JP3190722B2

JP3190722B2 - 光情報記録媒体

Info

Publication number: JP3190722B2
Application number: JP07348192A
Authority: JP
Inventors: 政志中沢; 剛男山口; 登笹
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1992-02-25
Filing date: 1992-02-25
Publication date: 2001-07-23
Anticipated expiration: 2016-07-23
Also published as: JPH05234134A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【技術分野】本発明は、光情報記録媒体に関し、より詳
細には、レーザー光を用いて記録の書き込み及び／又は
読み出しを行なう光情報記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来技術】従来の光学的動画像用ディスク（ＬＤ）や
光学的オーディオディスク（ＣＤ）、あるいは書き込み
型ディスク等における光情報記録媒体は、ポリカーボネ
ート樹脂やアクリル樹脂等プラスチック基板上に金属、
あるいは色素等からなる記録層を設けたものが一般的で
ある。また、該記録層を汚れ、傷、ゴミなどの付着から
保護するため、記録層の上に保護層を設けたり、記録層
の表面を基板と記録層との間に空気を介して封じ込め
る、いわゆるエアーサンドイッチ構造とすることが知ら
れている。

【０００３】しかし、この様な構成はあくまでも記録層
の保護のためになされたものであって、記録媒体の大気
に接する外表面自体から生じる障害、すなわち読み取り
レーザの光散乱、およびゴミやほこり、傷等の原因によ
る読み取りエラーやトラッキングエラーの発生、あるい
はゴミやほこりの付着を誘発する基板の帯電による電気
回路の誤動作の発生、記録再生に用いる半導体レーザの
破損という問題が往々にして生じる。

【０００４】図５及び図６は、従来の光情報記録媒体の
構成図で、図中、１１は基板、１２は記録層、１３は保
護層、１４はハードコート層、１５は接着層である。図
５は、保護層付構造を示す図で、記録媒体の片側のみに
記録層を有している。すなわち、基板１１に記録層１２
を設け、該記録層１２上にさらに保護層１３を設けてい
る。前記基板の反対側にはハードコート層１４が設けら
れている。図６は、密着サンドイッチ構造を示す図で、
記録媒体の両面に記録層を有している。すなわち、上基
板と下基板に設けられた記録層１２が接着層１５を介し
て対応するように設けられている。前記基板１１の外表
面の両側にハードコート層１４を形成している。

【０００５】

【目的】本発明は、上述のごとき実情に鑑みてなされた
もので、光情報記録媒体のレーザ光の照射側外表面の表
面保護及び基板の帯電防止、さらには基板表面での光反
射防止を同時に実現することによって、読み取りレーザ
の光散乱による読み取りエラー及びゴミやほこりの付着
による読み取りエラーやトラッキングエラーを防止し、
同時に表面保護効果をもった光情報記録媒体を提供する
こと、また、静電気による半導体レーザの破損や回路の
誤動作を防止し、メモリシステムの信頼性を向上させる
ことができる光情報記録媒体を提供することを目的とし
てなされたものである。

【０００６】

【構成】本発明は、上記目的を達成するために、（１）
少なくとも、基板上に記録層及び／又は再生層を有し、
レーザー光によって情報の書き込み及び／又は読み出し
を行なうための光情報記録媒体において、前記記録層に
集光されるべきレーザー光が照射される外表面部分で、
基板側から大気層側に向かって設けられた透明導電性薄
膜よりなる第一層と、該第一層上に形成されたＳｉＯｘ
膜又は有機保護膜よりなる第二層を有すること、更に
は、（２）前記基板の内外周における透明導電性薄膜の
形成面が、ＳｉＯｘ膜又は有機保護膜の形成面より小さ
く、該ＳｉＯｘ膜又は有機保護膜が基板の内外周におい
て直接基板に接着していること、更には、（３）前記基
板の内周において透明導電性薄膜が露出し、記録又は再
生時に、記録媒体の支持金属部分に接触するようになっ
ていること、更には、（４）前記（１）,（２）又は
（３）において、前記透明導電性薄膜が、酸化インジウ
ム系、酸化スズ系、酸化亜鉛系、酸化カドミウム系、硫
化亜鉛等の化合物半導体よりなること、更には、（５）
前記（４）において、前記透明導電性薄膜が３００Å以
下の薄膜であること、更には、（６）前記（１）,
（２）又は（３）において、前記透明導電性薄膜が、
金、銀、パラジウム、アルミニウム等の金属、及びこれ
らの合金等よりなること、更には、（７）前記（６）に
おいて、前記透明導電性薄膜が２００Å以下の薄膜であ
ること、更には、（８）前記（１）〜（７）のいずれか
において、前記透明導電性薄膜が１０⁹Ω／□以下の抵
抗値を示すこと、更には、（９）前記（１）〜（８）の
いずれかにおいて、前記有機保護膜が紫外線硬化型樹脂
よりなること、更には、（１０）前記（１）〜（８）の
いずれかにおいて、真空中で連続的に成膜を行なうこと
を特徴としたものである。以下、本発明の実施例に基づ
いて説明する。

【０００７】図１は、本発明による光情報記録媒体の一
実施例を説明するための構成図で、図中、１は基板、２
は記録層、３は保護層、４はハードコート層、４ａは透
明導電性薄膜、４ｂはＳｉＯｘ膜又は有機保護膜であ
る。基板１には記録層２が設けられ、該記録層２上に保
護層３が形成されている。前記基板１の反対側にはハー
ドコート層４が形成されている。該ハードコート層４
は、透明導電性薄膜４ａから成る第一層と、ＳｉＯｘ膜
あるいは有機保護膜４ｂとから成る第二層とで形成され
ている。

【０００８】このとき、透明導電性薄膜は３００Å以下
の膜厚でも十分であり、該透明導電性薄膜としてＩＴＯ
（インジウム・スズ酸化物膜）等の低抵抗材料を用いた
場合には、１００Å程度で十分基板の帯電防止効果を得
ることが出来る。このＩＴＯ膜のかわりにＳｎＯ₂やＺ
ｎＯ等を用いてもほぼ同等の効果が得られる。

【０００９】基板は、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリ
オレフィン（ＡＰＯ、ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート
（ＰＣ）等のプラスチック樹脂などからなり、記録層
は、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｕ、Ｔｅ、Ｂｉ等の金属
や、色素、光磁気記録層、相変化記録層等からなり、従
来の光情報記録媒体と基本的に同じ構造をなしている。
前記基板１と記録層２からなる光情報記録媒体のレーザ
光の照射側表面に、第一層目として、読み取り／書き込
みレーザの波長に対して透明な透明導電性薄膜４ａを形
成している。

【００１０】透明導電性薄膜４ａは、従来から良く知ら
れている酸化インジウム系、酸化スズ系、酸化亜鉛系、
酸化カドミウム系等の金属酸化物の透明導電性薄膜や、
硫化亜鉛等、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化セリ
ウム等の比較的低抵抗な無機の透明導電性薄膜を用いる
のが好ましく、その成膜は、通常はスパッタ法、蒸着法
等の真空成膜プロセスにより行なわれる。この透明導電
性薄膜により、基板の成形時等に基板上に発生する帯電
の除電、あるいは取扱中の基板の帯電を防止することが
可能となる。

【００１１】また、前記第一層の保護層として、第一層
上に第二層目としてＳｉＯｘ膜あるいは有機保護膜４ｂ
を形成する。ＳｉＯｘ膜は透明導電性薄膜と同様にスパ
ッタ法、蒸着法等の真空成膜プロセスにより行なわれ
る。該ＳｉＯｘ膜により表面の硬化がなされ、屈折率の
調整によっては反射防止効果も得られる。また、有機保
護膜は、アクリレート系、メタクリレート系、エポキシ
系等からなり、紫外線照射等により硬化され、プラステ
ィック樹脂の表面を保護する効果を持ち合わせる。これ
ら上記二層構成のハードコート層により、基板の帯電の
防止及び基板表面の保護が同時に達成される。また、こ
れらの成膜は、どちらも真空プロセスによって行われる
が、真空中にて連続的に透明導電性薄膜、ＳｉＯｘ膜の
順に行うことによって、密着性や信頼性が向上する。

【００１２】図２は、本発明による光情報記録媒体の他
の実施例を示す図で、図中の符号は図１と同じ符号が付
してある。基板１と透明導電性薄膜４ａとの密着性が十
分でない場合は、基板１の内周側のＡ部と外周側のＢ部
とにおいて、基板１とＳｉＯｘ膜あるいは有機保護膜４
ｂとが直接接着する構造となっている。この構造によっ
て、ＳｉＯｘ膜あるいは有機保護膜４ｂに透明導電性薄
膜４ａを抑えつける効果を持たせることができる。ま
た、上記構造は、基板１と透明導電性薄膜４ａの密着性
が良い場合においても適用することにより、一層の信頼
性が得られる。

【００１３】図３は、本発明による光情報記録媒体をド
ライブにセットした状態を示す図で、図中、５はハブ
径、６は穴、７ａは透明導電薄膜の切り込み部、７ｂは
透明導電薄膜の露出用穴、７ｃは透明導電薄膜の内周露
出部である。ドライブの金属性チャッキング部分に透明
導電性薄膜４ａの一部が接触するような構造とすること
によって、接地効果が得られ、記録媒体の回転時の空気
との摩擦による帯電をより効果的に防止することが出来
る。

【００１４】図４（ａ）〜（ｃ）は、各種の記録媒体構
造に対する表面電位の測定結果を示す図である。図
（ａ）は、ポリカーボネート（ＰＣ）基板のみ、図
（ｂ）は、ポリカーボネート（ＰＣ）基板にアクリレー
ト系樹脂から成る有機保護膜を設けたもの、図（ｃ）
は、ポリカーボネート（ＰＣ）基板に酸化インジウム系
透明導電性薄膜と、アクリレート系樹脂から成る有機保
護膜を順次積層したものであり、それぞれの表面電位を
１年間室温（２５℃）下に放置した後の表面電位を測定
した結果である。

【００１５】表面観察したところ、図（ａ）のＰＣ基板
の表面電位が非常に高い部分には、局所的に汚れが付着
しており、図（ｂ）の媒体は局所的な汚れはないが若
干、全体的にうっすら埃がのっていた。一方、図（ｃ）
の記録媒体は図（ｂ）の場合よりもはるかに埃の付着量
が少なく、殆ど初期的な状態と差が認められない程度で
あった。この実験結果より、本発明の光情報記録媒体を
用いることにより、十分基板の帯電防止効果を得られる
ことがわかる。本発明においては、透明導電性薄膜の導
電効果により、基板自体の帯電を防止することが可能と
なるが、有機保護膜として、導電性フィラー、界面活性
剤等を混入させるなどして、１０¹²Ω／□以下の表面抵
抗にした材料を用いれば、基板表面の帯電防止としてさ
らに有効な手段となる。

【００１６】

【効果】以上の説明から明らかなように、本発明による
と、記録層を設けた基板の反対側に透明導電性薄膜より
なる第一層と、ＳｉＯｘ膜あるいは有機保護膜よりなる
第二層を設けたので、基板表面の帯電を防止することが
可能となり、更に表面の保護効果が得られることによっ
て、光情報記録媒体の信頼性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による光情報記録媒体の一実施例を説
明するための構成図である。

【図２】本発明による光情報記録媒体の他の実施例を
説明するための構成図である。

【図３】光情報記録媒体をドライブにセットした状態
を示す図である。

【図４】各種の記録媒体構造に対する表面電位の測定
結果を示す図である。

【図５】従来の光情報記録媒体の構成図である。

【図６】従来の光情報記録媒体の他の構成図である。

【符号の説明】

１…基板、２…記録層、３…保護層、４…ハードコート
層、４ａ…透明導電性薄膜、４ｂ…ＳｉＯｘ膜又は有機
保護膜。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開平３−34140（ＪＰ，Ａ) 特開平３−203047（ＪＰ，Ａ) 特開平２−236833（ＪＰ，Ａ) 特開平４−10244（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G11B 7/24 G11B 11/105

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも、基板上に記録層及び／又は
再生層を有し、レーザー光によって情報の書き込み及び
／又は読み出しを行なうための光情報記録媒体におい
て、前記記録層に集光されるべきレーザー光が照射され
る外表面部分で、基板側から大気層側に向かって設けら
れた透明導電性薄膜よりなる第一層と、該第一層上に形
成されたＳｉＯｘ膜又は有機保護膜よりなる第二層とを
有し、前記基板の外周における透明導電性薄膜の形成面
が、ＳｉＯｘ膜又は有機保護膜の形成面より小さく、該
ＳｉＯｘ膜又は有機保護膜が基板の外周において直接基
板に接着しており、かつ、前記基板の内周において透明
導電性薄膜が露出し、記録又は再生時に、記録媒体の支
持金属部分に接触するようになっていることを特徴とす
る光情報記録媒体。