JPS60202839A - ジヒドロキシベンゾフエノンの製造方法 - Google Patents
ジヒドロキシベンゾフエノンの製造方法Info
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- JPS60202839A JPS60202839A JP60036683A JP3668385A JPS60202839A JP S60202839 A JPS60202839 A JP S60202839A JP 60036683 A JP60036683 A JP 60036683A JP 3668385 A JP3668385 A JP 3668385A JP S60202839 A JPS60202839 A JP S60202839A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/008—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with tri- or tetrahalomethyl compounds
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- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/78—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives
- C07C45/81—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation
- C07C45/82—Separation; Purification; Stabilisation; Use of additives by change in the physical state, e.g. crystallisation by distillation
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はレゾルシノールおよびベンゾ、１％ （ｂｅｎ
−ｚｏｉｃ ）共反応体、特にベンゾトリハライドから
２．４−ジヒドロキシベンゾフェノンを製造スるに当り
、Ｎ−メチルピロリドンの水性反応媒質を眉い、真空蒸
留による生成物の精製を使用することを含む方法に関す
るものである。
−ｚｏｉｃ ）共反応体、特にベンゾトリハライドから
２．４−ジヒドロキシベンゾフェノンを製造スるに当り
、Ｎ−メチルピロリドンの水性反応媒質を眉い、真空蒸
留による生成物の精製を使用することを含む方法に関す
るものである。
第１の観点において、本発明の方法は粗製反応生成物の
減圧蒸留に存し、他の観点において、本発明は反応用の
溶媒媒質としてＮ−メチルピロリドンの水溶液を使用す
ることに関する。
減圧蒸留に存し、他の観点において、本発明は反応用の
溶媒媒質としてＮ−メチルピロリドンの水溶液を使用す
ることに関する。
（従来の技術）
２．４−ジヒドロキシベンゾフェノンは、これまでレゾ
ルシノールと塩化ペン、ジイルまたは安息香酸を、無水
条件下でＡｌａｔ またはＺｎ０１．の如きフリーデル
ーフラフツ触媒を存在させて反応させることにより製造
されていた。これらの方法は、生成物の収率が比較的低
かった。またこの方法は、水分吸収触媒がベンゾ系反応
体のモル当り少くとも１モルの分量で消費されるので、
有効でない。
ルシノールと塩化ペン、ジイルまたは安息香酸を、無水
条件下でＡｌａｔ またはＺｎ０１．の如きフリーデル
ーフラフツ触媒を存在させて反応させることにより製造
されていた。これらの方法は、生成物の収率が比較的低
かった。またこの方法は、水分吸収触媒がベンゾ系反応
体のモル当り少くとも１モルの分量で消費されるので、
有効でない。
このことは低収率と組み合わさって重大な廃物処理問題
を引きおこす。
を引きおこす。
（発明が解決しようとする問題点）
従来法に対する種々の改善が、生成物への転化を向上さ
せるため提案されてきた。かかる改善法の１つは、レゾ
ルシ／−ルとベンゾトリクロリドとの反応の溶媒に低級
アルコールまたは低級脂肪酸を使用り、＆に活性粘土で
脱色することを含む（米国特許第８，７６９，８４９号
）。この方法はレゾルシノール転化を改善するのには成
功したが、一般に生成物は、著しい分量の不純物、特に
赤褐色レゾルシノール−ベンゼン着色物を含有する。ま
たベンゾトリクロリドを用いる上記米国特許の方法はｐ
Ｈを約７に調整すること、固体脱色剤による処理につい
で共沸脱水および最終的晶出を含む複雑な精製および回
収工程を必要とする。粘土脱色剤を使用するにも拘らず
、粘土が著しく着色した不純物を完全に除夫することが
できないので、生成物は期待外れのものである。この改
善された方法による生成物の回収は時間を消費し、経済
的に不満足である。更に、発癌性ジオキサンのようなあ
る種溶媒の使用は、特定の取扱い整必要とし、これが処
理費用を著しく高める。
せるため提案されてきた。かかる改善法の１つは、レゾ
ルシ／−ルとベンゾトリクロリドとの反応の溶媒に低級
アルコールまたは低級脂肪酸を使用り、＆に活性粘土で
脱色することを含む（米国特許第８，７６９，８４９号
）。この方法はレゾルシノール転化を改善するのには成
功したが、一般に生成物は、著しい分量の不純物、特に
赤褐色レゾルシノール−ベンゼン着色物を含有する。ま
たベンゾトリクロリドを用いる上記米国特許の方法はｐ
Ｈを約７に調整すること、固体脱色剤による処理につい
で共沸脱水および最終的晶出を含む複雑な精製および回
収工程を必要とする。粘土脱色剤を使用するにも拘らず
、粘土が著しく着色した不純物を完全に除夫することが
できないので、生成物は期待外れのものである。この改
善された方法による生成物の回収は時間を消費し、経済
的に不満足である。更に、発癌性ジオキサンのようなあ
る種溶媒の使用は、特定の取扱い整必要とし、これが処
理費用を著しく高める。
従って本発明の目的は、上記欠点を克服せんとするにあ
る。
る。
本発明の他の目的は、２＃４−ジヒドロキシベンゾフェ
ノンを高収率で製造するための改善され、工業的に可能
な方法を提供することにある。
ノンを高収率で製造するための改善され、工業的に可能
な方法を提供することにある。
尚本発明の他の目的は、２．４−ジヒドロキシベンゾフ
ェノンを粗製反応混合物から更に精製された状態で直接
および経済的に回収する方法を提供することにある。
ェノンを粗製反応混合物から更に精製された状態で直接
および経済的に回収する方法を提供することにある。
更に本発明の目的は、アリールフェノンを任意の方法に
より製造する場合−緒に生成する従来法によっては、除
去するのが困難である不純物および着色物を精製する経
済的方法を提供することにある。
より製造する場合−緒に生成する従来法によっては、除
去するのが困難である不純物および着色物を精製する経
済的方法を提供することにある。
（問題点を解決するための手段）
本発明においては、ジヒドロキシベンゾフェノンを製造
するためレゾルシノールとベンゾ糸共反応体を反応させ
得た粗製生成物を、１６０１１１１Ｈ９を越えない圧力
下１２０℃〜約８５０°Ｃの離界温度で減圧蒸留する。
するためレゾルシノールとベンゾ糸共反応体を反応させ
得た粗製生成物を、１６０１１１１Ｈ９を越えない圧力
下１２０℃〜約８５０°Ｃの離界温度で減圧蒸留する。
特に、２．４−ジヒドロキシベンゾフェノンを製造する
ためレゾルシノールとベンゾトリハライドの反応を含む
方法に４おいて、約１０〜約９０重量％、好ましくは約
２０ル５０ 溶液を使用し、約０．００１〜６ ０ Ｗ Ｈ９の圧力
下なり、生成物中に着色体および他の不純物の存在をな
くする一方生成物への転化が少くとも９０％収率で実現
される。この方法により得られる高融点（約１４５°Ｃ
）を有する生成物が固体白色結晶として回収される。
ためレゾルシノールとベンゾトリハライドの反応を含む
方法に４おいて、約１０〜約９０重量％、好ましくは約
２０ル５０ 溶液を使用し、約０．００１〜６ ０ Ｗ Ｈ９の圧力
下なり、生成物中に着色体および他の不純物の存在をな
くする一方生成物への転化が少くとも９０％収率で実現
される。この方法により得られる高融点（約１４５°Ｃ
）を有する生成物が固体白色結晶として回収される。
２．４−ジヒドロキシベンゾフェノンまたはその誘導体
を回収するため真空蒸留を使用することにより、生成物
が固体として得られ、粗製混合物中に含まれる不純物も
固体形状である反応混合物が得られる。一般に、固体不
純物で汚染された固体生成物を含む状態で、従来の精製
は連続する晶出、液体洗浄、抽出および／または活性粘
土による処理を含む。然し本発明においては、固体を融
解し、臨界的温度および真空下で蒸留を行うことにより
、生成物に伴われる不純物は有効に且つ経済的に除去さ
れ、生成物が高純度で得られる。更に、長期間放置また
は貯蔵した際生成物の着色は発現せず、従って着色安定
性が大である。更に、生成物の減圧蒸留精製により、不
満足な結果が得られる従来法において必要とされる脱色
剤の必要性、時間を消費する抽出および再結晶工程がな
くなる。
を回収するため真空蒸留を使用することにより、生成物
が固体として得られ、粗製混合物中に含まれる不純物も
固体形状である反応混合物が得られる。一般に、固体不
純物で汚染された固体生成物を含む状態で、従来の精製
は連続する晶出、液体洗浄、抽出および／または活性粘
土による処理を含む。然し本発明においては、固体を融
解し、臨界的温度および真空下で蒸留を行うことにより
、生成物に伴われる不純物は有効に且つ経済的に除去さ
れ、生成物が高純度で得られる。更に、長期間放置また
は貯蔵した際生成物の着色は発現せず、従って着色安定
性が大である。更に、生成物の減圧蒸留精製により、不
満足な結果が得られる従来法において必要とされる脱色
剤の必要性、時間を消費する抽出および再結晶工程がな
くなる。
レゾルシノールとベンゾトリハライドの反応用のこれま
で提案されたある種溶媒に勝る本発明の他の利点は、回
収し反応帯域へ再循環するため生成物から容易に一過さ
れるＮ−メチルピロリドン水溶液を反応溶媒として使用
することである。Ｎ−メチルピロリドンまた反応におい
て固有の中和作用を示し、ジオキサン溶媒溶液から生成
するような発癌性物質による生成物の汚染を排除する。
で提案されたある種溶媒に勝る本発明の他の利点は、回
収し反応帯域へ再循環するため生成物から容易に一過さ
れるＮ−メチルピロリドン水溶液を反応溶媒として使用
することである。Ｎ−メチルピロリドンまた反応におい
て固有の中和作用を示し、ジオキサン溶媒溶液から生成
するような発癌性物質による生成物の汚染を排除する。
更に、Ｎ−メチルピロリドンはこの反応に対する良好な
溶解特性を有する。
溶解特性を有する。
本発明の一例においては、レゾルシノールをベンゾトリ
ハライド、好ましくはベンゾトリク四リドと、約り５℃
〜約１００℃の温度、大気圧を含む温和な反応条件下で
約１〜約１０時間Ｎ−メチルピロリドンの水溶液中で接
触させる。上記反応において反応帯域に導入するベンゾ
トリハライドに対するレゾ、ルシノールのモル比は変え
ることができるが、実際には約１：１のモル比またはベ
ンゾトリハライドを僅かに過剰にするのが好ましい。
ハライド、好ましくはベンゾトリク四リドと、約り５℃
〜約１００℃の温度、大気圧を含む温和な反応条件下で
約１〜約１０時間Ｎ−メチルピロリドンの水溶液中で接
触させる。上記反応において反応帯域に導入するベンゾ
トリハライドに対するレゾ、ルシノールのモル比は変え
ることができるが、実際には約１：１のモル比またはベ
ンゾトリハライドを僅かに過剰にするのが好ましい。
然し、特に過剰の反応体を再循環することが望ましい場
合には、レゾルシノール対ペンゾトリノ１ライドの比は
約１：２〜約１．５ ： １の比が許容される。
合には、レゾルシノール対ペンゾトリノ１ライドの比は
約１：２〜約１．５ ： １の比が許容される。
本発明の方法において使用されるＮ−メチル−２−ピロ
リドンの水中における濃度は、一般に約１０重量％〜約
９０重量％、好ましくは約２０重量％〜約５０重量％で
あり、反応混合物の約５重量％〜約５０重ｉｔチ、好ま
しくは１０〜８０重量％含まれる。
リドンの水中における濃度は、一般に約１０重量％〜約
９０重量％、好ましくは約２０重量％〜約５０重量％で
あり、反応混合物の約５重量％〜約５０重ｉｔチ、好ま
しくは１０〜８０重量％含まれる。
反応を行うに当っては、レゾルシノールをＮ−メチルピ
ロリドンの水溶液に溶解し、この水性混合物にかきまぜ
ながらベンゾトリハライドを漸次添加するのが有利であ
る。然し反応混合物のすべての成分を同時に導入するこ
とができ、あるいはレゾルシノールを反応帯域における
ベンゾトリハライド溶液に十分かきまぜ乍ら添加するこ
とができる。反応が完結した後、固体生成物を含む反応
混合物を冷却し、一過してＮ−メチルピロリドン水溶液
を除去する。汚染されていない一過は、所要に応じて、
反応帯域に再循環することができる。
ロリドンの水溶液に溶解し、この水性混合物にかきまぜ
ながらベンゾトリハライドを漸次添加するのが有利であ
る。然し反応混合物のすべての成分を同時に導入するこ
とができ、あるいはレゾルシノールを反応帯域における
ベンゾトリハライド溶液に十分かきまぜ乍ら添加するこ
とができる。反応が完結した後、固体生成物を含む反応
混合物を冷却し、一過してＮ−メチルピロリドン水溶液
を除去する。汚染されていない一過は、所要に応じて、
反応帯域に再循環することができる。
次いで生成した濾過ケークを水洗し、随意にトルエン、
ベンゼン、クロルベンゼン、ジク四ルメタン、シクロヘ
キサン等のような有機溶媒で洗浄して精製前に少量の有
機副生物を除去する。粗製生成物を１６０ｍＨ９を越え
ない圧力下で減圧蒸留し、生成物をその融点以上で蒸夫
する。１，２−ジヒドロキシベンゾフェノンが望ましい
生成物である場合には少くとも１５０°Ｃの温度で減圧
蒸留を行うのが好ましい。留出物を冷却すると、少くと
も９０チの全収率で白色結晶状の２，４−ジヒドロキシ
ベンゾフェノンが得られ、これは時間が経過しても着色
を示さない。
ベンゼン、クロルベンゼン、ジク四ルメタン、シクロヘ
キサン等のような有機溶媒で洗浄して精製前に少量の有
機副生物を除去する。粗製生成物を１６０ｍＨ９を越え
ない圧力下で減圧蒸留し、生成物をその融点以上で蒸夫
する。１，２−ジヒドロキシベンゾフェノンが望ましい
生成物である場合には少くとも１５０°Ｃの温度で減圧
蒸留を行うのが好ましい。留出物を冷却すると、少くと
も９０チの全収率で白色結晶状の２，４−ジヒドロキシ
ベンゾフェノンが得られ、これは時間が経過しても着色
を示さない。
本発明においては、混合物の粗製生成物を上述の如く減
圧蒸留する前に一過するかまたは反応器からの全粗製生
成物を前記臨界温度および圧力範囲の条件で直接減圧蒸
留することができる。後者の操作により生成物から全副
生物、溶媒および未反応反応体を一回の操作で分離する
ことができ、これにより純粋なジヒドロキベンゾフェノ
ンの回収が著しく簡単になる。
圧蒸留する前に一過するかまたは反応器からの全粗製生
成物を前記臨界温度および圧力範囲の条件で直接減圧蒸
留することができる。後者の操作により生成物から全副
生物、溶媒および未反応反応体を一回の操作で分離する
ことができ、これにより純粋なジヒドロキベンゾフェノ
ンの回収が著しく簡単になる。
２．４−ジヒドロキシベンゾフェノンが紫外線安定剤と
して使用されるという顕著な用途の内には、化粧品組成
物に使用されることが含まれる。また、この化合物は樹
脂状物質、重合体およびプラスチック材料を安定するの
に使用されまた他の光安定剤用の中間体として使用され
る。従って、経時安定である生成物を極めて純粋な状態
で取出すことは極めて重要であ−る。本発明の方法はこ
れ等の目標を達成し、同時に簡単になり工業的に容易な
製造方法を提供する。
して使用されるという顕著な用途の内には、化粧品組成
物に使用されることが含まれる。また、この化合物は樹
脂状物質、重合体およびプラスチック材料を安定するの
に使用されまた他の光安定剤用の中間体として使用され
る。従って、経時安定である生成物を極めて純粋な状態
で取出すことは極めて重要であ−る。本発明の方法はこ
れ等の目標を達成し、同時に簡単になり工業的に容易な
製造方法を提供する。
前記減圧蒸留精製は、特にレゾルシノールとベンゾトリ
ハライドとの反応に向けられるが、この精製法は２，４
−ジヒドロキシベンゾフェノンオヨびその置換誘導体に
対する既知合成法（例えば米国特許第８．７６９，８４
９号第２欄参照）により得られるすべての粗製生成物で
ある混合物に同様の方法で適用することができる。従っ
て、上記減圧蒸留法はレゾシノールおよびその誘導体と
ベンゾトリハライドとその誘導体との反応により得られ
た粗製生成物に対して有利に用いることができる。
ハライドとの反応に向けられるが、この精製法は２，４
−ジヒドロキシベンゾフェノンオヨびその置換誘導体に
対する既知合成法（例えば米国特許第８．７６９，８４
９号第２欄参照）により得られるすべての粗製生成物で
ある混合物に同様の方法で適用することができる。従っ
て、上記減圧蒸留法はレゾシノールおよびその誘導体と
ベンゾトリハライドとその誘導体との反応により得られ
た粗製生成物に対して有利に用いることができる。
尚これ等の反応ではすべての場合６−ヒドロキシ−〇−
フェニルー８Ｈ−キサンチンー８−オン汚染物が変量で
生成する。また本発明における減圧蒸留はレゾルシノー
ルと、塩化ベンゾイル、安息香酸、ベンゾニトリルまた
は無水７タル酸との反応により得られる粗製生成物の精
製に有利であり、この反応もまた汚染された粗製状態で
ジヒドロキシベンゾフェノンを製造するためよく知られ
ている０ （実施例） 本発明を次の実施例につき説明する。
フェニルー８Ｈ−キサンチンー８−オン汚染物が変量で
生成する。また本発明における減圧蒸留はレゾルシノー
ルと、塩化ベンゾイル、安息香酸、ベンゾニトリルまた
は無水７タル酸との反応により得られる粗製生成物の精
製に有利であり、この反応もまた汚染された粗製状態で
ジヒドロキシベンゾフェノンを製造するためよく知られ
ている０ （実施例） 本発明を次の実施例につき説明する。
実施例１
２．４−ジヒドロキシベンゾフェノンの製造Ａ７反応
８８８．５９ （８，５８モル）のレゾルシノール、６
７８ｇの水および８８８１ｎ１．のＮ−メチル・−２−
ピマリドンの入った５！ガラスフラスコを水浴中で４０
″Ｃに加熱した。この混合物にベンゾトリクロリド７６
４．７９（８，９モル）を、かきまぜ乍ら８．５時間に
亘って添加した。生成した混合物を４５〜５０℃で更に
８時間かきまぜ、然る後、室温まで冷却し、次いで一過
した。粗製生成物である黄金色ケークを４ノビ−カーに
移し、ここで５００ ｍｌの水中に入れ、再濾過した。
７８ｇの水および８８８１ｎ１．のＮ−メチル・−２−
ピマリドンの入った５！ガラスフラスコを水浴中で４０
″Ｃに加熱した。この混合物にベンゾトリクロリド７６
４．７９（８，９モル）を、かきまぜ乍ら８．５時間に
亘って添加した。生成した混合物を４５〜５０℃で更に
８時間かきまぜ、然る後、室温まで冷却し、次いで一過
した。粗製生成物である黄金色ケークを４ノビ−カーに
移し、ここで５００ ｍｌの水中に入れ、再濾過した。
生成した黄金色ケークを再び５００ ｍｌの水中に入れ
、８再濾過した。次いで一過ケークを２５０−のトルエ
ンで洗浄し、濾過し、７５〜８０℃の真空オーブン内で
一定重量が得られるまで乾燥した。７２５ｇの生成物を
０６チ収率で取出した。
、８再濾過した。次いで一過ケークを２５０−のトルエ
ンで洗浄し、濾過し、７５〜８０℃の真空オーブン内で
一定重量が得られるまで乾燥した。７２５ｇの生成物を
０６チ収率で取出した。
Ｂ、生成物の精製
上記黄金色の固形生成物の内７１ｇをクーゲルｌ：ｌ−
（Ｋｕｇｅｌｒｏｈ ）ポット中で１ｆｌＨ９の圧力下
１８０〜１８５℃で減圧蒸留して１４５〜１４６°Ｃの
融点を有する白色結晶を６５．５９得た。
（Ｋｕｇｅｌｒｏｈ ）ポット中で１ｆｌＨ９の圧力下
１８０〜１８５℃で減圧蒸留して１４５〜１４６°Ｃの
融点を有する白色結晶を６５．５９得た。
実施例２
８８８．５９ （８，５８モル）のレゾルシノール、６
７８ｇの水および８８８−のメタノ・−ルの入った５ツ
ガラスフラスコを水浴中で４０°〜４５゛Ｃに加熱した
。この混合物にベンゾトリクロリド７６４．７９ （８
，９モル）を、かきまぜ乍ら２時間に亘って添加した。
７８ｇの水および８８８−のメタノ・−ルの入った５ツ
ガラスフラスコを水浴中で４０°〜４５゛Ｃに加熱した
。この混合物にベンゾトリクロリド７６４．７９ （８
，９モル）を、かきまぜ乍ら２時間に亘って添加した。
生成した混合物を５０°Ｃで更に８時間かきまぜ、然る
後室温まで冷却し、次いで一過した。粗製生成物である
黄金色ケークを４ノビ−カーに移し、ここでケークを５
００ ｒｎｔの水に入れ、再淀過した。生成した黄金色
ケークを再び５００−の水に１時間入れ、８回浬過した
。次いで一過ケークを２５０−のトルエンで洗浄し、−
過し、７５〜８０℃の真空オープン中で一定重量が得ら
れるまで２日間乾燥した。６８２９の生成物を９０チ収
率で取出した。
後室温まで冷却し、次いで一過した。粗製生成物である
黄金色ケークを４ノビ−カーに移し、ここでケークを５
００ ｒｎｔの水に入れ、再淀過した。生成した黄金色
ケークを再び５００−の水に１時間入れ、８回浬過した
。次いで一過ケークを２５０−のトルエンで洗浄し、−
過し、７５〜８０℃の真空オープン中で一定重量が得ら
れるまで２日間乾燥した。６８２９の生成物を９０チ収
率で取出した。
上記黄金色固形生成物をクーゲルローボット中で１１＋
１１Ｈ９の圧力下１８０〜１８５℃で減圧蒸留して１４
５〜１４６℃の融点を有する白色結晶を得た０ 、実施例８ 実施例１に記載したようにレゾルシノールとベンゾトリ
クルリドの反応を繰返し行った。但し反応が完結した際
、全反応混合物を洗浄することなく１５５〜１６．５℃
で０．１ｔｓＨｇの圧力下で真空）蒸留した。再び白色
結晶生成物を得た。
１１Ｈ９の圧力下１８０〜１８５℃で減圧蒸留して１４
５〜１４６℃の融点を有する白色結晶を得た０ 、実施例８ 実施例１に記載したようにレゾルシノールとベンゾトリ
クルリドの反応を繰返し行った。但し反応が完結した際
、全反応混合物を洗浄することなく１５５〜１６．５℃
で０．１ｔｓＨｇの圧力下で真空）蒸留した。再び白色
結晶生成物を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 Ｌ レゾルシノールとベンゾ系共反応体を水性反応媒質
中で反応させ、粗製ジヒドロキシベンゾフェノン生成物
を固形物として得るジヒドロキシベンゾフェノンの製造
方法において粗製固形生成物を１２０°Ｃ〜約８５０℃
の温度で融解し、この融解した生成物を１６０１１１Ｈ
９を越えない圧力下で減圧蒸留することを特徴とするジ
ヒドロキシベンゾフェノンの製造方法。 ＆ レゾルシノールをベンゾトリハライドと反応させて
２．４−ジヒドロキシベンゾフェノンを生成し、粗製固
形生成物を約り５０℃〜約２５０℃の温度で融解し、約
０．００１ａＨｇ〜約６０１１１１Ｈりの圧力下で減圧
蒸留する特許請求の範囲第１項記載の方法。 ＆ 反応帯域からの粗製生成物を減圧蒸留する前に一過
して反応媒質から粗製固形生成物を分離する特許請求の
範囲第１項記載の方法。 ４ 反応帯域からの全混合物を直接減圧蒸留する特許請
求の範囲第１項記載の方法。 ＆ レゾルシノールをベンゾトリクルリドと反応させる
特許請求の範囲第１項記載の方法。 ａ レゾルシノールとベンゾトリハライドを水性反応媒
質中で反応させ、粗製２．４−ジヒドロキシベンゾフェ
ノン生成物を固形物として得る２、４−ジヒドロキシベ
ンゾフェノンの製造方法において、 反応を反応媒質としてＮ−メチルピルリドンの水溶液の
存在下で行うことを特徴とするジヒドロキシベンゾフェ
ノンの製造方法。 Ｉ 水溶液中のＮ−メチルビ四リドンの濃度が約１０〜
約９０重量％の範囲である特許請求の範囲第６項記載の
方法。 ＆ Ｎ−メチルビ田リドンの水溶液中の７ＩＩＩ麿が約
２０〜約５０重量％である特許請求の範囲第７項記載の
方法。 ９、Ｎ−メチルピロリドン溶液が約５〜約５０重量％の
反応混合物を含む特許請求の範囲第６項記載の方法。 １０、Ｎ−メチルピロリドン溶液が１８１０〜約８０重
量％の反応混合物を含む特許請求の範囲第９項記載の方
法。 ＩＬ 粗製固体生成物を１５０℃〜約２６０℃の温度で
融解し、融解した生成物を約０．００１ｍｍＨｇ〜約６
０ ｍ Ｈ９の圧力下で減圧蒸留する特許請求の範囲第
６項記載の方法。
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