JPS6021383Y2 - 熱処理炉 - Google Patents
熱処理炉Info
- Publication number
- JPS6021383Y2 JPS6021383Y2 JP10786180U JP10786180U JPS6021383Y2 JP S6021383 Y2 JPS6021383 Y2 JP S6021383Y2 JP 10786180 U JP10786180 U JP 10786180U JP 10786180 U JP10786180 U JP 10786180U JP S6021383 Y2 JPS6021383 Y2 JP S6021383Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace chamber
- heat treatment
- suction
- furnace
- temperature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、被加工物を熱処理する場合に用いられる熱処
理炉に関する。
理炉に関する。
従来、この種の熱処理炉は、自然対流又はファン等を用
いた強制対流式の構造のものが良く知られているが、い
ずれの場合にも炉室内に熱雰囲気の澱みが生じ、炉室内
を均一な温度状態にすることが難かしく、被加工物が小
さかったり、凹凸等の複雑な形状を有する場合等には部
分的な温度分布の不均一が生じ、熱処理が均一に行なわ
れない欠点があった。
いた強制対流式の構造のものが良く知られているが、い
ずれの場合にも炉室内に熱雰囲気の澱みが生じ、炉室内
を均一な温度状態にすることが難かしく、被加工物が小
さかったり、凹凸等の複雑な形状を有する場合等には部
分的な温度分布の不均一が生じ、熱処理が均一に行なわ
れない欠点があった。
特に、熱処理時に、水素ガス等の反応性ガスを用いる場
合には、温度の不均一と共にガス濃度の不均一も生じ易
く、適切な熱処理が困難となる事態も多々生じていた。
合には、温度の不均一と共にガス濃度の不均一も生じ易
く、適切な熱処理が困難となる事態も多々生じていた。
そこで、本考案は、炉室内の適宜な個所に吸引手段に接
続された吸引孔を複数個形威し、前記吸引孔を介して炉
室内の熱雰囲気を吸入循環させ得るように構成腰もって
前述の欠点を解消した熱処理炉を提供することを目的と
するものである。
続された吸引孔を複数個形威し、前記吸引孔を介して炉
室内の熱雰囲気を吸入循環させ得るように構成腰もって
前述の欠点を解消した熱処理炉を提供することを目的と
するものである。
以下、図面に示す一実施例に基き、本考案を具体的に説
明する。
明する。
熱処理炉1は、第1図に示すように、耐熱性の炉室2を
有しており、炉室2の外側には加熱用ヒーター3が設置
されている。
有しており、炉室2の外側には加熱用ヒーター3が設置
されている。
炉室2内には被加工物4,5を炉室2内に設置するため
の設置治具6.7が多数設けられており、各治具6には
吸引孔6aが複数個形威され、治具7には、第2図に示
すように、多数の吸引孔7aが形成された吸引塔7bが
設置されている。
の設置治具6.7が多数設けられており、各治具6には
吸引孔6aが複数個形威され、治具7には、第2図に示
すように、多数の吸引孔7aが形成された吸引塔7bが
設置されている。
吸引孔6a及び吸引塔7bにはパイプ9を介してチュー
ブ10の一端が接続しており、チューブ9の他端は炉室
2外に引き出され、吸引手段であるエアーポンプ11の
吸引側11aに接続している。
ブ10の一端が接続しており、チューブ9の他端は炉室
2外に引き出され、吸引手段であるエアーポンプ11の
吸引側11aに接続している。
なお、ポンプ11の吐出側11bはパイプ12を介して
炉室2上部に形成された吐出孔2aに接続している。
炉室2上部に形成された吐出孔2aに接続している。
本考案は、以上のような構成を有するので、熱処理炉1
を用いて、板状及び円筒状の被加工物4.5を熱処理す
る場合、板状の被加工物4を設置治具6上に載置し、円
筒状の被加工物5を治具7上に、被加工物5の中空内筒
部5aに吸引塔7bを挿入貫通させる形で載置する。
を用いて、板状及び円筒状の被加工物4.5を熱処理す
る場合、板状の被加工物4を設置治具6上に載置し、円
筒状の被加工物5を治具7上に、被加工物5の中空内筒
部5aに吸引塔7bを挿入貫通させる形で載置する。
次に、ヒーター3に通電して炉室2内を所定の熱処理温
度に上昇させると共に、炉室2内に水素等の反応性ガス
を注入し、更にエアーポンプ11を駆動して、治具6,
7上の吸引孔6a、7aから高温に熱せられたガス、即
ち熱雰囲気を吸入し、チューブ10、パイプ12、吐出
孔2a等を介して炉室2上部に放出する。
度に上昇させると共に、炉室2内に水素等の反応性ガス
を注入し、更にエアーポンプ11を駆動して、治具6,
7上の吸引孔6a、7aから高温に熱せられたガス、即
ち熱雰囲気を吸入し、チューブ10、パイプ12、吐出
孔2a等を介して炉室2上部に放出する。
炉室2内の熱雰囲気が吸引孔6at7aから吸引される
と、炉室2内に穏やかな気流が生じ、それが炉室2内の
対流を促進して炉室2内の温度及びガス濃度を均一化す
る。
と、炉室2内に穏やかな気流が生じ、それが炉室2内の
対流を促進して炉室2内の温度及びガス濃度を均一化す
る。
温度及びガス濃度の均一化された熱雰囲気は被加工物4
,5と接触しながら吸引孔6a、?a力方向流動し、加
工物4,5を均一な温度状態に加熱維持すると共に、熱
雰囲気中のガスは被加工物4,5と反応してゆく。
,5と接触しながら吸引孔6a、?a力方向流動し、加
工物4,5を均一な温度状態に加熱維持すると共に、熱
雰囲気中のガスは被加工物4,5と反応してゆく。
この際、被加工物5の内筒部5aにおいても、吸引塔7
bからの吸引動作により気流が坐臥熱雰囲気は内筒部5
a内で澱むことなく流動し、内筒部5aは被加工物5の
他の部分と同様に均一な加熱及びガスとの反応が行なわ
れる。
bからの吸引動作により気流が坐臥熱雰囲気は内筒部5
a内で澱むことなく流動し、内筒部5aは被加工物5の
他の部分と同様に均一な加熱及びガスとの反応が行なわ
れる。
なお、吸引孔6a、7aから吸引された熱雰囲気はエア
ーポンプ11等を通過するうちにある程度温度が低下す
るが、温度が低下した熱雰囲気は最も熱せられる傾向に
ある炉室2上部に吐出されて熱交換し、更にヒーター3
によって加熱されるので、吸引孔6a、?aに再度吸引
される頃、即ち被加工物4.5と接触する頃には所定の
温度に上昇している。
ーポンプ11等を通過するうちにある程度温度が低下す
るが、温度が低下した熱雰囲気は最も熱せられる傾向に
ある炉室2上部に吐出されて熱交換し、更にヒーター3
によって加熱されるので、吸引孔6a、?aに再度吸引
される頃、即ち被加工物4.5と接触する頃には所定の
温度に上昇している。
なお、上述の実施例は、設置治具6,7に吸引孔6a、
?aを形威した場合について述べたが、吸引孔は治具6
,7だけに限らず炉室2内の適宜な位置に形威し、炉室
2内がより均一な温度及びガス濃度分布になるようにす
ることも可能であり、更に必要に応じて熱雰囲気を炉室
2内に吐出する吐出孔を炉室2上部だけでなく適宜な個
所に配置してもよいことは勿論である。
?aを形威した場合について述べたが、吸引孔は治具6
,7だけに限らず炉室2内の適宜な位置に形威し、炉室
2内がより均一な温度及びガス濃度分布になるようにす
ることも可能であり、更に必要に応じて熱雰囲気を炉室
2内に吐出する吐出孔を炉室2上部だけでなく適宜な個
所に配置してもよいことは勿論である。
しかし、吐出孔を被加工物4,5の周辺に設けた場合に
は、吐出孔から吐出される熱雰囲気は部分的に急激な気
流を生じさせるので、熱雰囲気中に反応性ガスを用いた
場合には局部的なガス濃度の不均一を生じ易く、また、
エアーポンプ11等を経由することにより温度の低下し
た熱雰囲気が被加工物4,5に吹き付けられて被加工物
4,5の熱処理に悪影響が出る場合もあるので注意を要
する。
は、吐出孔から吐出される熱雰囲気は部分的に急激な気
流を生じさせるので、熱雰囲気中に反応性ガスを用いた
場合には局部的なガス濃度の不均一を生じ易く、また、
エアーポンプ11等を経由することにより温度の低下し
た熱雰囲気が被加工物4,5に吹き付けられて被加工物
4,5の熱処理に悪影響が出る場合もあるので注意を要
する。
更に、被加工物が複雑な形状を有する場合や、小さなも
のであっても、吸引孔を適宜設置することにより、熱雰
囲気が澱むことを防止し、均一な温度分布、ガス濃度分
布を得ることができる。
のであっても、吸引孔を適宜設置することにより、熱雰
囲気が澱むことを防止し、均一な温度分布、ガス濃度分
布を得ることができる。
また、上述の実施例は、水素ガス等の反応性ガスを注入
した熱雰囲気を用いた場合について述べたが、熱雰囲気
として反応性ガスを用いずに通常の空気を用いて熱処理
を行なうことも当然可能である。
した熱雰囲気を用いた場合について述べたが、熱雰囲気
として反応性ガスを用いずに通常の空気を用いて熱処理
を行なうことも当然可能である。
以上説明したように、本考案によれば、炉室2内に複数
の吸引孔6a、7aを適宜形成腰該吸引孔6a、7aを
介して炉室2内の熱雰囲気を吸入循環させるようにした
ので、熱雰囲気が炉室2内で澱むことなく流動し、炉室
2内の温度分布を均一化させることができ、被加工物の
形状、大きさに拘わりなく良好な熱処理を行なうことが
できる。
の吸引孔6a、7aを適宜形成腰該吸引孔6a、7aを
介して炉室2内の熱雰囲気を吸入循環させるようにした
ので、熱雰囲気が炉室2内で澱むことなく流動し、炉室
2内の温度分布を均一化させることができ、被加工物の
形状、大きさに拘わりなく良好な熱処理を行なうことが
できる。
また、熱処理を行なうことができる。また、熱処理を行
なうことができる。
なうことができる。
また、熱処理時に、反応性ガスを用いた場合でも、ガス
濃度を均一化させることができるので、適切な熱処理が
可能となる。
濃度を均一化させることができるので、適切な熱処理が
可能となる。
第1図は本考案による熱処理炉の一実施例を示す概略図
、第2図は吸引塔の拡大斜視図である。 1・・・・・・熱処理炉、2・・・・・・炉室、3・・
・・・・ヒーター6a、7a・・・・・・吸引孔、11
・・・・・・吸引手段(エアーポンプ)。
、第2図は吸引塔の拡大斜視図である。 1・・・・・・熱処理炉、2・・・・・・炉室、3・・
・・・・ヒーター6a、7a・・・・・・吸引孔、11
・・・・・・吸引手段(エアーポンプ)。
Claims (1)
- 炉室及び炉室を加熱するためのヒーターを有する熱処理
炉において、前記炉室内の被熱処理物品の配置個所の近
傍に吸引手段に接続された吸引孔を複数個形威し、前記
吸引孔を介して炉室内の熱雰囲気を吸入循環させ得るよ
うに構成した熱処理炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10786180U JPS6021383Y2 (ja) | 1980-07-30 | 1980-07-30 | 熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10786180U JPS6021383Y2 (ja) | 1980-07-30 | 1980-07-30 | 熱処理炉 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5734564U JPS5734564U (ja) | 1982-02-23 |
JPS6021383Y2 true JPS6021383Y2 (ja) | 1985-06-26 |
Family
ID=29469143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10786180U Expired JPS6021383Y2 (ja) | 1980-07-30 | 1980-07-30 | 熱処理炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6021383Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH086029Y2 (ja) * | 1989-07-27 | 1996-02-21 | 金井 宏之 | コイル状金属線用真空熱処理炉 |
-
1980
- 1980-07-30 JP JP10786180U patent/JPS6021383Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5734564U (ja) | 1982-02-23 |
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