JP2009139166A - 画像欠陥検査方法および画像欠陥検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ある被検査物から光電変換された画像信号と参照画像を比較検査するパターンの欠陥検査方法において、前記参照画像を補正して第1の補正画像を得る第1の画像補正ステップS41と、前記画像信号と前記第1の補正画像を用いて欠陥を検出し欠陥座標を求める第1の欠陥検出ステップS42と、前記画像信号と前記第1の補正画像と前記欠陥座標から重み画像を得る重み画像算出ステップS43と、前記画像信号と前記第1の補正画像と前記重み画像を用いて第1の補正画像を再補正して第2の補正画像を得る第2の画像補正ステップS44と、前記画像信号と前記第2の補正画像を用いて欠陥を検出する第2の欠陥検出ステップS45を備えることを特徴とする。
【選択図】図6
Description
以下、本発明の欠陥検出方法で使用することができる画像欠陥検査装置1について、詳細を説明する。図1は、第1の実施の形態にかかる画像欠陥検査装置1の構成を示す概要図である。図1の概要図を用いて装置構成を詳細に説明する。第1の実施の形態にかかる画像欠陥検査装置1は、レチクル101などの検査対象物に形成されたパターンが所定の形状に形成されているか、すなわち、画像に欠陥があるか否か検査する装置である。この画像欠陥検査装置1は、光学画像取得部110とデータ処理部120とを備えている。
光学画像取得部110のハードウエア構成について図1を用いて説明する。
光学画像取得部110は、レチクル101の光学画像を取得する。検査対象試料となるレチクル101は、XYθ テーブル102上に載置される。XYθテーブル102は、テーブル制御部114からの指令で、XYθテーブル102各軸のモータ150、151、152によって水平方向及び回転方向に移動するように制御される。光源103からの光は、レチクル101に形成されたパターンに照射される。レチクル101を透過した光は、拡大光学系104を介して、フォトダイオードアレイ105に光学像として結像する。フォトダイオードアレイ105に取り込まれた画像は、センサ回路106で処理されて、光学画像のデータとなる。一方、レーザ測長システム132は、測定したXYθテーブル102の位置信号を位置測定部107に送信する。
図1において、データ処理部120は、参照画像生成部122と、画像補正処理部124と、中央演算処理部131と、オートローダ制御部113と、テーブル制御部114と、データベース140と、データベース作成部141と、欠陥座標算出部108と、重み画像検査部109と、位置測定部107と、を備えている。更に、通常のコンピューターに装備される磁気ディスク装置、磁気テープ装置、FD、CRT、パターンモニタ、プリンタなどの周辺装備を備えている。これらの周辺装備は、通常のコンピューターに装備されるものであり、詳細の説明を省略する。これらすべての構成要素は、通信可能なように、バス153で接続されている。なお、データ処理部120は、電子回路、プログラム、又は、これらの組み合わせにより構成できる。
以下、第2の実施の形態にかかる画像欠陥検査方法について詳細を説明する。第2の実施の形態が、第1の実施の形態と異なる点は、所定の光学画像取得手段により取得された光学画像を検査する画像欠陥検査方法である。第1の実施の形態にかかる画像欠陥検査装置の光学画像取得部110において取得された光学画像を検査する処理手順を詳細に説明する。同じ符号は同じ構成を示し、詳細の説明を省略する。図6は、第2の実施の形態にかかる画像欠陥検査方法の処理手順を示すフローチャートである。
このステップは、検査基準パターン画像のアライメント、あるいは、画像の伸縮、うねり、センシングノイズ、フォーカスずれなど、被検査パターン画像あるいは検査基準パターン画像の劣化を回復するための処理であり、特開2006−266860号公報に開示されている方法を採用することができる。以下、その方法を簡単に説明する。この方法は、以下に記載するように、2次元線形予測モデルの設定段階、連立方程式解法段階、モデル画像の生成段階からなっている。
最初に、検査基準パターン画像を2次元入力データ、被検査パターン画像を2次元出力データと見なして2次元線形予測モデル(2次元入出力線形予測モデル)を設定する方法について説明する。ここでは、5×5画素の領域を用いた5×5の2次元線形予測モデルを例に取る。このモデルで用いるサフィックス(5×5の画素の位置に対応)を表1に示す。図7は、第2の実施の形態にかかる画像欠陥検査方法のパターン画像の比較を示す図である。なお、図7においては、左図を検査基準パターン画像とし、右図を被検査パターン画像とする。
式(1)をベクトルで表すと、式(2)となる。ここで、未知パラメータベクトルαは、α=[b00,b01,・・・,b44]Tであり、また、データベクトルxkはxk=[u(i−2,j−2),u(i−2,j−1),・・・,u(i+2,j+2)]Tである。
同定されたモデルパラメータαと、同定に用いた入出力画像データを式(1)に代入し、画素の座標i,jを走査するシミュレーション演算を行うことによって、推定モデル画像を生成する。この推定モデル画像が、目的とする第1の補正画像である。この推定モデル画像では、最小2乗法に基づくフィッティングによって、1画素未満の画素位置ズレや伸縮・うねりノイズ、リサイズ処理、センシングノイズの低減が実現されている。ここで、シミュレーションに用いるデータには当然、欠陥画素が含まれることになるが、同定に用いた全データ数に比べてごく少数であるため、最小2乗法ではフィッティングされず、推定モデル画像には現れない。また、周囲のS/N比が向上しているので、欠陥画素が強調される効果もある。
このステップでは従来技術をそのまま流用し、被検査パターン画像と第1の補正画像の差分を求め、差分が所定の閾値を越えた領域を欠陥と判定し、欠陥の位置座標を求める。求めた一連の欠陥の位置座標を第1の欠陥検出による座標(px、py)と呼ぶ。
第1の補正画像について、全ての画素(x、y)に対し以下の処理を行う。
すなわち、(px、py)を中心とした15×15画素と、(x、y)を中心とした15×15画素のSSD値を求め、SSD(x、y)とおく。そして、A・exp(−ssd(x,y)/T)を重み画像の座標(x、y)の階調値とする。ただし、(x,y)と(px,py)のシティブロック距離がd以下であれば、重み画像の座標(x,y)の階調値は0とする。ここでAとTとdは定数であり、例えばd=15、A=100、T=1000000とすることができる。
従来技術(ここでは特開2006−266860の技術を使用。)を使用し、第1の補正画像を補正して、第2の補正画像を得る。ただし、最小化すべき誤差の基準は、被検査パターン画像の階調値をp(x、y)、第2の補正画像をq(x、y)、重み画像の階調値をW(x、y)として、式(5)のようにとる。
このステップでは従来技術をそのまま流用し、被検査パターン画像と第2の補正画像を用いて第2の画像欠陥検出を実行する。従来技術としては、例えば、被検査パターン画像と第2の補正画像の差分を取り、差分が所定値を越えた領域を欠陥と判定することができる。このようにして得られた欠陥の位置座標を(rx、ry)とする。
以上のように、第2の実施の形態によれば、光学画像と補正済参照画像から欠陥座標を算出し、欠陥座標値から生成された重み付け画像と補正済参照画像から重み付け参照画像を生成して再度欠陥判定を行うことにより、従来技術では難しかった一部の領域に差異が発生する場合にも高精度の画像欠陥判定を可能とする画像検査方法を提供する。
100…光学画像
101…レチクル
102…XYθテーブル
103…光源
104…拡大光学系
105…フォトダイオードアレイ
106…センサ回路
107…位置測定部
108…欠陥座標算出部
109…重み画像検査部
110…光学画像取得部
120…データ処理部
121…CADデータ
122…参照画像生成部
123…参照画像
124…画像補正処理部
125…補正済参照画像
126…欠陥座標情報
127…重み付け画像
128…重み付け参照画像
129…欠陥判定結果
131…中央演算処理部
132…レーザ測長システム
133…重み画像算出部
134…重み画像補正部
135…欠陥判定部
140…データベース
141…データベース作成部
150…Xモータ
151…Yモータ
152…θモータ
153…バス
200…補正モデルパラメータ同定部
201…画像補正部
202…特徴データ
204…補正モデルパラメータ
Claims (2)
- ある被検査物から光電変換された画像信号と参照画像を比較検査するパターンの欠陥検査方法において、
前記参照画像を補正して第1の補正画像を得る第1の画像補正ステップと、
前記画像信号と前記第1の補正画像を用いて欠陥を検出し欠陥座標を求める第1の欠陥検出ステップと、
前記画像信号と前記第1の補正画像と前記欠陥座標から重み画像を得る重み画像算出ステップと、
前記画像信号と前記第1の補正画像と前記重み画像を用いて第1の補正画像を再補正して第2の補正画像を得る第2の画像補正ステップと、
前記画像信号と前記第2の補正画像を用いて欠陥を検出する第2の欠陥検出ステップを備えることを特徴とする画像欠陥検査方法。 - ある被検査物から光電変換された画像信号と参照画像を比較検査するパターンの欠陥検査装置において、
前記参照画像を補正して第1の補正画像を得る第1の画像補正手段と、
前記画像信号と前記第1の補正画像を用いて欠陥を検出し欠陥座標を求める第1の欠陥検出手段と、
前記画像信号と前記第1の補正画像と前記欠陥座標から重み画像を得る重み画像算出手段と、
前記画像信号と前記第1の補正画像と前記重み画像を用いて第1の補正画像を再補正して第2の補正画像を得る第2の画像補正手段と、
前記画像信号と前記第2の補正画像を用いて欠陥を検出する第2の欠陥検出手段を備えることを特徴とする画像欠陥検査装置。
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006234554A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
JP2006266860A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | 画像補正方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006234554A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン検査方法およびパターン検査装置 |
JP2006266860A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-10-05 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | 画像補正方法 |
JP2007064842A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Advanced Mask Inspection Technology Kk | 試料検査装置、試料検査方法及びプログラム |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012173072A (ja) * | 2011-02-18 | 2012-09-10 | Nuflare Technology Inc | 検査装置および検査方法 |
US10096100B2 (en) | 2015-09-03 | 2018-10-09 | Toshiba Memory Corporation | Inspection device, inspection method, and image processing program |
KR20200126921A (ko) * | 2019-04-29 | 2020-11-09 | 엠아이 이큅먼트 (엠) 에스디엔. 비에이치디. | 스켈러톤 웨이퍼 검사 방법 |
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