JPS6169127A - 投影露光装置の基準距離補正方法 - Google Patents
投影露光装置の基準距離補正方法Info
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- JPS6169127A JPS6169127A JP59190670A JP19067084A JPS6169127A JP S6169127 A JPS6169127 A JP S6169127A JP 59190670 A JP59190670 A JP 59190670A JP 19067084 A JP19067084 A JP 19067084A JP S6169127 A JPS6169127 A JP S6169127A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の分野］
本発明は、半導体の焼付装置に関し、特にレチクルとウ
ェハをその位置関係をオフアクシス光学系で検出するこ
とにより位置合せする半導体焼付装置に関する。
ェハをその位置関係をオフアクシス光学系で検出するこ
とにより位置合せする半導体焼付装置に関する。
［従来技術の説明１
従来、この種の装置として、第１図に示す様な方式の装
置が提案されている。
置が提案されている。
第１図において、１は移動ステージ、２は投影レンズ、
３はレチクル、４は焼付用照明装置、５はウェハ、６，
７はモータ、１４は制御回路の入ったコントロールボッ
クスである。
３はレチクル、４は焼付用照明装置、５はウェハ、６，
７はモータ、１４は制御回路の入ったコントロールボッ
クスである。
レチクル３上の回路パターンａは、投影レンズ２によっ
てウェハ５上に縮小して、例えば第２図のｂｌの様に焼
付けられる。続いて、モータ７及び６を駆動してウェハ
５を移動しながら、第２図に のｂ２、さらには
ｂ３．・・・と焼いてゆくわけである。この時、ｂ （
ｂｌ 、 ｂ２ 、 ｂ３ 、・・・）には、レチクル
３上の回路パターンａの例えば１１５に縮小された寸法
の回路パターンが転写される。
てウェハ５上に縮小して、例えば第２図のｂｌの様に焼
付けられる。続いて、モータ７及び６を駆動してウェハ
５を移動しながら、第２図に のｂ２、さらには
ｂ３．・・・と焼いてゆくわけである。この時、ｂ （
ｂｌ 、 ｂ２ 、 ｂ３ 、・・・）には、レチクル
３上の回路パターンａの例えば１１５に縮小された寸法
の回路パターンが転写される。
しかし、このような焼付装置においては、各焼付に先立
つてウェハとレチクルとが正確に位置合せされている必
要がある。このため、第１図の方式の装置においては、
移動ステージ１の移動方向（Ｘ、Ｙ方向）別にその座標
を検出するレーザ干渉計１６．１７を配置しである。１
９はレーザ干渉計にレーザ光を送るレーザチューブであ
る。移動ステージ１の移動に伴い、Ｘ方向のレーザ干渉
計１６及びＹ方向の干渉計１７からそれぞれパルスが出
力される。コントロールボックス１４内の制御回路〈不
図示）では、このパルスを積算カウントして移動ステー
ジ１の移動ｍを求め、現在の移動ステージ１の座標を正
確に認識することができる。前記レーザ干渉計１６．１
７のパルスの分解能及びリニアリティは、要求される位
置合せ精度に対し、十分な精度例えば（Ｏ１ＯＳμ／１
パルス）を有しており、ある露光域例えば第２図ｂｎか
ら次の露光域ｂｎ＋１へ移動する時は、その移動ｍ（ウ
ェハ上のｂｎとｂｎ ＋１との間の距離）を前記レーザ
干渉計によって正確にカウントし、カウント値が正しい
移動量を示すまで移動ステージを駆動する。
つてウェハとレチクルとが正確に位置合せされている必
要がある。このため、第１図の方式の装置においては、
移動ステージ１の移動方向（Ｘ、Ｙ方向）別にその座標
を検出するレーザ干渉計１６．１７を配置しである。１
９はレーザ干渉計にレーザ光を送るレーザチューブであ
る。移動ステージ１の移動に伴い、Ｘ方向のレーザ干渉
計１６及びＹ方向の干渉計１７からそれぞれパルスが出
力される。コントロールボックス１４内の制御回路〈不
図示）では、このパルスを積算カウントして移動ステー
ジ１の移動ｍを求め、現在の移動ステージ１の座標を正
確に認識することができる。前記レーザ干渉計１６．１
７のパルスの分解能及びリニアリティは、要求される位
置合せ精度に対し、十分な精度例えば（Ｏ１ＯＳμ／１
パルス）を有しており、ある露光域例えば第２図ｂｎか
ら次の露光域ｂｎ＋１へ移動する時は、その移動ｍ（ウ
ェハ上のｂｎとｂｎ ＋１との間の距離）を前記レーザ
干渉計によって正確にカウントし、カウント値が正しい
移動量を示すまで移動ステージを駆動する。
１８は、投影レンズ２の光軸外に設け、られた顕微鏡で
あり、移動ステージ１上にウェハを積載したときの積載
位置の誤差（載置誤差）を検出するものである。
あり、移動ステージ１上にウェハを積載したときの積載
位置の誤差（載置誤差）を検出するものである。
この装置では、例えば第３図ｅの位置をウェハの基準載
置位置、ｆをチップｂ１を露光するための第１露光位置
とすると、ウェハが正しく載置されている場合、ｅ−ｆ
間の距離ｘｏ、ｙｏをレーザ干渉計１６及び１７によっ
て測定しながら移動ステージ１を駆動すれば、ウェハ５
を正しくｆの位置へ移動することができる。
置位置、ｆをチップｂ１を露光するための第１露光位置
とすると、ウェハが正しく載置されている場合、ｅ−ｆ
間の距離ｘｏ、ｙｏをレーザ干渉計１６及び１７によっ
て測定しながら移動ステージ１を駆動すれば、ウェハ５
を正しくｆの位置へ移動することができる。
しかし、ウェハ５が積載時正しくｅの位置へ置かれるこ
とは稀であり、一般には、第３図に点線で示す様に、Δ
Ｘ及びΔｙずれたｅ′の位置でざらにΔθ回転して載置
されている。このため、このウェハ積載時の誤差を前記
顕微鏡１８によって測定すべく、ウェハ５上に例えば第
４図Ｃ及びｄの様なマークを設けである。
とは稀であり、一般には、第３図に点線で示す様に、Δ
Ｘ及びΔｙずれたｅ′の位置でざらにΔθ回転して載置
されている。このため、このウェハ積載時の誤差を前記
顕微鏡１８によって測定すべく、ウェハ５上に例えば第
４図Ｃ及びｄの様なマークを設けである。
第５図（ａ）において、ウェハが正しい位置Ｑに対して
ΔＸ、Δｙ、Δθだけずれてｈの様に置かれたとする。
ΔＸ、Δｙ、Δθだけずれてｈの様に置かれたとする。
前記顕微鏡１８は、ウェハが積載装置（不図示）のメカ
ニカルな最大の誤差で積載された場合でも例えばマーク
ｄをその視野内に収めるだけの視野２３を有しており、
このマークｄのずれ工Δｘｌ、Δｙ１を例えばＴＶカメ
ラ等の様な撮像手段によって検出する。次に予め規定さ
れているマーク間隔Ｊｏ （第４図）だけ移動ステー
ジを移動してマークＣを観察する。第５図（ｂ）はステ
ージ移手力１殺のマークＣと穎侶２鏡１８の杉シ野２３
の関係を示す。そして、同様にウェハが正しく置かれた
時にマークＣの見えるべき位置（点線）と実際に観察さ
れるマークＣ（実線）の位置とのずれΔｘ２． Δｙ２
を測定する。
ニカルな最大の誤差で積載された場合でも例えばマーク
ｄをその視野内に収めるだけの視野２３を有しており、
このマークｄのずれ工Δｘｌ、Δｙ１を例えばＴＶカメ
ラ等の様な撮像手段によって検出する。次に予め規定さ
れているマーク間隔Ｊｏ （第４図）だけ移動ステー
ジを移動してマークＣを観察する。第５図（ｂ）はステ
ージ移手力１殺のマークＣと穎侶２鏡１８の杉シ野２３
の関係を示す。そして、同様にウェハが正しく置かれた
時にマークＣの見えるべき位置（点線）と実際に観察さ
れるマークＣ（実線）の位置とのずれΔｘ２． Δｙ２
を測定する。
次に測定したΔｘ１ 、 Δｙ１ 、 ΔＸ２ 、 Δ
Ｖ２及びマーク間隔ＪＯからウェハの載置誤差ΔＸ。
Ｖ２及びマーク間隔ＪＯからウェハの載置誤差ΔＸ。
Δｙ、Δθを算出し、移動ステージ１を第１露光位置ｆ
へ移動する時に前記ｅ−ｆ間の距離ＸＯ。
へ移動する時に前記ｅ−ｆ間の距離ＸＯ。
ｙＯをこの載置誤差ΔＸ、Δｙ、Δθだけ補正して移動
する。なお、θ方向については、通常、移動ステージ１
のウェハ積収用チャック（不図示）の回転機構によって
補正する。
する。なお、θ方向については、通常、移動ステージ１
のウェハ積収用チャック（不図示）の回転機構によって
補正する。
この様な構成の装置においては、顕微鏡１８の取付は、
非常に高精度かつ長時間に及ぶ安定性が要求される。例
えば、各露光ごとの位置合せ精度の要求が０．１μであ
れば、前記顕微鏡１８は、０．１μ以下の精度で取付け
られていなければならず、これは装置の組立てや保守等
に対し大きな障害となっていた。例えばこの程度のオー
ダ（０，１μ以下）では組立て、取付時の精度はおろか
、温度も厳しくコントロールされていなければならず、
例えば一旦装置の電源を切ると、装置全体の温度が低下
して、次に電源を投入した時、装置全体の温度が安定す
るまで長時間に渡って使用できないといった様な問題が
あった。
非常に高精度かつ長時間に及ぶ安定性が要求される。例
えば、各露光ごとの位置合せ精度の要求が０．１μであ
れば、前記顕微鏡１８は、０．１μ以下の精度で取付け
られていなければならず、これは装置の組立てや保守等
に対し大きな障害となっていた。例えばこの程度のオー
ダ（０，１μ以下）では組立て、取付時の精度はおろか
、温度も厳しくコントロールされていなければならず、
例えば一旦装置の電源を切ると、装置全体の温度が低下
して、次に電源を投入した時、装置全体の温度が安定す
るまで長時間に渡って使用できないといった様な問題が
あった。
〆、・ 「発明の目的］
本発明は、上述の様なレーザ干渉計とオフアクシスの顕
微鏡を用いてウェハとレチクルの位置合せを行なう半導
体焼付装置において、オフアクシスの顕微鏡の取付位置
ｆｉｉ度要求を大幅に緩和し、装置の組立て保守を容易
にするとともに電源のオン／オフに伴う装置が使用でき
ない時間（ダウンタイム）の短縮を図ることを目的とす
る。
微鏡を用いてウェハとレチクルの位置合せを行なう半導
体焼付装置において、オフアクシスの顕微鏡の取付位置
ｆｉｉ度要求を大幅に緩和し、装置の組立て保守を容易
にするとともに電源のオン／オフに伴う装置が使用でき
ない時間（ダウンタイム）の短縮を図ることを目的とす
る。
［実施例の説明］
第６図は本発明を実施するための装置の構成の一例であ
り、第１図の方式の装置に、投影レンズ２を介してウェ
ハを観察するオンアクシスの光学及びレーザビームスキ
ャンによるウェハとレチクル上のアライメントマークの
検出システムを付加したものである。
り、第１図の方式の装置に、投影レンズ２を介してウェ
ハを観察するオンアクシスの光学及びレーザビームスキ
ャンによるウェハとレチクル上のアライメントマークの
検出システムを付加したものである。
第６図におけるオンアクシスのアライメントマーク検出
システムは、レーザチューブ１３によってレーザビーム
を発振させ、このビームをポリゴンミラー１２、ハーフ
ミラ−１０、対物レンズ９．ミラー８を介して投影レン
ズ２内に入れ、これによってレチクル３及びウェハ５上
に設けたアライメントマーク（不図示）をスキャンする
。レチクル３及びウェハ５上のアライメントマークから
の散乱光は、ミラー８、対物レンズ９及びハーフミラ−
１０を通って光電検出器１１によって検出される。コン
トロールボックス１４内の制御回路（不図示）では、こ
の光電検出器１１の出力信号からウェハとレチクルのア
ライメントマークの位置、すなわら移動ステージ１が第
１露光位置へ移動した時のウェハの正規の位置（第３図
のｆ）からのずれ儀を求めることができる。なお、以下
においては、この観察系をＴＴＬと称する。
システムは、レーザチューブ１３によってレーザビーム
を発振させ、このビームをポリゴンミラー１２、ハーフ
ミラ−１０、対物レンズ９．ミラー８を介して投影レン
ズ２内に入れ、これによってレチクル３及びウェハ５上
に設けたアライメントマーク（不図示）をスキャンする
。レチクル３及びウェハ５上のアライメントマークから
の散乱光は、ミラー８、対物レンズ９及びハーフミラ−
１０を通って光電検出器１１によって検出される。コン
トロールボックス１４内の制御回路（不図示）では、こ
の光電検出器１１の出力信号からウェハとレチクルのア
ライメントマークの位置、すなわら移動ステージ１が第
１露光位置へ移動した時のウェハの正規の位置（第３図
のｆ）からのずれ儀を求めることができる。なお、以下
においては、この観察系をＴＴＬと称する。
上記構成において、装置電源投入侵、ロフトの最初のウ
ェハを流す前に、先ず、第７図に示す様なテスト用ウェ
ハを装置に供給する。この時、コントロールボックス１
４内の制御回路（不図示）の動作モード（制御プログラ
ム）は、入出力ターミナル２１からの入力によって調整
モード（または顕微鏡位置計測モード）に切換えておく
。
ェハを流す前に、先ず、第７図に示す様なテスト用ウェ
ハを装置に供給する。この時、コントロールボックス１
４内の制御回路（不図示）の動作モード（制御プログラ
ム）は、入出力ターミナル２１からの入力によって調整
モード（または顕微鏡位置計測モード）に切換えておく
。
この調整モードにおいて、制御回路は、先ず、ウェハ上
のマークＣ及びｄがそれぞれ顕微鏡１８の視野２３内に
来るべく移動ステージ１を駆動し、各々のマークのずれ
ｎΔｘ１．Δｙ１及びΔｘ２゜Δｙ２を測定する。そし
て、従来装置の場合と金く同様にウェハの載置誤差ΔＸ
、Δｙ、Δθを求め、この載置誤差ΔＸ、Δｙ、Δθを
補正しつつ・移動ステージ１を第１露光位置ｆへ移動す
る。
のマークＣ及びｄがそれぞれ顕微鏡１８の視野２３内に
来るべく移動ステージ１を駆動し、各々のマークのずれ
ｎΔｘ１．Δｙ１及びΔｘ２゜Δｙ２を測定する。そし
て、従来装置の場合と金く同様にウェハの載置誤差ΔＸ
、Δｙ、Δθを求め、この載置誤差ΔＸ、Δｙ、Δθを
補正しつつ・移動ステージ１を第１露光位置ｆへ移動す
る。
前記テスト用のウェハ２５は、例えばガラスウェハの様
な平面度の良い安定したものが用いられており、第７図
（ａ）に示す様に、第１露光領域２６の近傍には第７図
（Ｃ）の様なＴＴＬの観察系のためのマークｉが設けら
れている。また、第７図（ｂ）に２７で示すレチクルは
、回路パターンのためのエリアにの近傍でウェハ上のマ
ークｉに対応する場所にやはりＴＴＬの観察系のために
第７図（ｄ）の様なマークｊが設けられている。
な平面度の良い安定したものが用いられており、第７図
（ａ）に示す様に、第１露光領域２６の近傍には第７図
（Ｃ）の様なＴＴＬの観察系のためのマークｉが設けら
れている。また、第７図（ｂ）に２７で示すレチクルは
、回路パターンのためのエリアにの近傍でウェハ上のマ
ークｉに対応する場所にやはりＴＴＬの観察系のために
第７図（ｄ）の様なマークｊが設けられている。
さて、前記制御回路は、移動ステージ１を第１露光位置
へ駆動した後、前記ＴＴＬの観察系を駆動し、レチクル
２１上のマークｊとウェハ２５上のマークｉの上をレー
ザビームでスキャンする。マークｉ及びｊはＴＴＬの観
察系に対して第７図（ｅ）の様に重なって観察され、レ
ーザビームは２８で示す様にこれらのマーク上をスキャ
ンし、各マークの間隔Δノ１〜Δ」４が測定される。顕
微鏡１８が正しい位置にあれば、前記マークは正しく整
合されている（Δ、、ｆｌ＝Δｊ２−Δｉ３−Δ４４）
が、顕微鏡１８が温度、経時変化、取付誤差等によって
正規の位置から例えばΔｘ′、Δｙ′ずれていると、前
記ＴＴＬの観察系における各マークの間隔Δノ１〜−Ｊ
４もそれに各観察系の倍率を乗じた分だけずれる。前記
！！Ｊ １１１回路は、この誤着を記憶装置（不図示）
に格納し、調整モードを終了する。
へ駆動した後、前記ＴＴＬの観察系を駆動し、レチクル
２１上のマークｊとウェハ２５上のマークｉの上をレー
ザビームでスキャンする。マークｉ及びｊはＴＴＬの観
察系に対して第７図（ｅ）の様に重なって観察され、レ
ーザビームは２８で示す様にこれらのマーク上をスキャ
ンし、各マークの間隔Δノ１〜Δ」４が測定される。顕
微鏡１８が正しい位置にあれば、前記マークは正しく整
合されている（Δ、、ｆｌ＝Δｊ２−Δｉ３−Δ４４）
が、顕微鏡１８が温度、経時変化、取付誤差等によって
正規の位置から例えばΔｘ′、Δｙ′ずれていると、前
記ＴＴＬの観察系における各マークの間隔Δノ１〜−Ｊ
４もそれに各観察系の倍率を乗じた分だけずれる。前記
！！Ｊ １１１回路は、この誤着を記憶装置（不図示）
に格納し、調整モードを終了する。
次にロットのウェハを流すわけであるが、調整モード終
了以後は、顕微鏡１８でウェハのマークＣ及びｄを観察
してウェハのｉ＄３！置誤差ΔＸ、Δｙ。
了以後は、顕微鏡１８でウェハのマークＣ及びｄを観察
してウェハのｉ＄３！置誤差ΔＸ、Δｙ。
Δθを求め、この載置誤差ΔＸ、Δｙ、Δθを補正しつ
つ移動ステージ１を第１露光位置ｆへ移動する際に、前
記記憶回路に格納されているずれ但ΔＸ′、Δｙ′を加
味して移動ステージ１を駆動する。
つ移動ステージ１を第１露光位置ｆへ移動する際に、前
記記憶回路に格納されているずれ但ΔＸ′、Δｙ′を加
味して移動ステージ１を駆動する。
ｆ′ ［実施例の変形例］
前記実施例では、顕微＄１１８の位置計測のためのＴＴ
Ｌの観察系としてレーザビームでスキャンする方式を用
いたが、他の手段例えばＴＶカメラを用い、そのビデオ
信号からアライメントマークを読み取る様な方式でもか
まわない。
Ｌの観察系としてレーザビームでスキャンする方式を用
いたが、他の手段例えばＴＶカメラを用い、そのビデオ
信号からアライメントマークを読み取る様な方式でもか
まわない。
また、前記実施例のレチクルは、通常゛の焼付時にはレ
チクルのマスキング顆構によってマークｊのエリアをマ
スクする様にすれば、特にテスト専用のレチクルを用意
する必要はなく、通常焼付用のレチクルにマークｊを設
けてそのまま使用することができ、この場合、レチクル
の交換が不要となる。
チクルのマスキング顆構によってマークｊのエリアをマ
スクする様にすれば、特にテスト専用のレチクルを用意
する必要はなく、通常焼付用のレチクルにマークｊを設
けてそのまま使用することができ、この場合、レチクル
の交換が不要となる。
また、前記実施例では、ＴＴＬの観察系が１眼であるが
、これを２眼とし、レチクル及びウェハ上のマークも２
服用とすれば、回転方向の誤差も精度よく求めることが
できる。
、これを２眼とし、レチクル及びウェハ上のマークも２
服用とすれば、回転方向の誤差も精度よく求めることが
できる。
また、上述においては、ＴＴＬの観察系の駆動時にテス
ト用のウェハを使用しているが、各ウェハまたはロット
の最初のウェハの第１露光領域近傍に前記ＴＴＬの観察
用のマークを設け、これによって顕微鏡１８の位置ずれ
を計測するようにしてもよい。
ト用のウェハを使用しているが、各ウェハまたはロット
の最初のウェハの第１露光領域近傍に前記ＴＴＬの観察
用のマークを設け、これによって顕微鏡１８の位置ずれ
を計測するようにしてもよい。
また、ＴＴＬの１１２寮系の位置が安定しておれば、レ
チクル上のマークは必要でない。すなわち、この場合、
ＴＴＬの観察系に対するウェハ上のマーク位置だけを観
察しても顕微鏡１８の位置ずれは計測することができる
。一般に、この種の装置は、レチクルのパターンをウェ
ハ上に（例えば１１５に）縮小焼付するため、レチクル
側の許容誤差はウェハ面側より大きくてよい。
チクル上のマークは必要でない。すなわち、この場合、
ＴＴＬの観察系に対するウェハ上のマーク位置だけを観
察しても顕微鏡１８の位置ずれは計測することができる
。一般に、この種の装置は、レチクルのパターンをウェ
ハ上に（例えば１１５に）縮小焼付するため、レチクル
側の許容誤差はウェハ面側より大きくてよい。
さらに、上述においては、計測した顕微鏡の位置ずれ量
でウェハの実際の載置位置ｅ′から第１露光位首ｆまで
の送り込み吊を補正するようにしているが、基準Ｉｉ！
置装置ｅから第１露光位ｉｆまでの距離が常に一定とな
る様にレチクルまた投影光学系を移動してもよい。
でウェハの実際の載置位置ｅ′から第１露光位首ｆまで
の送り込み吊を補正するようにしているが、基準Ｉｉ！
置装置ｅから第１露光位ｉｆまでの距離が常に一定とな
る様にレチクルまた投影光学系を移動してもよい。
［発明の効果］
以上説明した様に、本発明によれば、オフアクシスの顕
微鏡の温度、経時、取付等による位置誤差をウェハ上に
設けた１丁りの観察系によって測定し、以後の第１露光
位置または第１露光位置への送り込み缶を補正するとい
った手段を講じることにより、オフアクシスの顕微鏡の
位置精度を緩和することができ、装置の組立て、調整及
び保守を容易にし、さらには、電源のオン／オフによ・
るダウンタイムを少なくすることができる。
微鏡の温度、経時、取付等による位置誤差をウェハ上に
設けた１丁りの観察系によって測定し、以後の第１露光
位置または第１露光位置への送り込み缶を補正するとい
った手段を講じることにより、オフアクシスの顕微鏡の
位置精度を緩和することができ、装置の組立て、調整及
び保守を容易にし、さらには、電源のオン／オフによ・
るダウンタイムを少なくすることができる。
第１図はオフアクシスのｖＡ察系により位置合せを行な
う従来の半導体焼付装置の一例を示す図、第２図は第１
図の装置におけるウェハ上への焼付方を示す図、 第３図は第１図の装置におけるオフアクシスの観察とウ
ェハの送り方を説明するための図、第４図は第１図の装
置で用いられるウェハの位置検出用マークの例を示す図
、 第５図は第４図のウェハ位置検出用マークの検出を説明
するための図、 第６図は本発明の一実施例に係る半導体焼付装置を示す
概略構成図、 第７図は第６図の装置で用いられるウェハ及びレチクル
上に形成されたパターンの概略図である。 図中、１は移動ステージ、２は投影レンズ、３はレチク
ル、４は焼付用照明波性、５はウェハ、６，７はモータ
、８はミラー、９は対物レンズ、１０、１５はハーフミ
ラ−１１１は光電検出器、１２はポリゴンミラー、１３
はレーザチューブ、１４はコントロールボックス、１６
．１７はレーザ干渉計、１８は顕微鏡、２１は入出力タ
ーミナルである。
う従来の半導体焼付装置の一例を示す図、第２図は第１
図の装置におけるウェハ上への焼付方を示す図、 第３図は第１図の装置におけるオフアクシスの観察とウ
ェハの送り方を説明するための図、第４図は第１図の装
置で用いられるウェハの位置検出用マークの例を示す図
、 第５図は第４図のウェハ位置検出用マークの検出を説明
するための図、 第６図は本発明の一実施例に係る半導体焼付装置を示す
概略構成図、 第７図は第６図の装置で用いられるウェハ及びレチクル
上に形成されたパターンの概略図である。 図中、１は移動ステージ、２は投影レンズ、３はレチク
ル、４は焼付用照明波性、５はウェハ、６，７はモータ
、８はミラー、９は対物レンズ、１０、１５はハーフミ
ラ−１１１は光電検出器、１２はポリゴンミラー、１３
はレーザチューブ、１４はコントロールボックス、１６
．１７はレーザ干渉計、１８は顕微鏡、２１は入出力タ
ーミナルである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、レチクル上の回路パターンをウェハに投影露光する
投影レンズと、ウェハを搭載して移動する移動ステージ
と、該移動ステージ上に載置されたウェハの載置誤差を
投影レンズの光軸外で検出する顕微鏡と、該顕微鏡下の
載置誤差検出位置から上記投影レンズ下のウェハ露光位
置までの距離と上記顕微鏡の載置誤差検出結果に基づい
て上記ウェハを上記露光位置まで送り込む移動ステージ
駆動手段とを具備する半導体焼付装置において、上記露
光位置に送り込まれたウェハの位置を上記投影レンズを
介して計測する手段と、所望時に該計測手段を駆動しこ
の時得られるウェハ位置計測結果に基づいて以後の上記
載置誤差検出位置と前記露光位置との位置関係を補正す
る手段とを設けたことを特徴とする半導体焼付装置。 ２、前記位置関係を補正する手段が、前記レチクルを移
動して露光位置の補正を行なう特許請求の範囲第１項記
載の半導体焼付装置。 ３、前記位置関係を補正する手段が、前記ウェハ位置計
測結果に基づき前記載置誤差検出位置から露光位置まで
の距離をより正確に算出し、以後はこの算出された距離
に基づいて前記ウェハ送り込みを行なう特許請求の範囲
第１項記載の半導体焼付装置。 ４、前記顕微鏡の位置を計測する一連の手順を顕微鏡位
置計測モードとして記憶し、該顕微鏡位置計測モードに
設定することにより、顕微鏡位置測定用のウェハを用い
て該顕微鏡による該ウェハの載置誤差検出、該ウェハの
前記露光位置への送り込み、前記計測手段によるウェハ
位置計測、該ウェハ位置計測結果に基づく上記顕微鏡の
取付誤差の演算及び該演算結果の記憶を自動的に行なう
ようにした特許請求の範囲第１、２または３項記載の半
導体焼付装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59190670A JPS6169127A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | 投影露光装置の基準距離補正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59190670A JPS6169127A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | 投影露光装置の基準距離補正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6169127A true JPS6169127A (ja) | 1986-04-09 |
| JPH0576765B2 JPH0576765B2 (ja) | 1993-10-25 |
Family
ID=16261936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59190670A Granted JPS6169127A (ja) | 1984-09-13 | 1984-09-13 | 投影露光装置の基準距離補正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6169127A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100610651B1 (ko) * | 2000-02-10 | 2006-08-09 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 투영장치용 물체 위치결정방법 |
| JP2007170919A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Toshiba Corp | 熱交換器の振動測定方法 |
-
1984
- 1984-09-13 JP JP59190670A patent/JPS6169127A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100610651B1 (ko) * | 2000-02-10 | 2006-08-09 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 리소그래피 투영장치용 물체 위치결정방법 |
| JP2007170919A (ja) * | 2005-12-20 | 2007-07-05 | Toshiba Corp | 熱交換器の振動測定方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0576765B2 (ja) | 1993-10-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |