線やアルミニウム線が使用されるが、最近
はこの金線やアルミニウム線に替わる安価なボンディン
グワイヤとして銅線の適用が検討されている。この銅線
はワイヤボンディング上十分軟質である必要があること
から、これまでは従来存在する99.99〜99.99
9%程度の高純度の銅素材から製造した銅線を使用して
ボンディングワイヤとしての検討を行なってきた。しか
しながらこの銅線は、金線やアルミニウム線と比較する
と硬さを有するために、結線の際に半導体素子に割れな
どのボンディングダメージを与えることがある。
従来、かかる高純度の銅素材の製造方法としては、電解
精練により得られた電気銅を帯域融解法(ゾーンメルト
法)により精製する方法がとられていた。
精練により得られた電気銅を帯域融解法(ゾーンメルト
法)により精製する方法がとられていた。
帯域融解法は金属の純化法として知られている方法であ
り、この場合電気胴中微量残存するAQ、Fe1Ni、
Pb、Si、Sn、Bi、Sb。
り、この場合電気胴中微量残存するAQ、Fe1Ni、
Pb、Si、Sn、Bi、Sb。
As、OlS、P等不純物を除去し、高純度の銅素材を
得るために行なわれる。しかしながらこの帯域融解法を
数回繰返しても、Fe、Ni等の不純物については除去
することができず、このため従来の銅素材の製造方法に
よればFe、Ni等の不純物の存在によりボンディング
ワイヤとして実用に供せる程度のビッカース硬さ60以
下の軟質の銅線を得ることは著しく困難であった。
得るために行なわれる。しかしながらこの帯域融解法を
数回繰返しても、Fe、Ni等の不純物については除去
することができず、このため従来の銅素材の製造方法に
よればFe、Ni等の不純物の存在によりボンディング
ワイヤとして実用に供せる程度のビッカース硬さ60以
下の軟質の銅線を得ることは著しく困難であった。
[発明が解決しようとする問題点]
本発明が解決しようとする問題点は、前記した銅素材の
製造方法にある。
製造方法にある。
本発明の目的は、上記問題点に鑑み、Fe1Ni等の不
純物を除去し、高純度の銅素材を確実に得ることができ
るボンディングワイヤ用銅素材の製造方法を提供するこ
とにある。
純物を除去し、高純度の銅素材を確実に得ることができ
るボンディングワイヤ用銅素材の製造方法を提供するこ
とにある。
E問題点を解決するための手段]
本発明は、上記問題点を解決するための手段として、電
解精練にJ:り得られた電気銅を陽極として電解精練を
数回繰返した後、前記電解精練により得られた高純度の
電気銅を帯域融解法にJ:り精製することを行なう。
解精練にJ:り得られた電気銅を陽極として電解精練を
数回繰返した後、前記電解精練により得られた高純度の
電気銅を帯域融解法にJ:り精製することを行なう。
[作用]
本発明は電気銅を帯域融解法により精1する前に、前記
電気銅を陽極として電解精練を数回繰返し行ない、これ
により帯域融解法では除去できないFe、Niなどの不
純物を事前に除去すると共に、電気銅そのものを高純度
化する。その後、前記により高純度化された電気銅を用
いて帯域融解法による精製を行ない、これにより純度9
9.999%以上の高純度の銅素材を得る。
電気銅を陽極として電解精練を数回繰返し行ない、これ
により帯域融解法では除去できないFe、Niなどの不
純物を事前に除去すると共に、電気銅そのものを高純度
化する。その後、前記により高純度化された電気銅を用
いて帯域融解法による精製を行ない、これにより純度9
9.999%以上の高純度の銅素材を得る。
帯域融解法により精製を行なう場合、素材たる電気銅と
しては通常インゴットが用いられる。このインボッ1〜
は再電解精練された電気銅の高純度を維持するために、
普通10−5以上の真空度の真空溶解により製造される
。
しては通常インゴットが用いられる。このインボッ1〜
は再電解精練された電気銅の高純度を維持するために、
普通10−5以上の真空度の真空溶解により製造される
。
[実施例]
次に添付図面により本発明ボンディングワイヤ用銅素材
の製造方法の一実施例を説明する。
の製造方法の一実施例を説明する。
第1図はボンディングワイヤ用銅線の製造工程を示し、
素材としては電気銅粗銅板と第1種OFC銅箔板が用い
られる。電気銅粗銅板を陽極−3− とし、第1種OFC銅箔板を種板として再電解精練(−
次精製)を行ない、再電解銅つまり高純度電気銅を得る
。このような再電解精練は1回だけでなく、必要に応じ
て数回性なうことができ、これにJ:り特に「elNi
等の不純物を除去する。
素材としては電気銅粗銅板と第1種OFC銅箔板が用い
られる。電気銅粗銅板を陽極−3− とし、第1種OFC銅箔板を種板として再電解精練(−
次精製)を行ない、再電解銅つまり高純度電気銅を得る
。このような再電解精練は1回だけでなく、必要に応じ
て数回性なうことができ、これにJ:り特に「elNi
等の不純物を除去する。
つぎに再電解精練された高純度電気銅を10−6〜10
−7の高真空中で真空溶解し、その高純度を保持したま
まインゴットを製造する。このインゴットを旋削加工し
てルツボによる影響を除去したのち、このインゴットを
用いて帯域融解法による精製(二次精製)を3回繰返し
、高純度のゾーンメル]へ銅を得る。
−7の高真空中で真空溶解し、その高純度を保持したま
まインゴットを製造する。このインゴットを旋削加工し
てルツボによる影響を除去したのち、このインゴットを
用いて帯域融解法による精製(二次精製)を3回繰返し
、高純度のゾーンメル]へ銅を得る。
このゾーンメルト銅を旋削加工して線引用銅棒となし、
洗浄等の処理後線引加工を行ない、所定の線径(18〜
50μ)のボンディングワイヤ用銅線を得る。
洗浄等の処理後線引加工を行ない、所定の線径(18〜
50μ)のボンディングワイヤ用銅線を得る。
第2図は再電解精練装置の概要を示し、1は電解槽、2
は電解液、3は陰極に取付けられた第1種OFC銅箔板
からなる種板、4は陽極に取付けられた電気銅粗銅板、
5は電解液2の撹拌装置で−4− ある。Aは精密定電位制御装置、Bは電解液精製装置、
Cは液温制御装置である。
は電解液、3は陰極に取付けられた第1種OFC銅箔板
からなる種板、4は陽極に取付けられた電気銅粗銅板、
5は電解液2の撹拌装置で−4− ある。Aは精密定電位制御装置、Bは電解液精製装置、
Cは液温制御装置である。
この再電解精練装置においては、再電解精練を行なうた
めには、精密定電位制御装置Aにより銅の析出電位を精
密にコントロールすること、及び電解液を常に洗浄に保
つために常時循環すると共に電気波精製装置Bにより濾
過すること、ざらに液温を±1℃以内にフン1〜ロール
することが非常に重要である。
めには、精密定電位制御装置Aにより銅の析出電位を精
密にコントロールすること、及び電解液を常に洗浄に保
つために常時循環すると共に電気波精製装置Bにより濾
過すること、ざらに液温を±1℃以内にフン1〜ロール
することが非常に重要である。
本実施例により得られた銅線は、純度99.999%以
上であり、したがって非常に軟質である。そして、この
銅線を用いて半導体装置の結線を行なったところ、銅線
が非常に軟かいために半導体素子が結線時に損傷されず
、ボンディング時の作業性き極めて良好であった。
上であり、したがって非常に軟質である。そして、この
銅線を用いて半導体装置の結線を行なったところ、銅線
が非常に軟かいために半導体素子が結線時に損傷されず
、ボンディング時の作業性き極めて良好であった。
[発明の効果]
本発明ボンディングワイヤ用銅素材の製造方法によれば
、電解精練を数回繰返して得られた高純度の電気銅を帯
域融解法により精製することから、これにより容易に高
純度の銅素材を得ることがでぎ、そしてこの銅素材によ
れば結線時にボンディングダメージを与えることのない
軟質のボンディングワイヤ用銅線を容易に製造すること
ができる。
、電解精練を数回繰返して得られた高純度の電気銅を帯
域融解法により精製することから、これにより容易に高
純度の銅素材を得ることがでぎ、そしてこの銅素材によ
れば結線時にボンディングダメージを与えることのない
軟質のボンディングワイヤ用銅線を容易に製造すること
ができる。
また、本発明は従来の金線やアルミニウム線に替る安価
で実用に供し得るボンディングワイヤ用銅線の提供を可
能とするものであり、これによりさらに半導体装置のコ
スト低減を可能とするなどその工業的価値は極めて大き
いものがある。
で実用に供し得るボンディングワイヤ用銅線の提供を可
能とするものであり、これによりさらに半導体装置のコ
スト低減を可能とするなどその工業的価値は極めて大き
いものがある。
第1図は本発明ボンディングワイヤ用銅素材の製造方法
の一実施例説明図、第2図は再電解精練装置の概要説明
図である。 1;電解槽、2:電解液、3:種板、4:電気銅粗銅板
、5:撹拌装置。 7−
の一実施例説明図、第2図は再電解精練装置の概要説明
図である。 1;電解槽、2:電解液、3:種板、4:電気銅粗銅板
、5:撹拌装置。 7−
Claims (2)
- (1) 電解精練により得られた電気銅を陽極として電
解精練を数回繰返した後、前記電解精練により得られた
高純度の電気銅を帯域融解法により精製することを特徴
とするボンディングワイヤ用銅素材の製造方法。 - (2) 上記高純度の電気銅を真空溶解によりインゴッ
トにして帯域融解法により精製することを特徴とするボ
ンディングワイヤ用銅素材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59098753A JPH0823050B2 (ja) | 1984-05-18 | 1984-05-18 | ボンディングワイヤ用銅素材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59098753A JPH0823050B2 (ja) | 1984-05-18 | 1984-05-18 | ボンディングワイヤ用銅素材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60244054A true JPS60244054A (ja) | 1985-12-03 |
JPH0823050B2 JPH0823050B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=14228207
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59098753A Expired - Lifetime JPH0823050B2 (ja) | 1984-05-18 | 1984-05-18 | ボンディングワイヤ用銅素材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0823050B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01258812A (ja) * | 1988-04-08 | 1989-10-16 | Nippon Mining Co Ltd | 極細線の製造方法 |
JP2003048052A (ja) * | 2001-08-02 | 2003-02-18 | Nittetsu Micro Metal:Kk | 伸線用インゴットの製造方法及び製造装置 |
JP2004221609A (ja) * | 2004-03-05 | 2004-08-05 | Toshiba Corp | スパッタリングターゲット、その製造方法および銅配線膜 |
JP2007023390A (ja) * | 2006-09-21 | 2007-02-01 | Toshiba Corp | スパッタリングターゲットの製造方法および銅配線膜の製造方法 |
US9597754B2 (en) | 2011-03-07 | 2017-03-21 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper or copper alloy, bonding wire, method of producing the copper, method of producing the copper alloy, and method of producing the bonding wire |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5532795A (en) * | 1978-08-21 | 1980-03-07 | Huels Chemische Werke Ag | Separating hydrochloric acid from hydrobromic acid |
-
1984
- 1984-05-18 JP JP59098753A patent/JPH0823050B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP4672203B2 (ja) * | 2001-08-02 | 2011-04-20 | 株式会社日鉄マイクロメタル | 金ボンディングワイヤ用インゴットの製造方法 |
JP2004221609A (ja) * | 2004-03-05 | 2004-08-05 | Toshiba Corp | スパッタリングターゲット、その製造方法および銅配線膜 |
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US9597754B2 (en) | 2011-03-07 | 2017-03-21 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Copper or copper alloy, bonding wire, method of producing the copper, method of producing the copper alloy, and method of producing the bonding wire |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0823050B2 (ja) | 1996-03-06 |
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