JPS60236227A - 位置合せ装置 - Google Patents
位置合せ装置Info
- Publication number
- JPS60236227A JPS60236227A JP59091738A JP9173884A JPS60236227A JP S60236227 A JPS60236227 A JP S60236227A JP 59091738 A JP59091738 A JP 59091738A JP 9173884 A JP9173884 A JP 9173884A JP S60236227 A JPS60236227 A JP S60236227A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- deltal
- feeding
- movement
- final
- mask
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ブで明の分野）
本発明は、位置合ｔ！独冒に関し、１ｈに゛ＩＬ−導体
焼（＝Ｊ 装置にｄ３いて、つ］−ハとマスクとの相対
的な位置合ｔ！ ｔｊ稈（７１−１−アライメン１〜）
に用いてＱＴ’ｒ凶イ１１１／買合ぜ装置に関する。
焼（＝Ｊ 装置にｄ３いて、つ］−ハとマスクとの相対
的な位置合ｔ！ ｔｊ稈（７１−１−アライメン１〜）
に用いてＱＴ’ｒ凶イ１１１／買合ぜ装置に関する。
（発明の背崇）
従来のこの秤の半導体焼付装置においては、マスクどウ
ェハのアライメン１−マーク上をレーザービーム等ぐ走
査し、これらの散乱光を光電変換して電気的パルスに変
え、このパルスｆＩ装置をカウンタ等で計測して位置合
せをづることが広く行なわれている。
ェハのアライメン１−マーク上をレーザービーム等ぐ走
査し、これらの散乱光を光電変換して電気的パルスに変
え、このパルスｆＩ装置をカウンタ等で計測して位置合
せをづることが広く行なわれている。
例えば第１図（ａ）に示す」、’） ／ｒ ）ノシイメ
ン］・マークＭをマスクに、（ｂ） ｉこ示すようイＣ
ン−りＷをつｌ−ハに描いＣ１第２図に承りよう４Ｔ構
成の装置により、マスク１とつ１−ハ２のアライメン１
〜マークＭ、Ｗ上をレーザ−ビームｌ−ぐ走査してマス
ク１とつ上ハ２どの相対位置９４ｊわら、ずれと−を検
出し、このずれ看に応じＣマスク１（）ｊよびつ］−ハ
２の少なくとし一方を駆動することにＪミリ、第１図（
Ｃ）に示すように、−マスク１どつ■ハ２の相対的な位
置合せが行われる。この場合、第２図のステージ３にに
載置されたウー■ハ２は、（１／ｉ％合せ実施前は例え
ば第１図（ｄ）に示１ように、マスク１に対し−Ｃ変位
しているのが通常である。
ン］・マークＭをマスクに、（ｂ） ｉこ示すようイＣ
ン−りＷをつｌ−ハに描いＣ１第２図に承りよう４Ｔ構
成の装置により、マスク１とつ１−ハ２のアライメン１
〜マークＭ、Ｗ上をレーザ−ビームｌ−ぐ走査してマス
ク１とつ上ハ２どの相対位置９４ｊわら、ずれと−を検
出し、このずれ看に応じＣマスク１（）ｊよびつ］−ハ
２の少なくとし一方を駆動することにＪミリ、第１図（
Ｃ）に示すように、−マスク１どつ■ハ２の相対的な位
置合せが行われる。この場合、第２図のステージ３にに
載置されたウー■ハ２は、（１／ｉ％合せ実施前は例え
ば第１図（ｄ）に示１ように、マスク１に対し−Ｃ変位
しているのが通常である。
この状態において第２図に示１ポリゴンミラー？りから
成る偏向器４およびど−ムスゾリツク５を介して、レー
ザー光源６より発光されたレーザービ−ム１−によりマ
スク１およびつ［ハ２の７ライメン１−マークＭ、Ｗｈ
を示矢り向に走査すると、その散乱光は元の光路を逆行
し、ビームスプリッタ５を通過し、集光レンズ７を介し
Ｃ光電検出器８に達し、第１図（ｅ）に示すようなパル
ス信号が検出器８ぐ得られる。第２図の制御回路９はこ
のパルス信号を二Ｊンパレータ１０によって適当なスレ
ッシ１ホールド電圧Ｖでカッｌ−Ｌ Ｕ第１図（ｆ）ｋ
示暖パルス！１３ （２号を形成し、このパルス列の中
から、アライメントマークＭ、Ｗの間隔をめてマスク１
どウェハ２の相対的な変位帝を判定し、し−タ１１．１
２を駆動してステージ３を作動し、位置合ｌを行なうよ
うになっている。
成る偏向器４およびど−ムスゾリツク５を介して、レー
ザー光源６より発光されたレーザービ−ム１−によりマ
スク１およびつ［ハ２の７ライメン１−マークＭ、Ｗｈ
を示矢り向に走査すると、その散乱光は元の光路を逆行
し、ビームスプリッタ５を通過し、集光レンズ７を介し
Ｃ光電検出器８に達し、第１図（ｅ）に示すようなパル
ス信号が検出器８ぐ得られる。第２図の制御回路９はこ
のパルス信号を二Ｊンパレータ１０によって適当なスレ
ッシ１ホールド電圧Ｖでカッｌ−Ｌ Ｕ第１図（ｆ）ｋ
示暖パルス！１３ （２号を形成し、このパルス列の中
から、アライメントマークＭ、Ｗの間隔をめてマスク１
どウェハ２の相対的な変位帝を判定し、し−タ１１．１
２を駆動してステージ３を作動し、位置合ｌを行なうよ
うになっている。
しかし、一般に、ウェハ２の変位方向は一定方向ではな
く、（ｄ′ ）に承りように、（ｄ）とは逆の場合も発
生する。また、定められたトレランス（許容限界）に追
い込むために、上述の位置合せを、複数回行う場合も多
い。その結果、最後の送り込みん向が一定にならない。
く、（ｄ′ ）に承りように、（ｄ）とは逆の場合も発
生する。また、定められたトレランス（許容限界）に追
い込むために、上述の位置合せを、複数回行う場合も多
い。その結果、最後の送り込みん向が一定にならない。
このため、モータ１１．１２のオーバーラン、ならびに
、送り込み機構のバックラッシュ等が原因ぐ、正負の駆
動闇に対し送り込みΦにヒステリシスが発生してしまう
。
、送り込み機構のバックラッシュ等が原因ぐ、正負の駆
動闇に対し送り込みΦにヒステリシスが発生してしまう
。
−例を第３図に示す。（ａ）は理想的にヒステリシスが
無いと仮定した場合の最終送り込み後のアライメントマ
ークの位置、（ｂ）、（Ｃ）はヒスプリシスが有る場合
の最終送り込み後のアライメントマークの位置を示し、
（ｂ）は正７５向に送り込んだ場合、（Ｃ）は負方向に
送り込んだ場合の例である。
無いと仮定した場合の最終送り込み後のアライメントマ
ークの位置、（ｂ）、（Ｃ）はヒスプリシスが有る場合
の最終送り込み後のアライメントマークの位置を示し、
（ｂ）は正７５向に送り込んだ場合、（Ｃ）は負方向に
送り込んだ場合の例である。
第３図に示づように、理想位置からの６１差は、それぞ
れΔＪ１．Δｊ２であり、最終送り込み時の移動方向の
違い（正か負か）による、送り込み後の位置のバラツキ
２１士は Δノ±−ΔＪ１＋ΔＪ２ となり、上述のヒステリシスが存在する限り、精密な位
置合せが不可能となってしまうという欠点があった。
れΔＪ１．Δｊ２であり、最終送り込み時の移動方向の
違い（正か負か）による、送り込み後の位置のバラツキ
２１士は Δノ±−ΔＪ１＋ΔＪ２ となり、上述のヒステリシスが存在する限り、精密な位
置合せが不可能となってしまうという欠点があった。
（発明の目的）
本発明は、上述従来例の欠点を除去し、マスクとウェハ
の、より精密な位置合ぜを実現する装貿ヘーＩＮ （Ｉ
ｔすることを目的ど１Ｊる９゜（実施例の説明） 以下、図面により本発明の詳細な説明する。
の、より精密な位置合ぜを実現する装貿ヘーＩＮ （Ｉ
ｔすることを目的ど１Ｊる９゜（実施例の説明） 以下、図面により本発明の詳細な説明する。
第２図のＳ！置において制御回路９は図示しないマイク
ロブロヒッサの中央制御器（ＣＰｔＪ）を備え、このＣ
ＰＵによりモータ１１．１２を制御しているが、この実
施例においては、このＣＰＵによりモータ１１．１２の
１１１１１１手順を変更している。すなわち、この実施
例においては、最終送り込みを行なう前にずれ量の方向
すなわち送り込み方向の判定を行ない、この送り込み方
向に応じて予め送り込みを方向に対応して設定されてい
るオフセットΦの補正を行なう。
ロブロヒッサの中央制御器（ＣＰｔＪ）を備え、このＣ
ＰＵによりモータ１１．１２を制御しているが、この実
施例においては、このＣＰＵによりモータ１１．１２の
１１１１１１手順を変更している。すなわち、この実施
例においては、最終送り込みを行なう前にずれ量の方向
すなわち送り込み方向の判定を行ない、この送り込み方
向に応じて予め送り込みを方向に対応して設定されてい
るオフセットΦの補正を行なう。
次に、第３図を用いて、本発明の詳細な説明する。
前に述べたように、最終送り込み時の移動方向の違いに
より、送り込み後の位置のバラツキΔＪ−トは Δノ±−ΔＪ１＋ΔＪ２ となり、精密な位置合せが不可能となってしまう。
より、送り込み後の位置のバラツキΔＪ−トは Δノ±−ΔＪ１＋ΔＪ２ となり、精密な位置合せが不可能となってしまう。
これに及し、Ｍ結送り込み時の移動り向を１または負の
どららかに規定した場合の理想値どの誤差 Δノ＋またはΔノ＝は 正の場合 ： ΔＪ ＋ ＝Δｊ１ 負の場合 ： ΔノーーΔノ２ となる。ここで、誤差Δノ＋およびΔノーは偶然誤差で
はなく、系統誤差であるので、？ｄｉｉＥ可能である。
どららかに規定した場合の理想値どの誤差 Δノ＋またはΔノ＝は 正の場合 ： ΔＪ ＋ ＝Δｊ１ 負の場合 ： ΔノーーΔノ２ となる。ここで、誤差Δノ＋およびΔノーは偶然誤差で
はなく、系統誤差であるので、？ｄｉｉＥ可能である。
つまり、予めΔノ＋またはΔノーの値を、別の手段でめ
、最終送り込み時の移動り向が正であるか負であるかに
応じて、最終送り込みの移仙悄からΔノ＋またはΔ」−
を減粋することにより、送り込み後の位置を理想（ａ
（ａ ）とすることができ、精密な位置合せを実現りる
ことが可能となる。
、最終送り込み時の移動り向が正であるか負であるかに
応じて、最終送り込みの移仙悄からΔノ＋またはΔ」−
を減粋することにより、送り込み後の位置を理想（ａ
（ａ ）とすることができ、精密な位置合せを実現りる
ことが可能となる。
（発明の効果）
以上説明したように、本発明によれば、ウェハとマスク
の位置合せを自動的に行う際の最後の送り込み時に、送
り込む方向によっＴ Ｊフヒットのｍを変えるようにし
ているため、精密な位置合Ｕを実現することができると
いう効果がある。また、送り込み方向およびオフセット
演算処理による処Ｊｕｌ！ＦＲ間の増加は少なくスルー
プットに与える影冑は少ない。
の位置合せを自動的に行う際の最後の送り込み時に、送
り込む方向によっＴ Ｊフヒットのｍを変えるようにし
ているため、精密な位置合Ｕを実現することができると
いう効果がある。また、送り込み方向およびオフセット
演算処理による処Ｊｕｌ！ＦＲ間の増加は少なくスルー
プットに与える影冑は少ない。
４、図面の簡単な説明 （０）
第１図はアライメントマークの検出の方法の説明図、第
２図は検出装置の構成図、第３図は送り （、）込み後
の７ライメントマークの説明図である。
２図は検出装置の構成図、第３図は送り （、）込み後
の７ライメントマークの説明図である。
Ｍ°°°マスクマスイメントマー乞ＣＣ）Ｗ・・・つ］
−ハハラライメン１〜マーク１・・・マスク、２・・・
つ］ニハ、３・・・つ、■ハスミーシロ・・・レーザ光
源、９・・・制御回路、特許出願人 キャノン株式会ネ
１（ｅ）代理人 弁理士１フ１束辰雄 （ｆ） 代理人 弁理士 伊東哲也 （ｄ“） 第１図 第２図 第３図 （ｉ ）−（創 （０）
−ハハラライメン１〜マーク１・・・マスク、２・・・
つ］ニハ、３・・・つ、■ハスミーシロ・・・レーザ光
源、９・・・制御回路、特許出願人 キャノン株式会ネ
１（ｅ）代理人 弁理士１フ１束辰雄 （ｆ） 代理人 弁理士 伊東哲也 （ｄ“） 第１図 第２図 第３図 （ｉ ）−（創 （０）
Claims (1)
- １、第１の物体と第２の物体とのずれ小を検出づる相対
位置検出手段と、第１および第２の物体の少４１くとも
一方を一１記ずれ中を所定のオフセットＭＣ補正した量
だけ送り込む駆動手段とを具備し、十記オフセット吊を
移動方向ごとに独立に設定したことを特徴とする第１の
物１本と第２の物体どの位置合Ｕを（ｊなうためのｌ＜
／四合ＩＬ′！装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59091738A JPS60236227A (ja) | 1984-05-10 | 1984-05-10 | 位置合せ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59091738A JPS60236227A (ja) | 1984-05-10 | 1984-05-10 | 位置合せ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60236227A true JPS60236227A (ja) | 1985-11-25 |
Family
ID=14034859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59091738A Pending JPS60236227A (ja) | 1984-05-10 | 1984-05-10 | 位置合せ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60236227A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6358826A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | Toshiba Corp | 位置検出方法 |
| JPH02177417A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-10 | Nec Corp | 目合せ露光装置 |
-
1984
- 1984-05-10 JP JP59091738A patent/JPS60236227A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6358826A (ja) * | 1986-08-29 | 1988-03-14 | Toshiba Corp | 位置検出方法 |
| JPH0341973B2 (ja) * | 1986-08-29 | 1991-06-25 | ||
| JPH02177417A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-10 | Nec Corp | 目合せ露光装置 |
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