JPS60209550A - スメクテイツクａ相を有する有機化合物、該化合物を含有する混合物およびその製造方法 - Google Patents
スメクテイツクａ相を有する有機化合物、該化合物を含有する混合物およびその製造方法Info
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- JPS60209550A JPS60209550A JP60052146A JP5214685A JPS60209550A JP S60209550 A JPS60209550 A JP S60209550A JP 60052146 A JP60052146 A JP 60052146A JP 5214685 A JP5214685 A JP 5214685A JP S60209550 A JPS60209550 A JP S60209550A
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- C07C57/76—Acyl halides containing halogen outside the carbonyl halide groups
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はスメクティックＡ型のメソフェーズおよび場合
によってはネマティックなメソフェーズを有する１−（
４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−）リフロロメ
チルフェニル）−エタンエステル型の一群の有機化合物
に関する。本発明はまた、該エステルと、該エステルと
同様のスメクティックＡ相を有する化合物から成る混合
物に関し、更に、該エステルの製造方法に関する。
によってはネマティックなメソフェーズを有する１−（
４−ヒドロキシフェニル）−２−（４’−）リフロロメ
チルフェニル）−エタンエステル型の一群の有機化合物
に関する。本発明はまた、該エステルと、該エステルと
同様のスメクティックＡ相を有する化合物から成る混合
物に関し、更に、該エステルの製造方法に関する。
本発明の化合物は、スメクティックへ液晶と混合すると
、該化合物のスメクティック相の温度範囲を広げる性質
を有している。このような性質は、かかる混合物を表示
手段として使用する場合に温度範囲を上下の両方向に広
げることとなって有利である。
、該化合物のスメクティック相の温度範囲を広げる性質
を有している。このような性質は、かかる混合物を表示
手段として使用する場合に温度範囲を上下の両方向に広
げることとなって有利である。
本発明の化合物は次に示す一般式（１）で示されＦ Ｆ
ただし式（Ｉ）においてｎは１ノ以上１５以下の整数を
表わす。
表わす。
上記一般式で示される化合物は、１−（４−アルキルオ
テシフロロペンゾイルオキシフェニル）−１２＝ｃ４′
−＋−リフロロメチルフェニル）−エタンの名称で定義
することができる。
テシフロロペンゾイルオキシフェニル）−１２＝ｃ４′
−＋−リフロロメチルフェニル）−エタンの名称で定義
することができる。
従って、本発明は少なくとも１つのスメクティックΔ型
の液晶相を有し、且つ次の一般式（Ｉ）で表わされる有
機化合物に関する。
の液晶相を有し、且つ次の一般式（Ｉ）で表わされる有
機化合物に関する。
Ｆ、 Ｆ
Ｆ Ｆ
ただし式（Ｉ）中ｎは１以上１５以下の整数を表わす。
本発明はまた、少なくとも１種の上記化合物を含み、少
なくとも１つのスメクティックＡ相を有する液晶の混合
物に関する。
なくとも１つのスメクティックＡ相を有する液晶の混合
物に関する。
更ｉこ、本発明は前述した型の有機化合物の製法に関し
、即ぢ、式 Ｆ Ｆ Ｆ 、Ｆ で表わされる酸クロリドと式 で表わされるフェノールとを周囲温度でピリジン中で反
応させることによって該化合物を製造する方法に関する
。
、即ぢ、式 Ｆ Ｆ Ｆ 、Ｆ で表わされる酸クロリドと式 で表わされるフェノールとを周囲温度でピリジン中で反
応させることによって該化合物を製造する方法に関する
。
以下に、本発明による化合物の一般的合成方法および対
応する液晶の液晶性質について説明する。
応する液晶の液晶性質について説明する。
更に、本発明による化合物を他のスメクディックΔ相を
有する物質に混合して、その混合による熱的効果および
電気的効果を利用して表示（ライ苅用し、該表示おける
温度範囲を上下の両方向に広げられることを実施例によ
って明らかにする。
有する物質に混合して、その混合による熱的効果および
電気的効果を利用して表示（ライ苅用し、該表示おける
温度範囲を上下の両方向に広げられることを実施例によ
って明らかにする。
一般的合成方法
本発明による有機化合物は、４〜ブロム安息香酸、メト
キシベンゼン、ペンタフロロ安息香酸のような出発原料
から以下の反応経路に従って８工程で得ることができる
。
キシベンゼン、ペンタフロロ安息香酸のような出発原料
から以下の反応経路に従って８工程で得ることができる
。
反応１：４−ブロムフェニルアセチルクロリドの合成
上記酸クロリドは、以下の式に示すように４−ブロムフ
ェニル酢酸にチオニルクロリドを反応させることにって
得ることができる。
ェニル酢酸にチオニルクロリドを反応させることにって
得ることができる。
還流
２時間
反Ｇ２：４−（４−ブロムフェニルアセチル）−４゛−
メトキシフェニルの合成 以下の式に示すように、４−ブロムフェニルアセチルク
ロリドとメトキシベンゼンを、アルミニラｌ、クロリド
およびメチレンクロリドの存在下に５℃で反応させるこ
とにより４−（４−ブロムフェニルアセチル）−４”−
メトキシフェニルを得る（フリーデル・クラフッ反応）
。
メトキシフェニルの合成 以下の式に示すように、４−ブロムフェニルアセチルク
ロリドとメトキシベンゼンを、アルミニラｌ、クロリド
およびメチレンクロリドの存在下に５℃で反応させるこ
とにより４−（４−ブロムフェニルアセチル）−４”−
メトキシフェニルを得る（フリーデル・クラフッ反応）
。
反応３ ： １− （４−ブロムフェニル）−２−（４
’−メトキシフェニル）−エタンの合成 ４− （４−７”ロムフェニルアセチル）−４’−メト
キシフェニルをハン・ミンロンの変法によるウオルフ・
キッシュナー反応によって、即ち以下の式に示すように
ジエチレンクリコールの存在下に塩基性溶媒中でヒドラ
ジンと反応させることによって、１−（４−ブロムフェ
ニル）−１−（４’−メトキシフエニル）−エタンに還
元する。上記塩基性溶媒は、炭酸カリウムより得ること
ができる。
’−メトキシフェニル）−エタンの合成 ４− （４−７”ロムフェニルアセチル）−４’−メト
キシフェニルをハン・ミンロンの変法によるウオルフ・
キッシュナー反応によって、即ち以下の式に示すように
ジエチレンクリコールの存在下に塩基性溶媒中でヒドラ
ジンと反応させることによって、１−（４−ブロムフェ
ニル）−１−（４’−メトキシフエニル）−エタンに還
元する。上記塩基性溶媒は、炭酸カリウムより得ること
ができる。
（１−１０−ＣＨ２−ＣＩ−１２）２０反応４ ＋ １
−（４−）リフロロメチルフェニル）−２−（４°−メ
トキシフェニル）−エタンの合成 以下の式に示されるように、ジメチルホルムアミドを溶
媒きし、ヨウ化トリフロロメチルをトリフロロメチル化
剤とし、銅粉をカラプリラグ剤として使用して、オート
クレーブ中１５０℃で１−（４−ブロムフェニル）−２
−（４′〜メトキシフエニル）−エタンをトリフロロメ
チル化することによって、１．−（４−トリフロロメチ
ルフェニル）−２−（４”−メトキシフェニル）−エタ
ンを１号る。
−（４−）リフロロメチルフェニル）−２−（４°−メ
トキシフェニル）−エタンの合成 以下の式に示されるように、ジメチルホルムアミドを溶
媒きし、ヨウ化トリフロロメチルをトリフロロメチル化
剤とし、銅粉をカラプリラグ剤として使用して、オート
クレーブ中１５０℃で１−（４−ブロムフェニル）−２
−（４′〜メトキシフエニル）−エタンをトリフロロメ
チル化することによって、１．−（４−トリフロロメチ
ルフェニル）−２−（４”−メトキシフェニル）−エタ
ンを１号る。
ｌＣＦ３十
ＭＦ
１５０℃、Ｃｕ
反応５ ： １− （４−）リフロロメチルフェニル）
−２−（４°−ヒドロキシフェニル）−エタンの合成 上記フェノールは、以下の式に示すように、周囲温度中
、クロロホルムの存在下に１−（４−）リフロロメチル
フェニル）−２−（４°−メトキシフェニル）−エタン
をヨウ化トリメチルシランによって脱メチル化すること
によって得られる。
−２−（４°−ヒドロキシフェニル）−エタンの合成 上記フェノールは、以下の式に示すように、周囲温度中
、クロロホルムの存在下に１−（４−）リフロロメチル
フェニル）−２−（４°−メトキシフェニル）−エタン
をヨウ化トリメチルシランによって脱メチル化すること
によって得られる。
反応時間は約５日間である。
ＣＨＣｌ ３
＋ ｒ ｓ １（ＣＨ３）３
反応６：４−アルキルオキシフロロ安息香酸の合成以下
の式に示すようにナトリウムアルコキシドとペンタフロ
ロ安息香酸ナトリウムとを、対応するアルコールを溶媒
とし−ご反応させ、次いで該反応の終了点で反応混合物
を酸化することによって、４＝アルコキシ７０口安息香
酸を１工程で合成することができる。上記の反応は６０
℃で起こり、４８時間続く。
の式に示すようにナトリウムアルコキシドとペンタフロ
ロ安息香酸ナトリウムとを、対応するアルコールを溶媒
とし−ご反応させ、次いで該反応の終了点で反応混合物
を酸化することによって、４＝アルコキシ７０口安息香
酸を１工程で合成することができる。上記の反応は６０
℃で起こり、４８時間続く。
Ｆ ｌ”
Ｆ Ｆ
６０℃、４８時間、その後１−１ ”
Ｆ、Ｆ
反ｉ７：４’−ｙルコキシフ口口ペンゾイルクロリドの
合成 上記酸クロリドは以下の式に示すように、４−アルコキ
シフロロ安息香酸にチオニルクロリドを反応させて得る
ことができる。
合成 上記酸クロリドは以下の式に示すように、４−アルコキ
シフロロ安息香酸にチオニルクロリドを反応させて得る
ことができる。
Ｆ Ｆ
Ｆ Ｆ
＋５ＯＣ１２
Ｆ Ｆ
反応８：（４−アルコキシフロロベンゾイルオキシフェ
ニル）−２−（４’ −）リフロロメチルフェニル）−
エタンの合成 上記エステル類の合成は、以下の式に示すように、反応
７で得られた酸りＤ ＩＪド：Ｆ Ｆ Ｆ、 Ｆ と、反応５で得られたフェノール： とから１工程で達成できる。反応８はピリジン中、周囲
温度で行う。
ニル）−２−（４’ −）リフロロメチルフェニル）−
エタンの合成 上記エステル類の合成は、以下の式に示すように、反応
７で得られた酸りＤ ＩＪド：Ｆ Ｆ Ｆ、 Ｆ と、反応５で得られたフェノール： とから１工程で達成できる。反応８はピリジン中、周囲
温度で行う。
Ｆ Ｆ
Ｆ Ｆ
Ｆ 、Ｆ
上記の工程において、反応１．２．３．７およθ８は慣
用の反応である。反応６は、公知の操作方法〔バートン
、ホリーヘッド、タトロウ（Ｂｕｒｄｏｎ。
用の反応である。反応６は、公知の操作方法〔バートン
、ホリーヘッド、タトロウ（Ｂｕｒｄｏｎ。
１１ｏ１１ｙｈｅａｄ、 Ｔａｔｌｏｗ） ；ジャーナ
ル オブ ザ ケミカル ソサエティー（Ｊｏｕｒｎａ
ｌ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｃａ１３ｏｃｉｅｔｙ）
、第６３３６頁、 １９６５年〕を利用したものである
が、同一出願人によるフランス特許出願第８．２２２０
７４号で開示された内容に従って変形した。
ル オブ ザ ケミカル ソサエティー（Ｊｏｕｒｎａ
ｌ ｏｆ ｔｈｅ Ｃｈｅｍｉｃａ１３ｏｃｉｅｔｙ）
、第６３３６頁、 １９６５年〕を利用したものである
が、同一出願人によるフランス特許出願第８．２２２０
７４号で開示された内容に従って変形した。
この変形の目的は反応収率を増加することにある。
反応４および５は公知の操作方法に基づいており、即ち
、夫々コハヤスキ、コマダキ、ザト、ハラ。
、夫々コハヤスキ、コマダキ、ザト、ハラ。
チハミ（Ｋｏｂａｙａｓｋｉ、 Ｋｏｍａｄａｋｉ、
５ａｔｏ、 １ｌａｒａ、 ［’：ｔ＋ｉｈａｍｉ）
；ケミストリー アンド ファーマシ−ビ、レタン（Ｃ
ｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈａｒｍａｃｙ Ｂｕｌ
’１ｃＬｉｎ）第１８巻。
５ａｔｏ、 １ｌａｒａ、 ［’：ｔ＋ｉｈａｍｉ）
；ケミストリー アンド ファーマシ−ビ、レタン（Ｃ
ｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｐｈａｒｍａｃｙ Ｂｕｌ
’１ｃＬｉｎ）第１８巻。
第１１号、第２３３４〜２３３９頁、１９７０年および
ヤン、リスク−（Ｙａｎｇ、 Ｌｙｓｔｅｒ） ； シ
ャー−）−ル＞ブ スーガニツク ケミストリー （Ｊ
ｏｕｒｎａｌ ｏｆ’ Ｌ］ｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓ
ｔｒｙ ）第４２巻、第２３号、第３７６１−３７６４
ｉｊｊ。
ヤン、リスク−（Ｙａｎｇ、 Ｌｙｓｔｅｒ） ； シ
ャー−）−ル＞ブ スーガニツク ケミストリー （Ｊ
ｏｕｒｎａｌ ｏｆ’ Ｌ］ｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓ
ｔｒｙ ）第４２巻、第２３号、第３７６１−３７６４
ｉｊｊ。
１９７３年に記載の操作方法を本発明による化合物の製
造に適用した。
造に適用した。
反応４および５の操作方法は以−トの通りである。
■ 反応４におけるトリフロロメチル化Ｃｕ！Ｓｏ＜
で蒸留したジメチルポルムアミド７０ｍ１゜１−（４−
ブロムフェニル）−２−（４’−メトキシフェニル）−
エタン１２．５２ ｇ （４，４３Ｘ Ｈｌ−２ｍｏｌ
ｅ）および銅粉３０ｇをオートクレーブ用の２５０ｍ１
の反応容器に入れる。該反応容器を一４０℃に冷却し、
液化ヨウ化トリフロロメチル１００ｇを速かに加える。
で蒸留したジメチルポルムアミド７０ｍ１゜１−（４−
ブロムフェニル）−２−（４’−メトキシフェニル）−
エタン１２．５２ ｇ （４，４３Ｘ Ｈｌ−２ｍｏｌ
ｅ）および銅粉３０ｇをオートクレーブ用の２５０ｍ１
の反応容器に入れる。該反応容器を一４０℃に冷却し、
液化ヨウ化トリフロロメチル１００ｇを速かに加える。
該反応容器を周囲温度に戻した後、オートクレーブのオ
ーブン中に入れ、１５０℃で加熱する。
ーブン中に入れ、１５０℃で加熱する。
攪拌しながら、該温度で２０時間反応を継続する。
冷却した反応物を４００ｍ１の水中に注ぐ。銅の錯塩を
フリットガラスＮｏ、 ４で濾過して除く。不溶分画を
クロロホルムで洗浄する。しかる後、濾液を分液ロート
に入れて、水層を除く。有機層を水で洗浄し、その後、
ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過して減圧下で蒸留乾燥する。
フリットガラスＮｏ、 ４で濾過して除く。不溶分画を
クロロホルムで洗浄する。しかる後、濾液を分液ロート
に入れて、水層を除く。有機層を水で洗浄し、その後、
ＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過して減圧下で蒸留乾燥する。
栗色の油状物が得られるので、残留のジメチルホルムア
シドを除くために水で洗浄する。得られる沈殿物をヘキ
サンに溶解する。濾液を蒸留し乾燥すると、着色反応物
１２ｇを得る。
シドを除くために水で洗浄する。得られる沈殿物をヘキ
サンに溶解する。濾液を蒸留し乾燥すると、着色反応物
１２ｇを得る。
上記の粗反応物をシリカの液体クロマトグラフィ〜でヘ
キサンを溶離液として用いて精廁し、次いでエタノール
で再結晶する。かくして、融点８０℃の１−（４−）リ
フロロメチルフェニル）−２−（４″−メトキシフェニ
ル）−エタン２．５ｇヲ（’４る。反応収率は２１％で
ある。
キサンを溶離液として用いて精廁し、次いでエタノール
で再結晶する。かくして、融点８０℃の１−（４−）リ
フロロメチルフェニル）−２−（４″−メトキシフェニ
ル）−エタン２．５ｇヲ（’４る。反応収率は２１％で
ある。
■ 反応５における脱メチル化
１−（４−トリフロロメチルフェニル）−２−（４°−
メトキシフェニル）−エタン２．５１ｇ（８，９６ミリ
モル）と蒸留クロホルム２３ｍ１をマグネティックスタ
ーラーの付いた５０ｍ１の三角フラスコ中に入れる。そ
の後、ヨウ化トリノチルシラン２、３３ ｇ （１１，
６４ミ’Ｊモル）を速かに加える。三角フラスコに密栓
をして５日間周囲温度で反応を続ける。しかる後、エタ
ノール１３ｍ１を加えて１時間攪拌し、次いで減圧で溶
媒を留去する。
メトキシフェニル）−エタン２．５１ｇ（８，９６ミリ
モル）と蒸留クロホルム２３ｍ１をマグネティックスタ
ーラーの付いた５０ｍ１の三角フラスコ中に入れる。そ
の後、ヨウ化トリノチルシラン２、３３ ｇ （１１，
６４ミ’Ｊモル）を速かに加える。三角フラスコに密栓
をして５日間周囲温度で反応を続ける。しかる後、エタ
ノール１３ｍ１を加えて１時間攪拌し、次いで減圧で溶
媒を留去する。
粗生成物を亜硫酸水素す） ＩＪウム処理によって脱色
し、シリカの液体クロマトクラフィーでトルエンを溶離
液として精製する。融点１２ｆｉｔのフェノール１．８
９ ｇを得る。反応収率は７９．２％であった。
し、シリカの液体クロマトクラフィーでトルエンを溶離
液として精製する。融点１２ｆｉｔのフェノール１．８
９ ｇを得る。反応収率は７９．２％であった。
なお、上述した製造工程は、ｎがどのような値であって
もモル比を遵守する限り、適用することができる。
もモル比を遵守する限り、適用することができる。
第１表
第１表は、本発明による２種の化合物についてなされた
熱量的研究の結果を実施態様の形で示している。
熱量的研究の結果を実施態様の形で示している。
第１表において、文字に、ＳＡ、Ｎおよび■はそれぞれ
結晶相、スメクティックＡ相、ネマティック相および等
方性液体相を表わし、これらの文字の下のＸ印は、それ
が起こる場合の、１つの相から他の相への遷移を示す。
結晶相、スメクティックＡ相、ネマティック相および等
方性液体相を表わし、これらの文字の下のＸ印は、それ
が起こる場合の、１つの相から他の相への遷移を示す。
また、遷移温度は℃で表示した。括弧の中の値は、遷移
熱をＫｃａｌ ／ｍｏｌｅで表示したものであり、丸括
弧中の値は、単変相に対応する温度である。
熱をＫｃａｌ ／ｍｏｌｅで表示したものであり、丸括
弧中の値は、単変相に対応する温度である。
ｎが８の場合の化合物１は、８６．５℃から９０℃にス
メクティックΔ相を有し、９０℃から９１℃にネマティ
ック相を有している。また、ｎが１１の場合の化合物２
は温度を上昇していくと、８９℃で結晶相から等方性液
体相へと直接変化するが、逆に温度を徐々に下げていく
と、８９℃から６６．５℃の間でスメクティック相が現
われる、単変相の化合物である。
メクティックΔ相を有し、９０℃から９１℃にネマティ
ック相を有している。また、ｎが１１の場合の化合物２
は温度を上昇していくと、８９℃で結晶相から等方性液
体相へと直接変化するが、逆に温度を徐々に下げていく
と、８９℃から６６．５℃の間でスメクティック相が現
われる、単変相の化合物である。
メソフェーズの性質は、本発明の化合物および公知化合
物の双方について光学顕微鏡を用いた同形の研究によっ
て決定された。例えば、添付の第１図は、本発明による
化合物１と、式：で表わされ、且つに７６．４℃５Ａ９
１，５℃■という一連の相を有する、置換２−ヒドロキ
シフτルンエステル型の化合物を混和した際に得られる
等正相図を表わしている。
物の双方について光学顕微鏡を用いた同形の研究によっ
て決定された。例えば、添付の第１図は、本発明による
化合物１と、式：で表わされ、且つに７６．４℃５Ａ９
１，５℃■という一連の相を有する、置換２−ヒドロキ
シフτルンエステル型の化合物を混和した際に得られる
等正相図を表わしている。
該エステルは前記のフランス国特許出願の明細書に記載
されている。第１図において、左側の縦座標Δは本発明
による化合物１が１００％の場合に対応し、右側の縦座
標Ｂは前記のエステルが１００％の場合に対応する。
されている。第１図において、左側の縦座標Δは本発明
による化合物１が１００％の場合に対応し、右側の縦座
標Ｂは前記のエステルが１００％の場合に対応する。
スメクティックΔ相を有する液晶として本発明の化合物
を単独で使用すること、および、適用範囲を広げる目的
で他の１種若しくは複数のスメクティックΔ液晶と混合
して使用することは本発明の技術的範囲に属する。この
ように混合することによって、表示装置として有利に使
用することができる。
を単独で使用すること、および、適用範囲を広げる目的
で他の１種若しくは複数のスメクティックΔ液晶と混合
して使用することは本発明の技術的範囲に属する。この
ように混合することによって、表示装置として有利に使
用することができる。
本発明の化合物を用いて混合液晶とした際の効果を明ら
かにする目的で以下に実施例を記載するが、本発明の範
囲は、実施例によって何等制限されるものではない。
かにする目的で以下に実施例を記載するが、本発明の範
囲は、実施例によって何等制限されるものではない。
表わされる４−オクチル−４′−シアノビフェニル（化
合物Ｃ）は、次のような相遷移図を有している。
合物Ｃ）は、次のような相遷移図を有している。
２１．５℃ ３３．５℃ ４０．５℃
で表わされる４−デシル−４′−シアノビフェニル（化
合物Ｄ）は以下の相遷移図を冶し−Ｃいる。
合物Ｄ）は以下の相遷移図を冶し−Ｃいる。
４３．５℃ ５１″Ｃ
そして、化合物Ｃおよび化合物りから得られる共融混合
物は、その融点が１３℃で透明点（ｃｌａｒｉｆｉ−ｃ
ａｔｉｏｎ ｐｏｉｎ、ｔ）が４３．３℃である。即ち
、該混合物はスメクティックＡ相およびネマティック相
を有し、液晶相の温度範囲は３０．３℃である。次いで
、該混合物に１−（４−オクチルオキシ７０［コベンゾ
イルオキシフェニル）−２−（４°−篩）７０口メチル
フェニル）−エタン、即ち第１表中の化合物１を加えて
得られる、化合物Ｃ：６６％、化合物Ｄ：２２．６％お
よび化合物１：１１．４％から成る３成分系共融混合物
は、融点が１０℃で透明点が４８．６℃である。かくし
て、上記３成分系共融混合物は、スメクティックΔ相と
若干のネマティック相を有し、液晶範囲は３８，６℃に
広がった。上述した２成分系混合物に比較して、液晶範
囲が広くなり、且つ、液晶範囲の限界温度が上下の両方
向に拡大したことになる。
物は、その融点が１３℃で透明点（ｃｌａｒｉｆｉ−ｃ
ａｔｉｏｎ ｐｏｉｎ、ｔ）が４３．３℃である。即ち
、該混合物はスメクティックＡ相およびネマティック相
を有し、液晶相の温度範囲は３０．３℃である。次いで
、該混合物に１−（４−オクチルオキシ７０［コベンゾ
イルオキシフェニル）−２−（４°−篩）７０口メチル
フェニル）−エタン、即ち第１表中の化合物１を加えて
得られる、化合物Ｃ：６６％、化合物Ｄ：２２．６％お
よび化合物１：１１．４％から成る３成分系共融混合物
は、融点が１０℃で透明点が４８．６℃である。かくし
て、上記３成分系共融混合物は、スメクティックΔ相と
若干のネマティック相を有し、液晶範囲は３８，６℃に
広がった。上述した２成分系混合物に比較して、液晶範
囲が広くなり、且つ、液晶範囲の限界温度が上下の両方
向に拡大したことになる。
第１図は、本発明の化合物と、置換２−ヒドロキシフロ
レンエステル型化合物を混合した場合の等正相図を表わ
したものである。 特許出願人 トムソンーセーエスエフ 第１頁の続き ■Ｉｎｔ、Ｃ１，４識別記号 庁内整理番−Ｇ ０９
Ｋ １９／４６ ６５５６−４］＠発 明 者 ジ ル
ラ ボ フランス【ヌミール 号 ］
レンエステル型化合物を混合した場合の等正相図を表わ
したものである。 特許出願人 トムソンーセーエスエフ 第１頁の続き ■Ｉｎｔ、Ｃ１，４識別記号 庁内整理番−Ｇ ０９
Ｋ １９／４６ ６５５６−４］＠発 明 者 ジ ル
ラ ボ フランス【ヌミール 号 ］
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）以下の一般式（１）で表わされる、スメクティッ
クΔ型の液晶相を少なくとも１つ有ずろ（′Ｔ機機台合
物 Ｆ Ｆ Ｆ Ｆ ただし、一般式（１）に＄いて、ｎは１以上１５以下の
整数を表わす。 （２）ｎが８である特許請求の範囲第１項に記載の有機
化合物。 （３） ｎ′７Ｊ＜ｌｌである特許請求の範囲第１項に
記載の有機化合物。 〔４）少なくとも１種の特許請求の範囲第１項に記載の
有機化合物を含む、少なくとも１つのスメクティックΔ
相を有する液晶混合物。 （５）４−オクチル−４゛−シアノビフェニルを６６％
、４−デシル−４“−シアノビフェニルを２２．６％お
よびｎが８である」−記有機化合物を１１．４％含む特
許請求の範囲第４項に記載の混合物。 Ｆ Ｆ （式中ｎは１以上１５以下の整数を表わす）で表わされ
る酸クロリドと、式 で表わされるフェノールとをピリジン中、周囲温度で反
応させることを特徴とする一般式％式％ （式中ｎは前述の通りである）で表わされる有機化合物
の製造方法。 （７） ａ） ４− ブロムフェニル酢酸にチオニルク
ロリドを作用させることによって４Ｔブロムフエニルア
セチルクロリドを得、ｂ）フリーデル・クラフッ反応に
よって４−（４−ブロムフェニルアセチル）−４“−メ
トキシフェニルを合成し、Ｃ）得られる化合物を変形さ
れたウォルフ・キッシュナー反応で還元し、ｃｌ） ｃ
）工程で得られる化合物をオートクレーブ中１５０℃で
銅の存在下に、ヨウ化トリフロロメチルでトリフロロメ
チル化し、ｅ）得られる化合物をヨウ化トリメチルシラ
ンをメチルエーテル基の分解剤として使用して、脱メチ
ル化する工程によって上記フェノールを得ることを特徴
とする特許請求の範囲第６項に記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR8404109A FR2561250B1 (fr) | 1984-03-16 | 1984-03-16 | Compose organique presentant une phase smectique a, melange comprenant ce compose et procede de fabrication |
| FR8404109 | 1984-03-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60209550A true JPS60209550A (ja) | 1985-10-22 |
Family
ID=9302125
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60052146A Pending JPS60209550A (ja) | 1984-03-16 | 1985-03-15 | スメクテイツクａ相を有する有機化合物、該化合物を含有する混合物およびその製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4614608A (ja) |
| EP (1) | EP0157679B1 (ja) |
| JP (1) | JPS60209550A (ja) |
| DE (1) | DE3562779D1 (ja) |
| FR (1) | FR2561250B1 (ja) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0213146B1 (en) * | 1985-01-22 | 1992-03-25 | MERCK PATENT GmbH | A method for the extension of the temperature range for the smectic a phase of a base liquid crystal composition |
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| US5254747A (en) * | 1986-06-30 | 1993-10-19 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fluorine-containing chiral smectic liquid crystals |
| CA1341138C (en) * | 1986-06-30 | 2000-11-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Fluorine-containing chiral smectic liquid crystals |
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| US5213710A (en) * | 1990-09-26 | 1993-05-25 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Benzene derivatives and a liquid-crystalline medium |
| US5702637A (en) * | 1995-04-19 | 1997-12-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Liquid crystal compounds having a chiral fluorinated terminal portion |
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| US5855812A (en) * | 1997-04-11 | 1999-01-05 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Compounds and process for controlling cone tilt angle in mixtures of smectic liquid crystal compounds |
| US6309561B1 (en) | 1997-12-24 | 2001-10-30 | 3M Innovative Properties Company | Liquid crystal compounds having a chiral fluorinated terminal portion |
| CN102585838B (zh) * | 2012-01-12 | 2014-01-08 | 上海天问化学有限公司 | 一种4-[(4-烷氧基2,3,5,6-四氟苯基)乙基]苯甲酸(4-烷氧基)苯酯含氟液晶化合物 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2410037A1 (fr) * | 1977-11-24 | 1979-06-22 | Thomson Csf | Cristal liquide a formule chimique contenant un noyau diphenylethane, et dispositif utilisant un tel cristal liquide |
| FR2425469A1 (fr) * | 1978-05-08 | 1979-12-07 | Thomson Csf | Cristal liquide a grande anisotropie dielectrique negative, dont la formule chimique contient un noyau diphenylethane et dispositif electro-optique utilisant ce cristal liquide |
| DE2937911A1 (de) * | 1978-09-19 | 1980-03-27 | Daikin Ind Ltd | Fluor enthaltende phenylbenzoatverbindungen, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
| FR2439765A1 (fr) * | 1978-10-27 | 1980-05-23 | Thomson Csf | Compose organique mesomorphe dont la formule chimique derive d'un acide alcoxy-4 tetrafluorobenzoique, et dispositif a cristal liquide utilisant un tel compose |
| DE2918775A1 (de) * | 1979-05-10 | 1980-11-20 | Merck Patent Gmbh | Diketone, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als komponenten fluessigkristalliner dielektrika |
| DE3006666A1 (de) * | 1980-02-22 | 1981-09-17 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Phenylcyclohexenderivate, verfahren zu ihrer herstellung, diese enthaltende fluessigkristalline dielektrika und elektrooptisches anzeieelement |
| FR2486955A1 (fr) * | 1980-07-18 | 1982-01-22 | Thomson Csf | Cristal liquide smectique de type a presentant une anisotropie dielectrique positive |
| JPS57179134A (en) * | 1981-04-27 | 1982-11-04 | Chisso Corp | Carboxylic ester of tetrafluorophenol |
| DE3209178A1 (de) * | 1982-03-13 | 1983-09-15 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Polyhalogenaromaten |
| JPS58203942A (ja) * | 1982-05-21 | 1983-11-28 | Dainippon Ink & Chem Inc | 新規ネマチツク液晶化合物 |
| DE3364938D1 (en) * | 1982-07-28 | 1986-09-04 | Hoffmann La Roche | Tetra- and pentacyclic monoesters |
| US4550981A (en) * | 1982-09-30 | 1985-11-05 | Hoffmann-La Roche Inc. | Liquid crystalline esters and mixtures |
| GB2132192B (en) * | 1982-10-30 | 1986-01-22 | Dainippon Ink & Chemicals | Nematic liquid crystalline 3-fluro-4-cyanophenol derivatives |
| FR2538804A1 (fr) * | 1982-12-30 | 1984-07-06 | Thomson Csf | Famille de cristaux liquides presentant une phase smectique a et son procede de fabrication |
-
1984
- 1984-03-16 FR FR8404109A patent/FR2561250B1/fr not_active Expired
-
1985
- 1985-03-12 DE DE8585400476T patent/DE3562779D1/de not_active Expired
- 1985-03-12 EP EP85400476A patent/EP0157679B1/fr not_active Expired
- 1985-03-13 US US06/711,366 patent/US4614608A/en not_active Expired - Fee Related
- 1985-03-15 JP JP60052146A patent/JPS60209550A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3562779D1 (en) | 1988-06-23 |
| FR2561250B1 (fr) | 1987-03-06 |
| FR2561250A1 (fr) | 1985-09-20 |
| EP0157679A1 (fr) | 1985-10-09 |
| US4614608A (en) | 1986-09-30 |
| EP0157679B1 (fr) | 1988-05-18 |
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