JPS6021523A

JPS6021523A - マスク欠陥検査方法

Info

Publication number: JPS6021523A
Application number: JP58128913A
Authority: JP
Inventors: Osamu Ikenaga; 修池永; Ryoichi Yoshikawa; 良一吉川
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1983-07-15
Filing date: 1983-07-15
Publication date: 1985-02-02
Also published as: DE3475107D1; EP0132122B1; EP0132122A2; EP0132122A3; JPS6352452B2; DD219567A5

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の技術分野〕本発明は、半導体集積回路の製作時に用いられるフォト
マスクの欠陥の有無及びパターンの正否を検査するマス
ク欠陥検査方法に関する。

〔発明の技術的背景とその問題点〕

半導体集積回路の製造船において、・り゛ターン転写に
供されるフォトマスクにパターｙ　断線ｅｌの欠陥が存
在すると、１３１ｒ望する半導体素子を得ることができ
ず、歩箱り低−Ｆの要因となる。そこで従来、フォトマ
スクの・Ｖターン欠陥等を検査するマスク欠陥検査装置
が用いられている。

この装置＃′」″は、フォトマスクに光を照射してマス
ク上に形成され′ＣいるＡ’ターンに応じた光信号を検
出し、該マスクに・セターンを形成する際に用いられた
設ｉ１データから摺られる信号と上記検出信号と全比軟
４１（を合Ｌ　”Ｃ、マスク上の・やターン欠陥の有無
及びバ′ターンの正否を判定するものである。

ところで、この釉の装置ｉｄを：使用して）Ａｌ・マス
ク」二の・Ｖターンを検査する際にｄｌ、マスクを製作
して本装置によシ検査七３行う迄の湯度変動やマスクの
製作梢１隻等に起因して、マスクに形成された・ｅター
ンにＸ方向及びＹ方向の伸縮が生じ、さらＫ　ｚ４′タ
ーンの直交度にもずれが生じる。そして、これらの伸縮
及びずれ等に起因して、欠陥検査に誤差が発生すると云
う問題があった。このため、上記伸縮及びずれ咎を補正
して欠陥検葺を行う方法の実状が要望されている。

一方、上記伸縮及びずれ等の補正を行うには。

マスクと検出光学系との高精度な位置合わせが必要とな
る。この位置合わせは、通常第１図にボす如く複数の光
センサ１１〜ｒＩｎを一方向に配列してなる信号検出部
１を用い、この信号検出部１によシマスフ上に形成され
た位置合わせ用マークの中心位置を検出し、この検出位
置を所望位置に合わせることに・よシ行われる。すなわ
ち、信号検出部１に、対し直交する方向（Ｘ方向）に位
置するマークエツジに対しては、第２図（、、）に示す
如く矩形状マーク２のエツジ２１にの近傍に信号検出部
１が位置するようマスクを載置したテ・−′ゾルを移動
する。次いで、テーブル上゛のマスクに光を照射して信
号検出部Ｊを駆動５− することによりマスクの透過信号を得、複数個のセンサ
７、〜ノア１の検出データを任意Ｖζ股定Ｌしスｌ／　
ツシ□ルｊ２データと比ｉＶシ、各センザのフ゛−夕を
ディフタル４Ｍ号に変侠してその境界点よシ第１のエツ
ジ位置データを得る。さらに。

第１のエツジ位置に対して平行に位置するエツジ２ｂに
対しても上記と同様にして第２のエツジ位置を得て、上
記第１の工、ソ位置と第２のエツジ位置とによりフォト
マスクに形成されているマーク２のＹ方向り杓Ｃ？位置
を決定する。一方、信号検出部ＪＫ対して平行（Ｙ方向
）に位置するマークエツジに対しては第２図（ｂ）に示
す如くマーク２の工、ソ２ｃの近傍に信号検出部１が位
置するようテーブルを移動する。次いで。

テーブル上のフォトマスクに光を照射し、信号検出部１
の特定のセンサ１ｉＶｃよシフオドマスクからの透過信
月を得て、上記で得た検出データを任意に設定したスレ
ッシ、−ルドデータと比較してディジタル信号に変換す
る。上記処理をテーブルをエツジ２ｃと垂直々一定方向
（Ｘ方６一向）に連続的に移動しながら行ない、センサ１ｔの検出
データとスレッショールドデータとの境界点から第３の
エツゾ位置を得る。さらに、上記第３のエツゾ位置と平
行に位置するエツゾ２ｄに対しても上記と同様にテーブ
ルをエツゾ２ｄに対して垂直な一定方向に連続的に移動
しながら特定のセンサ１ｚによシフオドマスクの透過信
号を得て第４のエツゾ位置を得て、上記第３のエツゾ位
置と第４のエツゾ位置とによシマーク２のＸ方向中心位
置を決定する。そしてこれらＸ方向及びＹ方向の中心位
置から、フォトマスクに形成されているマークの中心位
置を決定していた。

しかしながら、この種の方法にあっては次のような問題
があった。すなわち、マークエツジを検出する場合にテ
ーブルを移動しながら信号検出部１の光センサでの検出
データが「１」から「（）」或いは「０」から「１」に
変化したときにテーブルの位置を読み込んでマークエツ
ゾ位置を決定しているので、精度を上げるためには速度
補正等が必要となりその制御が（帆めで複雑化する。

また、光センサ１ｔの配置位置による誤差が生じる。さ
らに％マーク上２フ位置の検出の際にノイズによる精度
の影響が極めて大きく、マークエッノ位置の検出両差が
大きい等の問題があった。

〔発明の目的〕

本発明の１−１的ｔ、１、フォトマスクの伸縮及びノ９
ターン直交度のずれ等を高精度に補正するととができ、
・！ターン欠陥の検査を高精度に行い得るマスク欠陥検
査方法を提供することにある。

〔発明の概要〕

本発明の骨Ｆは、検数の位ｌｉｔ合わせ一７−クの中心
位置を検出１２．該位Ｒに基づいてマスクの伸縮やパタ
ーン直交度のずれ等をめることにある。

すなわち本発明ｔま、・！ターン転写に供されるフォト
マスクを載１ｉｆｔ　ｔ、　Ｘ方向及び該方向に偵交す
る方向に移動せられるテーブルと、このテーブルの位置
を測定する位置測定部と、上ｉ［シテーブル上のマスク
に光を照射する光照射部と、複数の光セン４）を一方向
に配列してなり上記光の照射及びマスク上での光照射位
置の移動により得られる上記マスク上に形成された被検
査パターンに対応する第１の走査信号を検出する信号検
出部と、上記被検査パターンを形成する際の設計データ
を基に得られる第２の走査信号を発生する基準信号発生
部と、上記第１及び第２の走査信号を比較照合してマス
ク上の欠陥ノリ―ン部を検出する欠陥検出部とを備えた
マスク欠陥検査装置を用い、上記信号検出部にょシマス
フ上の位置合わせマークの中心位置を検出し、この中心
位置に基づき被検査パターンの欠陥判定を行う方法にお
いて、前記位置合わせマークとして少なくとも３個のマ
ークを用い、これらのマークの各中心位置を検出し、こ
れらの中心位置の各座標から前記マスクのＸ方向伸縮量
。

Ｙ方向伸縮量及び直交度のずれをめ、これらめた伸縮量
及びずれに基づき前記第２の走査信号を補正するように
した方法である。

９− 〔発明の効果〕本発明によれば、複数の位置合わせマークの中心位置を
検出することにより、これらの位置と本来あるべき位置
との比較から、マスクの伸縮ｌ°や・９タ一ン直交度の
ずれ等を精度良くめる仁とができる。したがって、上記
伸縮ｉ１及びずれ等を補正して欠陥検査を行うことがで
き、検査精度の大幅な向上をはかシ得る。ま＆、　、従
来はマスクの欠陥検査として・９ターン検査と伸縮やず
れ等の検査を行う精度検査とは別の装置でなされていた
が、本発明では・量ターン検査に先立ち伸縮及びずれを
検出して一定の杵容精度にないものは・母ターン検査を
行わないようにすることができる。このため、装置のス
ループット向上をはか石ことができ、検査工程全体のス
ループット向上ｆはかり得る。

〔発明の実施例〕

第３図は本発明の・一実施例方法に使用したマスク欠陥
検査装置を示す概略構成図である。図中１１はテーブル
で、このテーブル１１ＦｉＹ方１０− 向に移動可能なＹテーブル１１ｂ及び該テーブル１１上
に載置されＸ方向に移動可能なＸテーブルｌ１ｍから構
成される。そして、Ｘテーブルｌｌｈ上ｅζフォトマス
クツ２が載置されるものとなっている。テーブル１ノは
計算機ｉ、ｑからの指令を受けたデープル駆動部１４に
より駆動される。テーブル１ノの移動位置はレーデ干渉
［１１’　１５　Ｋより測長され１位置測定部Ｊ６によ
って測定される。位置測定部１６で測定されたテーブル
位置は、位置データバッファ（第１データバツフア）１
７に一時記憶され、計算機Ｉ３に送出されるものとなっ
ている。

−刀、前記テーブル１１の上方には光源１８が配置され
ている。この光源１８からの光はレンズ１９によシ焦束
され微小スポット光としてテーブル１１上のマスク１２
に照射される。この光照射によりマスク１２を透過した
透過光はレンズ２０を介して信号検出部２１の受光部に
結像される。信号検出部２１は前記第１図に示した如く
複数の光センサを一方向に配置１１シてなるものであり
、この検出部；・Ｉで検出された検Ｌｌｊ　ｆ−タ（第
１の走査信号）は、検出データバッファ（第２デー　タ
パッファ）２２に一時記憶され、ｄ［賛機１３Ｖこ送出
さＪｌ、ると共に、欠陥検出部２３へ送出さｉｔ　４＋
　、−４−た、欠陥検出部２４にＶｌｌ、マスク１２１
−の被検査・ヤターンを作成する際のｖｇ＋−ｉ’−夕
を）＋ｌ、Ｆｆ７１１・準イバ号発生部２４から発生で
ｈだ第２の＞＋４査信号が送出される。そして、欠陥検
出部２３目、ＪＪ：第１及び第２の走査（Ｒ月−をＩＬ
較１１（１合１．てこれらに差異があったどきに欠陥４
］りとｆｌＪ犀し、その時に信号検出部２１から得Ｃ１
れる４灸出データを第２データバッファ部２２へ＋とｉ
納すると共に、欠陥有りと判定した時のテーブル位置座
標を８１！１デ一タバツフア部１７へ格納するものと力
、っている。

また、欠陥判矩部２３は第４図に示す如く３つのバッフ
・ｙ　２．５　、２６　、２７　＋基準信号補正回路２
８及び欠陥判定回路２９叫から構成され、マスク１２の
伸縮や・ヤターン直交度のずれ等に応じて前記第２の走
査イ、（号を補正するものとなっている。すなわち、後
述する方法によ請求めたパターン直交度のずれ、マスク
１２のＸ方向伸ｉｉｉ及びＹ方向伸縮の各データはバッ
ファ２５゜２６．２７にそれぞれ格納される。基準信号
補正回路２８では上記バッファ２５，２６．２７に格納
された各データに基づいて前記入力した第２の走査信号
を補正される。そして、欠陥判定回路２９により上記補
正信号と前記第１の走査信号とが比較照合されるものと
なっている。

このような装置を用い、まずテーブル１１上にフォトマ
スク１２を載置【７、第５図に示す如きマスク１２に形
成されている位置合わせ用マーク３）の中心近傍が光学
系の光軸と一致するようテーブル１１の位置を設定する
。次いで、光源１８からの光をマーク部へ照射しながら
。

第６図に示す如くマーク３１に対しＹテーブル１１ｂを
移動方向Ｙ１の方向へ移動させながら複数個のセンサで
構成される信号検出部２１を駆動してフォトマスク１２
に形成されているマーク３１に応じた走査信号を得て検
出、信号バ１３− ッファ部２２へ格納する。これと共に複数の走査信号を
得る際の各々の走査信号に対応したテーブル１１の位置
データをレーデ−干渉削１５により測長じて位置測定部
１６に得て位置データバッファ部１２へ格納する。これ
により第７図（、）〜（ｄ）に示す如き走査信号が信号
検出部２１にて得られ、上記走査信号を信号検出部２１
の各センサについて位置データバッファ部１７へ格納さ
れている位置ｒ−夕とそれに対応したセンサ信号を解析
することによシ第８図（−）〜（ｄ）に示す如き走査４
６号が得られ各センサ毎にマークエッジ３ＪＩＬ位１層
が磐田される。そして、上記各センサ毎のエツジ位置を
処理することによシ第１のノ？ターンエッソ位置を得る
。なお、第７図（ＩＩ）〜（ｄ）で（Ａ）〜（ｄ）　ｉ
Ｌｔそれぞれ各センサで得られる特定時Ｎでの検出信号
を示し、第８図（、）〜（ｄ）で（、）〜（ｄ）はそれ
ぞれ特定センサで得られる検出走査信号を示している。

次に、Ｙテーブル１７ｂを第１のパターンエア２位置を
得た際の移動方向と相反する方向Ｙ２へ移動しながら信
号検出−１４− 柚゛″’ｉＩを、駆動して第１のマークエツジ３１ａと
平行に位置する第２のマークエツジ３１ｂを含ｔｒフォ
トマスクからの走査信号を得で、上記走イ；「信号を検
出信号バッファ部２２へ格納して。

その時の走査信号に対応する位置データを位置測定部１
６から得て位置データバッファ部１７へ格納して、信号
検出部２１で前記第７図（ａ）〜ω）に示されるところ
の走査信号を得て、上記走査信号と位置データバッファ
部７７に格納されている位置データに対して第８図（、
）〜（ｄ）に示されるところの走査信号を得て、上記特
性データを解析することにより第２のエツソ位置を得る
。

そして、上記第１のエツソ位置と第２のエツソ位置とに
よりマーク３１の信号検出部２１に対１７て垂直方向の
中心位置、つまりＸ方向中心位置を決定する。

次に、Ｘテーブル１１１１を移動方向Ｘ１の方向へ移動
させながら信号検出部２ノを駆動して第９図（ａ）〜（
ｄ）に示すような走査信号を得て検出（Ｌｆ号バッファ
部２２へ格納し、そのときの走査信号に対応［７たｆ）
冒Ｉ＃シ゛−夕を位置測定部１６から得て位置ｒ−タバ
、ノア部１７へ格納［２、第１０図（８）〜（ｄ）に示
すような位置データと走査信号の特性をイｈで、上記ｉ
′−夕から第３のマ・−クエッノ、９１ｃの位１帽を得
る。

々お、第９図（Ｉｔ”１−（１１）で（＆）　〜（ｄ）
はそれぞれ各センーリでイｉらノする特定時刻での検出
信号を示し、第１０図（ａ）〜（ｄ）で（ａ）・〜（ｄ
）はそれぞれ特定センサで得らＪする検出走査信号を示
（〜でいる。次いで。

Ｘテーブル１１ｔｈを第３の工、）位置を得たときと相
反する方向Ｘ２へ移動させながら信号検出部２Ｉを駆ｉ
ｉ＋ｊ　ｔ、、て前記第９図（ａ）〜（ｄ）に示すよう
彦走査信号を得て１位藺データバッファ部Ｉへ格納され
ている位置データに対して第１０図（！Ｌ）〜（ｄ）に
示すような特性データを得て、−Ｆ記データから第４の
マークエツジ３１ｄの位置を得て、前記第３のエツソ位
置と第４のエツソ位置とによｐマーク３１の信号検出部
２１に対【７て水平方向の中心位置、つ′止りＹ方向中
心位置を決定する。そし′Ｃ％Ｘ方向及びＹ方向の中心
位置に基づきフォトマスク１２上に形成されている位置
合わせ用マーク３１の中心位置を検出する。

次に、上記方法を用い第１１図に示す如き４つの位置合
わせ用マーク４１，４２，４３゜４４の各中心位１ｄを
順次検出する。ここで、マーク４１．〜，４４は％Ｘ方
向に平行な２辺及びＹ方向に平行な２辺からなる正方形
の４つの角部にそれぞれ配置しておく。そして、上記検
出した中心位置の座標からマスク１２の・母ターン直交
度のずれ及びゆがみ量をめる。また、マーク４１．４２
の中心位置間距離及びマーク４３．４４の中心位置間距
離と、設計データにおけるマーク間距離とによシマスフ
１２のＸ方向の伸縮量をめる。さらに、上記と同様にマ
ーク４１．４Ｊ及びマーク４２．４３の中心位置間距離
から、マスク１２のＹ方向伸縮量をめる。なお、第５図
は上記直交度のずれ及び伸縮量に起因する基準データの
歪を示すもので、尖縁５１は設「１″データ、破線５２
は歪データを１７− 示している。

かくして得られた山交ＩＷのずれ及び伸縮量のデータを
、前６ピ第４図に示ノ°バッファ２５゜２６．２７にそ
れぞれ設定する。この後、ｉ所常の欠陥検査と同様に被
検４：／ｆターン部に光を照射し第１の走査ｆＨ号をイ
（する。これと同相・に、上記ずれ及び伸縮量のデー・
夕に基づき前記第２の走査信号を補１トーシ、この補正
信号と第１の走査信号との比較照合によりパターン欠陥
の有無を判定する。これにより、・Ｐターン直交度のず
れやマスクの伸縮に拘りなく、・９ターン欠陥検査を高
１ｆ４ＩＯ’に行うことができた。

こめように本実施例方法によれば、４つの位置合わせ用
マーク４１．〜．４４の中心位置検出によりマスク１２
の伸縮や）’？ターン直交度のずれ吟を精度良＜　４１
に出することができ、上記伸縮及びずれ等を補正して欠
陥検査を行うことにより、＃１査精度の大幅な向」二を
はかシ得る。また、位置検出に際１〜で１つのセンサで
なく複数のセンサを用いているので、ノイズによる誤差
を小さくできると共に、位置検出の信頼性及び精度が向
上し、マーク位置の中心位置を極めて高精度に決定する
ことができる。これにより、マスクの伸縮量や・平ター
ン直交度のずれ等の補正を高精度に行うことができる。

またげ−り１２の第１エツソ位置を決定する場合とそれ
に平行な第２工、ゾ位置を決定する際に、テーブルの移
動方向を逆にしているので、テーブル移動速度の変化に
起因してマーク中心位置検出に誤差が生じる等の不都合
もない。

なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
Ｉ／）。例えば、前記位置合わせ用マークの個数は４個
に限るものではなく、マスクの伸縮及び・ぞターン直交
度のずれ等を検出するに最小限必要な３個以上でおれば
よい。さらに、マークの形状は矩形に限るものではな（
、Ｌ型や十字型であってもよいのは勿論のことである。

また、マークの中心位置検出方法としては、実施例に示
した方法に何ら限定されず、適宜変更可能である。せの
他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実
施することができる。

実現できるものであり、マーク位置検出のために新た々
装置を用いる必要がない。

なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
く、ぞの要旨を逸脱しない範囲で。

種々変形して実施することができる１例えば、前記マー
クは矩形状のものに限るものではなくＬ字形のものであ
ってもよい。また、マークの透過光の代りにマークから
の反射光を検出してマーク中心位置検出を得ることも可
能である。

さらに、マスク欠陥検査装置に限らず、マスクの位置ａ
わせを要する各種の装置に適用できるのも勿論のことで
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は複数の光センサからなる信号検出部の概略構成
を示す模式図、第２図（ａ）　（ｂ）は従来のマーク位
繭検出方法を説明するための模式図。第３図は本発明の一実施例方法に使用したマスク欠陥検
査装置を示す概略構成図、第４図は」二記装置の要部構
成を示すブロック図、第５図はフォトマスクに形成され
ているノソターンの一例を示す図、第６図は検出・２タ
ーンの各パターンエツソ位置データを得る際の試料台の
移動方向を示す図、第７図（ａ）〜（ａ）は信号検出部
に対して平行に位置する・９ターンエ、ソ位置データを
得る際に信号検出部で得られる走査信号を表わす図、第
８図（ａ）〜（ｄ）は第７図（、）〜（ｄ）での走査信
号を試料台の位置データに対して示した図、第９図（、
）〜（ｄ）は信号検出部に対して垂直に位置するパター
ンエツジ位置データを得る際に信号検出部で得られる走
査信号を表わす図、第１０図（、）〜（ｄ）は第９図（
＆）〜（ｄ）での走査信号を試料台の位置データＶこ対
して示した図、第１１図はマークの配置例を示す模式図
、第１２図は歪の一例を示す模式図である。１１・・・テーブル％１１ａ・・・Ｘテーブル、１１ｂ
・・・Ｙテーブル、１２・・・マスク、１３・・・ｉｔ
　ｘ　ｉ　。１４・・・テーブル駆動部、１５・・・レーデ干渉計。１６・・・位置測定部、１７・・・位置データバッファ
（第１データバッファ部）、１８・・・光源、１９゜２
１− ２θ・・・レンズ、２Ｉ・・・信号検出部、２２・・・
検出データバッフγ（第２データバッファ部）、２３・
・・欠陥検出ｆ？ｌ（、２４・・・基準信号発生部。３１．４１．〜．４４・・・位置合わせ用マーク、３１
１Ｌ〜３１ｄ・・・マークエ、ゾ。出願人代理人　弁理士　鈴　江　武　彦２２− 第４図２３を第５図１）　、Ｏｕｔ＞ −ノ　ζノ　−ノ　＼′ 手続補正書昭和　イー８・♀・Ｈ那１、事件の表示特願昭５８−１２８９１３号２、発明の名称マスク欠陥検査方法３、補正をする渚事件との関係　特許出願人（３０７）　東京芝浦電気株式会社４、代理人６、補正の対象明細書７、補正の内容（１）明細書の第１９頁第２０行目に「せの他」とある
のを「その他」と訂正する。 ′２）　明細書の第２０Ｍ第２行目がら同頁３行目を抹
消する。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）ハターン転写に供されるフォトマスクを載置しＸ
方向及び該方向に略直交するＹ方向に移動せられるチー
グルと、このテーブルの位置を測定する位１ｕ測定部と
、上記テーブル上のマスクに光を照射する光照射部と、
複数の光センサを一方向に配列してなり上記光の照射及
びマスク上での光照射位置の移ｋｂにより得られる−［
１記マスク上に形成された被検査）９ターンに対応する
第１の走査信号を検出する信号検出部と、上記被検査・
ぐターンの設計データを前記位置測定部よりイ募られる
位置に対応させて第２の走査信号を発生する基準信号発
生部と、上記第１及び第２の走査（Ｍ　ｊＪを比較照合
してマスク上の欠陥・翫・ターン部ケ検出する欠陥検出
部とを備えたマスク欠陥検査装置を用いて被検査パター
ンの欠陥判定を行う方法において、前記マスク上に位置
合わせマークと１７で少なくとも３個のマークを設け、
これらのマークの各中心位置を前記信号検出部により検
出し、これらの中心位置の各座標から前ｉ上マスクのＸ
方向伸縮Ｊ！、Ｙ方向伸縮蓋及び直交度のずれをめ、こ
れらめた伸ｍｌ−及びずれに基づき前記第２の走査信号
を発生する際の位置情報を補正することを特徴とするマ
スク欠陥検査７ｊ法。
（２）　前記位置合わすマークは、Ｘ方向に平行な２辺
及びＹ方向に平行な２辺か□らなる４角形の各角部にそ
れぞれ配置され、これらのマークの各中心位置の検出座
標から前記マスクのＸ方向伸縮量、Ｙ方向伸縮量、直交
度のす九及びパターンのゆがみをめ、これらめたデータ
に基づき前記第２の走査信号を補正することを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載のマスク欠陥検査方法。
（３）　前記位置合わせマークの中心位置検出手段とし
て、」１記マークのＸ方向に平行な一対のエツゾのＹ方
向位置をそれぞｔ検出し該検出した各エツジ位置からマ
ークのＹ方向中心位置をめると共に、」−記マークのＹ
方向に平行な一対のエツジのＸ方向位置をそれぞれ検出
し該検出１〜だ各エツジ位置からマークのＸ方向中心位
置をめ、これらめたＸ方向及びＹ方向の中心位置からマ
ークの中心位置を検出することを特徴とする特許請求の
範囲第１項又は第２項記載のマスク欠陥検査方法。
（４）前記位置合わせマークの任意エツジの位置を検出
する手段と（〜で、前記テーブルを上記任意エツジと直
交する方向に移動しながら前記信号検出部を駆動して複
数の走査信号を得ると共に、前記位置測定部によシ上記
走査信号に対応したテーブル位置座標を得、この位置座
標に基づき各走査信号を解析して上記任意エツジを検出
することを特徴とする特許請求の範囲第３項記載のマス
ク欠陥検査方法。