JPS60239946A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は帯電防止処理を施した光情報記録媒体に関する
。

〔従来技術〕

光学式ビデオディスク、光学式オーディオディスク、Ｄ
ＲＡＷディスクにおける光情報記録媒体はプラスチック
の基板上にＴｅ、Ｂｉなどの金属記録層、色素記録層な
どを設けたものが基本であるが、記録層の表面を汚れ、
傷、ゴミの付着から保護するために保護層を設けたりあ
るいは記録層の表面を基板−記録層間に空気を介して封
じ込めるいわゆるエアーサンドイッチ構造とすることが
知られている。しかしながら、このような構成ばあ（ま
でも記録層の表面を保護する目的でなされたものであっ
て記録媒体の大気に接触する表面自体（以下単に「外表
面」と称す）から生じる障害の除去については配慮され
ていない。例えば、記録媒体の基板として最も多（使用
されているプラスチック（代表的にはポリカーボネート
樹り旨、アクリル樹月旨など）の場合にはプラスチック
はそれ自体電気の不良導体であるため摩擦により帯電し
やす（表面電位処して数１００〜数１０００Ｖに達し保
存時の吸塵により基板表面が汚れたり、放電により電気
回路が誤動作を起こしたり、記録再生用に用いる半導体
レーザが破損するという問題が往々にして生じる。また
、記録層に保護層が設けられている場合でも保護層の表
面に付着する塵などにより同様な障害が生じることが考
えられる。そこで、かかる障害を除去する手段が望まれ
ているのが実情である。

〔目　的〕

本発明は上記問題に鑑みてなされたものであって、その
主な目的は光情報記録媒体の外表面に帯電により付着す
る塵などを少なくし記録時および再生時に発生する情報
エラーを低減してメモリシステムの信頼性を向上させる
ことにある。また、本発明の目的は光情報記録媒体の外
表面に発生する静電気による障害例えば半導体レーザの
破損、ノイズによる回路誤動作を低減してメモリシステ
ムの信頼性を向上させることにある。

〔構　成〕

本発明者はかかる目的について種々検討を重ねた結果、
光情報記録媒体の外表面に発生する静電気による障害を
無視できないという着想を得、記録媒体の外表面に対し
て帯電防止処理を行なったところ上記目的が達成できる
ことを見出し本発明をなすに至った。

すなわち本発明は、少なくとも基板と記録層とから構成
される光情報記録媒体においてその大気に接触する表面
に対して帯電防止処理を施した光情報記録媒体を提供す
ることである。また、本発明における情報記録媒体には
、必要に応じて従来この分野で知られている他の層例え
ば保護層、中間層などを設けることもできる。

不発明の基本思想は光情報記録媒体の外表面に帯電によ
り生ずる静電気のため放電して物質を損傷したりちりや
ほこりが付着しやす（なったりするので帯電防止処理を
行なうことにあり、その方法は何ら制約されるものでは
ない。すなわち、本発明における帯電防止処理は、基本
的には情報記録媒体の外表面を導電率の大きな物質でお
おうか、吸湿しやすい物質でおおうか、高誘電率の物質
でおおうかなどにより行Ｔ、Ｃうことができ、その被処
理対象は基板に限らず大気に接触する保護層や他の層ま
で及ぶ。中間層（下引層）を被処理対象とする場合は記
録媒体製造時に発生する静電気を防止することができる
。

以下に、不発明による帯電防止処理を具体的に説明する
がこれに限定されるものではない。

１）界面活性剤を用いる処理 カチオン系、アニオン系、非イオン系または両性系界面
活性剤を導電性の担体として被処理材（例えば基板また
は保護層）に練込むかあるいは塗布することによって行
なわれる。練込み処理は被処理材中に界面活性剤を抹込
むもので　５− カチオン性のものとしてアミン（トリブチルアミン、リ
ン酸塩）、アミン酸化エチレン付加体が多く用いられる
。非イオン性ではポリオール、アルキルフェノールのエ
チレンオキサイド付加体、両性ではイミダシリン型、ア
ラニン型の金属塩が用いられる。これらの界面活性剤は
被処理材に対して約１％以下の量で用いられその表面に
移動し表面に導電層を形成する。塗布処理は界面活性剤
を被処理材の表面に塗布したものである。スプレー、浸
漬、ブラシ、ロール、コーテイング機により塗設され被
処理材上に界面活性剤の導電層を形成する。１０６〜１
０９Ω／Ｂｑ−程度の表面抵抗が得られる。ここで、界
面活性剤の代表例を以下に示す。

カチオン系 　６− Ｒ１は０８〜Ｃ２２のアルキルあるいはアルケニル基、
Ｒ２はＲ１と同じ基かベンジル基、Ｒは低級アルキル基
、Ｘとしてはノ・ロゲン、ＮＯ２、ＳＯ４、Ｒ−８０４
，過塩素酸根、サッカリン根などがある。

アニオン系 １ Ｒ１は０８〜Ｃ２２のアルキル基、アルケニル基あるい
はアルキルベンゼン基であり、ｍは２あるいは１である
。対イオンとしてはＮａＸＫ。

ＮＨ４、アルカノールアミンなどが一般的である。

両性系 Ｒ１−Ｎ−（ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ）ｎ（Ｈ）２−ｎ Ｒ１は０８〜Ｃ２２のアルキルあるいはアルケニル基で
あり、ｎは１または２であるが、ここでカルボニル基の
対イオンとしてＮａ、　Ｋ、　ＮＨ４、アにカノールア
ミンなどとともに各種アルカリ士金属なども考えられて
いる。

非イオン系 Ｒ，１−０（Ｃ’Ｈ２ＣＴ（２０）ｍＨＲｌはＣ８〜Ｃ
２２のアルキル基、アルケニル基あるいはアルキルベン
ゼン基であり、多価アルコールとしてはグリセリン以外
にポリグリセリンソルビタン、ショ糖などもある。ｍｌ
ま１またはそれ以上の適当な数である。

２）導電、性フィラーを用いる処理 この処理で導電性を発現させるために＆まフィラーは相
互に接触しているか極めて近接した位置になければなら
ない。透明性を付与するためにはフィラー同士の間に光
の透過に十分な間隙を存在させるかあるいはフィラーの
粒度を０．１μｍ以下にすることが必要である。導電性
フィラーとしては塩化リチウム、塩化マグネシウムなど
の無機塩類、クロロシラン、四塩化ケイ素の加水分解生
成物であるケイ素化合物、金属酸化物粉末、酸化インジ
ウム、酸化スズ、酸化アンチモンまたはその化合物ある
いは混合物が用いられる。これらのフィラーを樹脂に分
散させて得た分散液を直接被処理材上に塗布するかある
いは樹脂に分散させてフィルム状にした後被処理材に貼
り付けるなどして帯電防止層を形成することができる。

表面抵抗は１０９Ω／８ｑ、程度である。

３）　金属薄膜を用いる処理 Ａｕ、　Ａｇ、　ＣｒＸＣｕ、　Ｒｈ、メツシュ状Ａ４
などの金属薄膜を被処理材（例えば透明プラスチック基
板）上に単層、多層もしくはメツ−シュ状に形　９− 成する。透明性を発現させる金属膜の厚さは通常１００
Ｘ程度である。形成方法としては物理的気相堆積法例え
ば真空蒸着法、スパッタ法、イオンブレーティング法な
どを用いることができる。さらにプラスチックフィルム
上に上述のような金属を蒸着したものを別途作成しそれ
を被処理材上に貼り付けることもできる。金属薄膜は数
Ω／Ｂｑ、〜数１０Ω／８ｑ、の表面抵抗と７０〜８０
チの透過率を与える。

４）・　半導体薄膜を用いる処理 酸化インジウム系、酸化スズ系、酸化スズカドミウム系
、ヨウ化銅系、金属硫化物（Ｃｕ２８　。

ｅａｓｙ（Ｉｎ）、ＺｎｘＣｄ　１−ｘ　Ｓｎ　）、酸
化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素などの半導体
薄膜を上記３）と同様にして形成させる。例えば、ヨウ
化銅系の透明薄膜は表面抵抗が１０４〜１０６Ω／Ｓｑ
、であり透過率は７０〜８０％である。

１０− ５）シリカ系の帯電防止剤を用いる処理シリカ系の帯電
防止剤を例えば透明プラスチック基板上に塗布し表面に
シロキサンを主鎖とする層を形成して表面を吸湿性のガ
ラスに近い状態にする。

上述のようにして帯電防止処理を行なうことにより、光
情報記録媒体の外表面の帯電防止に実用上有効な１０９
Ω／Ｓｑ、以下の表面抵抗値を得ることができる。また
、本発明による帯電防止処理を行なうにあたっては形成
される帯電防止層が光を散乱せず使用するレーザ光の波
長に対して８０％以上の透過率を有するようにすること
が好ましい。

本発明における基板としてはプラスチック、ガラス、金
属、紙、セラミックスなどが用いられるが、基板を通し
て記録再生を行なう場合は使用光源の波長に対して透明
であることが必要である。また、記録層は少な（とも一
層からなる光反射性または光反射吸収性を示すものであ
って例えばアルミニウム、テルル、テルル酸化物、テル
ル含有物、ビスマス等の金属あるいは金属化合物または
シアニン系色素、メロシアニン系色素などの染料、顔料
などからなり、さらに必要に応じて他の第６成分例えば
バインダー、安定剤などを含有させることもできる。ま
た、本発明の記録媒体は基板の一面上に上記の記録層を
有するものであってもよ（その両面に記録層を有するも
のであってもよい。さらに、基板の一面上に記録層を設
けたものを２つ用い記録層を空間を介して対向配置させ
密封構造にすることもできる。

次に添付図面を参照して従来の記録媒体と本発明の記録
媒体の好適な例とを対比して説明する。

第１図は従来から知られている記録媒体の構成図である
。この記録媒体は矢印ＡおよびＢの方向から記録できる
両面ディスクである。記録媒体１は回転軸７のところに
中心穴６を有する円盤であって透明基板２、記録層３お
よび記録層３の接触を防ぐための空間４を保持するため
のスは−サ５から構成されており、空間４には空気ある
いは不活性ガスが充填されている。記録層３は光の反射
と吸収を兼備した物質例えばテルル、ビスマス、インジ
ウム、有機色素および顔料などからなる薄膜であって、
透明基板２を通して集光レンズ８によりレーザー光９を
集光照射し、小孔を形成する等して記録が行なえるよう
になっている。このような構成にすることにより記録層
３の機械的損傷と化学的作用による特性劣化が防止され
るが先に述べた問題点は免れない。空間４を保持するた
めのスペーサ１３− ５はガラス、プラスチック、ゴム、金属および合金など
でつくられている。

第２図は本発明の記録媒体の好適な構成図であり、第１
図と共通の符号は共通の構成物を示す。

本発明の記録媒体の特徴は第１図に示す従来の記録媒体
の外表面すなわち基板２．２の大気に接触する表面に透
明帯電防止層１０．１０を設けたものであってこれによ
り上述した障害を除去することができる。

〔実施例〕

以下に比較例とともに実施例をあげて本発明をさらに説
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。

１４− 〔効　果〕 本発明によれば、以下にあげる効果を得ることができる
。

（１）　光情報記録媒体の表面に静電気によりゴミが付
着することがな（、またゴミが付着しても気流、ブラシ
、ハケなどで容易に除去できるようになったので、ゴミ
による情報記録再生エラーが低減できる。

（２）放電により電気回路が誤動作を起こすことがな（
なる。

（３）　放電圧より半導体レーザが破損することを防ぐ
ことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の光情報記録媒体の構成を示す断面図であ
りそして第２図は本発明の光情報記録媒体の好ましい構
成を示す断面図である。 １・・・記録媒体、２・・・基板、３・・・記録層、４
・・・空間、５・・・スは−サ、６・・・中心穴、７・
・・回転軸、８・・・集光レンズ、９・・・レーザー光
、１０・・・透明帯電防止層。 特許出願人　株式会社　リ　コ　−

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 少なくとも基板と記録層とから構成される光情報記録媒
   体においてその大気に接触する表面が帯電防止処理され
   ていることを特徴とする、光情報記録媒体。