JPS60223818A - ポリヘテロアリ−レンの製造法 - Google Patents

ポリヘテロアリ−レンの製造法

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JPS60223818A
JPS60223818A JP8025984A JP8025984A JPS60223818A JP S60223818 A JPS60223818 A JP S60223818A JP 8025984 A JP8025984 A JP 8025984A JP 8025984 A JP8025984 A JP 8025984A JP S60223818 A JPS60223818 A JP S60223818A
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Haruo Yoshida
晴雄 吉田
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信夫 魚谷
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  • Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 1里μ」luL」 本発明はポリ(ヘア口)アリーレンの製造法に関する。
更に詳しくは、極性非プロトン性溶媒中、無水の状態に
おいて、還元金属の存在下、トリアリールホスフィンを
配位子とづるニッケル零価錯体触媒、を少くとも2個以
上のハロゲンを有する(ヘテロ)芳香族ポリハライドに
作用させることによるポリ(ヘテロ)アリーレンの製造
法に関する。本明細書においてポリ(ヘテロ)アリーレ
ンとはヘテロ原子を有してもよいアリーレン化合物の重
合体をいう。
従来技術 従来よりポリ(ヘテロ)アリーレンは高い耐熱性を有す
る重合体として知られており、この特徴を生かした種々
の用途に用いられいる。またその一部のものはπ電子共
役系の広がりを利用して、近年電導性高分子材料として
興味がもたれている。
これらポリ(ヘテロ)アリーレンの製造法としては幾つ
かの方法が知られている。例えばポリフェニレンオキナ
シアゾール、ポリキノリン、ポリ9゛ベンズイミダゾー
ルのような重縮合反応を利用】るもの或いは金属銅の存
在下でショート置換芳香族化合物をカップリングさせる
ウルマン反応を利用するもの等である。
この他パラジウム或いはニッケル塩を用いて(ヘテロ)
芳香族ポリハライドをカップリングさせる方法が提案さ
れている。例えば特公昭58−24.446号公報およ
び特開昭、−52−154900号公報には遷移金属錯
体触媒の存在下にグリニヤール試薬による(へテロ)芳
香族ポリハライドをカップリングさせることにより、ポ
リチェニレンおよびポリフェニレンを製造することが記
載され一〇いる。これらの反応に使用される触媒として
は、 NiC斐2 (2,2’−ビピリジル)、NiBr2 
(トリフェニルホスフィン)、PdC斐2 (2,2’
−ビピリジル)、Ni CFj2.Ni Br2.Co
 Cu2゜FPC支2およびFeCu3が包含されてい
る。
一 さらに重合はテトラヒドロフラン、ジブチルニーされる
。パラジウム或いはニッケル塩を用いるこれらの反応は
適度な温度で進行4るという利点を右づるが、高重合体
を得るためには、比較的高価な金属マグネシウムを(ヘ
テD )芳香族ポリハライドの特定量に限定しなければ
らないという点で不利である。また特開昭58−433
18号公報には力香族ポリハライドおよびヘテ[1芳香
族ポリハライドのカップリング方法についC1非プロト
ン性溶媒中、亜鉛、マグネシウム、又はマンガンよりな
る群から選ばれる還元金属の存在下、ニッケル化合物、
トリアリールホスフィンおよび少くとも一個の環状窒素
原子を有する芳香族二座配位化合物の組合わせを用いる
ことが提案されている。反応時間および反応温度を減少
させるためには無機塩触媒を使用することが望ましい旨
記載されている。
この反応は、ニッケル化合物が配位子の存在下還元金属
により還元され、ニッケル零価錯体をその場で形成する
。このニッケル零価錯体触媒が(ヘテロ)芳香族ポリハ
ライドを活性化させることによりカップリング反応が進
行するものと考えられる点で、極めて意義深いものであ
るが使用する(ヘテロ)アリールポリハライドの種類に
制限を受ける点で不利である。
加うるにジェー・エフ・フォウバルケ(J、F。
F auvarque)らはニッケル零価錯体触媒の存
在下、P−ジブロムベンゼンを電気化学的に重合するこ
とをマクロモレキュラー、ケミストリー、速報(M a
kromol Chem Rapid Commun 
)第4巻、455頁(1983年)に記載している。触
媒としでは、ジクロロニツウルビス(ジフェニルホスフ
ィノ)エタン錯体を用いるがこれが電気化学的に、還元
されてニッケル零価錯体触媒となり、重合が進行してポ
リ−ローフェニレンが生成するものど考えられている。
この方法によって1qられる重合体は、4−6 ffi
体を含むものであるため、熱安定性に乏しいbのCあっ
た。
発明の目的 本発明者らは上記の点に鑑み鋭意検討した結果、極性非
プロ1〜ン性溶媒中無水の状態において、還元金属の存
在下、トリアリールホスフィンを配位子とするニッケル
零価錯体触媒を少くとも2個以上のハロゲンを右りる(
ヘテロ)芳香族ポリハライドに作用させることにより、
容易にポリ(ヘテロ)アリーレンが生成覆ることを見出
して本発明を達成した。
即ら、本発明はポリ(ヘテロ)アリーレンを製造づるに
際して含窒素芳香族二座配位化合物および無機塩助触媒
を用いることなく、(ヘテロ)芳香族ポリハライドをニ
ッケル零価錯体触媒の作用下カップリングさせることに
よるポリ(ヘテロ)アリーレンの製造方法である。
発明の構成 本発明を実施するに際して反応は無水の条件下で行われ
るが、反応温度は、0〜250℃、好ましくは25〜2
00℃、更に好ましくは40〜150℃で行われる。圧
力は不活性雰囲気中であるならば常圧以下の圧力でも以
上の圧力でも使用することが出来る。反応は数時間〜数
十時間で達成されるが(ヘテロ)芳香族ポリハライドの
種類、反応温度等によって変化しうるちのである。ニッ
ケル零価18体触媒はジー・ウィルケ(G、 Wilk
e)らにより提案されたニッケル二価化合物を1−リア
リルホスフイン存在下でジエチルアルミニウム[)II
〜キシドで還元する(西独特許第1191375jt5
公報)によっても得られるが、テ1〜ラヘドロン・レタ
ーズ(Tetrat+edron l ett )第3
375頁(1975年)に1−ニス、ケンデ(A、 S
、 Kende)らによって報告された極性非プロトン
性溶媒中でニッケル二価化合物をトリアリールホスフィ
ンの存在下、還元金属を用いて還元して得る方法が最も
有利である。使用されるニッケルニ価化合物としては塩
化ニッケル、臭化ニッケル、ヨウ化ニッケル、炭酸ニッ
ケル、硫酸ニッケル、酢酸ニッケル、ニッケルアセチル
7セトナートジクロロービス(トリフェニルホスフィン
)ニッケルなどが挙げられる。
またその他ビス(シクロオクタジエン)ニラクル錯体の
ようなトリアリールホスフィンと配位子交換を零価錯体
も用いうる。ニッケルニ価化合物の使用量は(ヘテロ)
芳香族ポリハライドのハロゲン1個当り、ニッケルのダ
ラム原子換算で、0.001〜0.5当量である。ニッ
ケルニ価化合物を還元し、零価とするための還元金属と
しては、亜鉛、マンガン、マグネシラシムが使用される
が、使用上の利点から特に亜鉛が好ましく、反応速度を
高めるためには粉末状態であることが望ましい。
ニッケルニ価化合物に対して使用される、還元金属は(
ヘロテ)芳香族ポリハライドのハロゲン1個当り、0.
5〜4当聞である。
配位子として使用される適当なトリアリールホスフィン
としては、トリフェニルホスフィン、1〜リス−トリル
ホスフィン、トリフェニルホスフィン等が用いられ、そ
の使用量は、ニッケルニ価化合物のダラム原子当り4へ
一8モルである。
反応に際して使用される極性非プロトン性溶媒としては
、例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド
、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド
、スルホランのようなものが挙げられる。
本発明の実施に際して、(ヘテロ)芳香族ポリが出来る
。これらの化合物としては一般式(1)(式中Arは炭
素数4〜100個のアリール基および/またはへテロア
リール基であり、Y−Zは同じでも異なっていても良い
、水素、アルキル、アルカリール、アラルキル、置換ま
たは非4換アミノ、置換または非置換アミド、ニトリル
、アルデヒド、アルコキシ、アリーロキシ、アルコキシ
カルボニル、アリーロキシカルボニル、ケトアルキル、
ケトアリール、アリールスルホニル、アルキルスルホニ
ル、アルキルカルボニルオキシ、アリールカルボ島ルオ
キシ基から選ばれる置換基で、アルキル基は1〜8個の
炭素原子を含むものであり、アリール基は6〜15個の
炭素原子を含むものであり、Xは塩素、臭素、ヨウ素か
ら選ばれるハロゲン原子でmは2〜5の整数を表わす)
で表わされるものである。
これらの化合物としては、1.2−ジクロロベンゼン、
1,3−ジクロロベンゼン、1,4−ジクロ【」ベンゼ
ン、1,2−ジブロモベンゼン、1.3−ジブロモベン
ゼン、1.4−ジブロモベンピン、1.4−ショートベ
ンゼン、2,5−ジクロロトルエン、2,5−ジクロロ
トルエンゾ工−1〜、N、N−=ジ1チルアミノ−12
,5−ジブロモベンゼン、2.5−ジブ[1七ベンゾニ
1〜リル、2.5−ジクL10プレフタ【]ン1〜リル
、2゜5−ジブロモ−1,4−ジメトキシベンゼン、4
.4′−ジブロモジフェニル、4.4’ −ジブロモジ
フェニルエーテル、2,6−ジブロモナフタレン、2,
6−ジプロモー1.5−ジエチルナフタレン、ジカルボ
キシレート、2,5−ジブロモビローフエン、2,5−
ジブロモ−3−メチル−チオフェン、2,5−ジクロル
ビロール、N−メチル−2,5−ジブロモビロール、2
.6−ジクロロインドール、2,6−ジプロモベンゾヂ
オフエン、2,7−ジクロロイソチアナフテン、3.8
−ジクロロフェノキ4ノジン、2.5−ジクロロピラジ
ン等が挙げられる。これらの化合物は単独で用いること
も組合わゼて用いることも可能であり、これらにより、
オリゴマーのみならず高分子量重合体および共重合体を
得ることが可能である。
このようにして\得られた重合体は耐熱高分子として塗
料、接着剤、フィルム、成形材料として、有用なばかり
でなく、その一部は電池月利、表示材料としても有用な
ものである。
以下に実施例により更に詳しく説明J−るが実施例によ
って、本発明が限定されるものではない。
実施例1 磁気撹拌棒、渇度田、窒素導入口、冷却器を付した10
0dの三ツロフラスコに、ジクロロビス(トリフ1ニル
ホスフイン)ニッケル1o30Ωトリフ1ニルホスフイ
ン1.05(]および亜鉛粉末2.OOgを加え、窒素
気流下室温で30分放置りる。これに脱酸素をしたN、
N−ジメチルホルムアミド30dを窒素気流下で加える
。脱気、窒素置換を3回繰り返した後、2.5−ジブロ
モヂAフェン5、10gヲ加え、100℃テ10時間反
応さけた。混合物を放冷後、濃塩酸40成を含むメタノ
ール溶液10100O中にあけ、1時間撹拌した。得ら
れた暗褐色沈澱をろ過し、水、メタノール、エーテルで
洗浄した後、50℃ぐ一夜真空乾燥して1.58gの固
体を得た。このものを更に、熱クロルベンゼンで20時
間抽出したところ、可溶分は0.55g、不溶分は1.
0gであり、可溶分をクロルベンピン中滲透圧法で分子
間をめたところ990であった。また不溶部の赤外吸収
スペクトルには1460.790crlに二置換チェニ
レンに基づく吸収が認められ、960cm−1のC−B
rに基づく吸収は極めて小さかった。さらに、この不溶
部のX線回折図は2θ−19,5’ 、 22.9°、
 28.0’に明瞭なピークが認められ、結晶性のポリ
(2,5−チェニレン)であることを示した。元素分析
結果C: 57.30%、1」:3.30%、 S :
 28.9%、 3r : 10.5%であった。
実施例2 4.4′−ジブロモジフェニルを6.5g用いた他は実
施例1を踏襲して、2.209の淡黄色の重合体を得た
。このものを、熱トルエンで20時間ソックスレー抽出
して熱トルエン可溶部0.1(] 、同不溶部、2,0
5(lを得た。不溶部の赤外吸収スペクトルには302
5,1595,1480,1395,1000,810
,7[3(i 。
690 c m Jに芳香族CH,P−置換などの吸収
からポリ(4,4’ −シフ1ニレン)であることが認
メラレタ。マタ、1075cm−1の芳香11 C−[
3rの吸収は極めて小さかった。元素分析結果、C72
,06%、H4,30%であった。
実施例3 40〆の脱水したアニソールに溶解した3、09(]の
]P−ジクロルベげンを用いた他は、実施例1を踏襲し
て、1.94(lの淡黄色の重合体を得た。実施例2と
同様にして、ソックスレー抽出により分別し、熱トルエ
ン可溶部、0.57g、同不溶部1.32(1を得lこ
。不溶部の赤外吸収スペクトルは実施例2と殆んど同じ
であり、ポリ(P−]1ンレン)であることが認められ
た。
) 元素分析結果、C: 79,3%、l−1:4,3
%で・あった。
比較例1 実施例1と同じ装置に、塩化ニッケル0.26g、どピ
リジン0.3a 、t−リフェニル小スフィン1.5Q
 、亜鉛粉末2.Oh、e臭化ナトリウム2.09を加
え、窒素気流下、空温ぐ30分放置するこれに脱酸素を
したN、N−ジメチルアセトアミド30InIlを加え
、70℃に加熱づる。この間に系は褐色に変化する。1
.3.5−トリクロルベンゼン0.28 mを加え、さ
らに、2,5−ジブロモチオノ1ン5.1gを加えて、
窒素気流下70℃で7時間反応させた。混合物を放冷後
、10戒の11塩酸を含む、500dのメタノール中に
あけ、1時間撹拌したが沈澱物は何ら得られなかった。
比較例2 比較例1で用いた2、5−ジブロモチAフ1ンの代わり
に、3.09!IIのP−ジクロルベンゼンを用い、還
元金属として、0.8gのグリニ亀?−ル試薬用マグネ
シウムを粉末を用いた他は、比較例1を踏襲したが、同
様に重合体は得られなかった。
特許出願人 昭和電工株式会社 手 続 補 正 書 (自発) // 昭和59年I月/−日 特許庁長官 志賀 学 殿 ■、事件の表示 昭和58年特許願第 8025111号2、発明の名称 ポリヘテロアリーレンの製造法 3、補正をする者 事件との関係 特Ii1出願人 住所 東京都港区芝大門−・下目13番8号名称 (2
00) 昭和電工株式会社 代表者岸本泰延 4、代理人 (郵便番号 105) 居所 東京都港区芝大門−丁目13番8号昭和電工株式
会社内 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄。
6、補正の内容 (1)明細書第7ページ第9行の「換を零価錯体も用い
うる。Jを「換をし得る零価錯体も用いうる。」に補正
する。
(2)明細書第8ページ第(I)式の (3)明細書第13ページ第7行 [ポリ(P−フェンレン)Jを 「ポリ(P−フェニレン)jに補正する。
以 L

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 極性非プロトン性溶媒中、無水の状態において、還元金
    属の存在下、トリアリールホスフィンを配位子とするニ
    ッケル零価錯体触媒を少くとも2個以上のハロゲンを有
    する(ヘテロ)芳香族ポリハライドに作用させることを
    特徴とするポリ(ヘテロ)アリーレンの製造法。
JP8025984A 1984-04-23 1984-04-23 ポリヘテロアリ−レンの製造法 Granted JPS60223818A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07247344A (ja) * 1994-03-14 1995-09-26 Tokyo Inst Of Technol ポリキノン、その製造方法及びそれを利用したエレクトロクロミック素子材料とn型半導体デバイス用材料
JP2007138132A (ja) * 2005-10-19 2007-06-07 Sumitomo Chemical Co Ltd ポリアリーレン系高分子の製造方法
RU2631502C2 (ru) * 2016-02-09 2017-09-25 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Уфимский Институт химии Российской академии наук (УфИХ РАН) Полиарилендифталиды и способ их получения
RU2634729C1 (ru) * 2016-07-19 2017-11-03 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Уфимский Институт химии Российской академии наук (УфИХ РАН) Способ получения стереорегулярных полиарилендифталидов

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